本實(shí)用新型屬于夾層玻璃技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種超大尺寸PVB拼接夾層玻璃。

背景技術(shù)：

夾層玻璃是一種通過聚乙烯醇縮丁醛將兩層或兩層以上的玻璃拼接在一起的玻璃。通過將多層玻璃進(jìn)行拼接，當(dāng)外層玻璃受到外力破裂時(shí)，玻璃碎片粘接在玻璃上，破碎的玻璃表面仍然保持整潔光滑，有效防止了碎片扎傷和穿透墜落而可能導(dǎo)致的人員傷亡事故，大大提高了玻璃的強(qiáng)度和安全性能。

由于夾層玻璃相比于普通玻璃具有諸多方面的優(yōu)勢，因此越來越多的高端幕墻、銀行、幼兒園、博物館、采光頂采用安全系數(shù)較高的PVB夾層玻璃。

但是，目前PVB膠片供應(yīng)商能夠生產(chǎn)最大的尺寸為2440mm×6000mm，也就是說目前PVB夾層玻璃的尺寸由于受限于PVB膠片，無法實(shí)現(xiàn)大尺寸的生產(chǎn)。而在實(shí)際建筑物對夾層玻璃的需求當(dāng)中，尺寸遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于供應(yīng)商提供的材料尺寸，因此有必要開發(fā)尺寸更大的PVB夾層玻璃。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

針對目前PVB夾層玻璃大尺寸生產(chǎn)困難等問題，本實(shí)用新型實(shí)施例提供了一種超大尺寸PVB拼接夾層玻璃。

為了實(shí)現(xiàn)上述實(shí)用新型目的，本實(shí)用新型實(shí)施例的技術(shù)方案如下：

一種超大尺寸PVB拼接夾層玻璃，所述PVB拼接夾層玻璃包括第一玻璃基板、以及自所述第一玻璃基板一表面向外依次疊設(shè)的第一PVB膜層、第二PVB膜層、第二玻璃基板；

其中，所述第一PVB膜層、第二PVB膜層分別由至少兩片PVB膜按照原始邊進(jìn)行拼接而成；由所述PVB膜拼接的所述第一PVB膜層形成的第一縫隙與由所述PVB膜拼接的所述第二PVB膜層形成的第二縫隙相互錯(cuò)位；

所述第一玻璃基板與所述第一PVB膜層相接觸的表面向外依次鍍覆有第一電介質(zhì)膜層、第一阻擋膜層、低輻射膜層、第二阻擋膜層、第二電介質(zhì)膜層；

所述第二玻璃基板與所述第二PVB膜層相接觸的表面向外依次鍍覆有電介質(zhì)膜層、金屬膜層、防氧化膜層、抗劃傷膜層。

優(yōu)選地，所述超大尺寸PVB膜拼接夾層玻璃長度為6000～12000mm，寬度為2500～3300mm。

優(yōu)選地，所述第一電介質(zhì)膜層的厚度為10nm～40nm；和/或

所述第一阻擋膜層的厚度為2nm～10nm；和/或

所述低輻射膜層的厚度為2nm～10nm；和/或

所述第二阻擋膜層的厚度為2nm～10nm；和/或

所述第二電介質(zhì)膜層的厚度為10nm～40nm；和/或

所述第一PVB膜層的厚度為0.38mm～2.28mm；和/或

所述第二PVB膜層的厚度為0.38mm～2.28mm。

優(yōu)選地，所述電介質(zhì)膜層的厚度為10nm～40nm；和/或

所述金屬膜層的厚度為2nm～10nm；和/或

所述防氧化膜層的厚度為5nm～20nm；和/或

所述抗劃傷膜層的厚度為5nm～20nm。

優(yōu)選地，所述第一、第二電介質(zhì)膜層為SiZrO_x膜層、TiO₂膜層、SiO₂膜層、Ta₂O₅膜層、SiN_xO_y膜層、BiO₂膜層、Al₂O₃膜層、Nb₂O₅膜層、Si₃N₄膜層、AZO膜層中的任一種；和/或，

所述低輻射膜層為金屬銀膜層、銀的氧化物膜層中的任一種；和/或，

所述第一、第二阻擋膜層為鎳鉻膜層、氧化鎳鉻膜層、氮化鎳鉻膜層中任一種。

優(yōu)選地，所述電介質(zhì)膜層為SiZrO_x膜層、TiO₂膜層、SiO₂膜層、Ta₂O₅膜層、SiN_xO_y膜層、BiO₂膜層、Al₂O₃膜層、Nb₂O₅膜層、Si₃N₄膜層、AZO膜層中的任一種；和/或，

所述金屬膜層為金屬鉻層；和/或，

所述防氧化膜層為SiZrO_x膜層、TiO₂膜層、SiO₂膜層、Ta₂O₅膜層、SiN_xO_y膜層、BiO₂膜層、Al₂O₃膜層、Nb₂O₅膜層、Si₃N₄膜層、AZO膜層中的任一種；和/或，

所述抗劃傷膜層為SiZrO_x膜層、TiO₂膜層、SiO₂膜層、Ta₂O₅膜層、SiN_xO_y膜層、BiO₂膜層、Al₂O₃膜層、Nb₂O₅膜層、Si₃N₄膜層、AZO膜層中的任一種。

上述實(shí)施例中的超大尺寸PVB拼接夾層玻璃，采用兩層PVB膜實(shí)現(xiàn)第一、第二玻璃基板的拼接，由于每層PVB膜由至少兩片PVB膜按照原始邊進(jìn)行拼接，并且兩層的拼接縫隙相互錯(cuò)位，保障了夾層玻璃的嚴(yán)密性和強(qiáng)度，而且還將PVB夾層玻璃的尺寸擴(kuò)展到遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于2440mm×6000mm及以上。

附圖說明

下面將結(jié)合附圖及實(shí)施例對本實(shí)用新型作進(jìn)一步說明，附圖中：

圖1是本實(shí)用新型實(shí)施例中超大尺寸PVB拼接夾層玻璃的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

為了使本實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白，以下結(jié)合附圖及實(shí)施例，對本實(shí)用新型進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用以解釋本實(shí)用新型，并不用于限定本實(shí)用新型。

如圖1所示，本實(shí)用新型實(shí)例提供了一種超大尺寸PVB拼接夾層玻璃。所述超大尺寸PVB拼接夾層玻璃包括第一玻璃基板1、以及自所述第一玻璃基板1一表面向外依次疊設(shè)的第一PVB膜層2、第二PVB膜層3、第二玻璃基板4。

其中，所述第一PVB膜層2、第二PVB膜層3分別由至少兩片PVB膜按照原始邊進(jìn)行拼接而成；由所述PVB膜拼接的所述第一PVB膜層2形成的第一縫隙21與由所述PVB膜拼接的所述第二PVB膜層3形成的第二縫隙31相互錯(cuò)位。

所述第一玻璃基板1由第一玻璃基材層11與自第一玻璃基材層11表面向外依次鍍覆的第一電介質(zhì)膜層12、第一阻擋膜層13、低輻射膜層14、第二阻擋膜層15、第二電介質(zhì)膜層16構(gòu)成；所述第一PVB膜層2疊設(shè)于所述第二電介質(zhì)膜層16的表面；

所述第二玻璃基板4由第二玻璃基材層41與第二玻璃基材層11表面向外依次鍍覆的電介質(zhì)膜層42、金屬膜層43、防氧化膜層44、抗劃傷膜層45構(gòu)成；所述第二PVB膜層3疊設(shè)于所述抗劃傷膜層45的表面。

在一優(yōu)選實(shí)施例中，第一玻璃基材層11為普通白色浮法玻璃，一方面降低生產(chǎn)成本，另一方面提高生產(chǎn)效率。

在一優(yōu)選實(shí)施例中，第一電介質(zhì)膜層12的厚度為20nm～80nm。

進(jìn)一步優(yōu)選地，第一電介質(zhì)膜層12為SiZrO_x膜層、TiO₂膜層、SiO₂膜層、Ta₂O₅膜層、SiN_xO_y膜層、BiO₂膜層、Al₂O₃膜層、Nb₂O₅膜層、Si₃N₄膜層、AZO膜層中的任一種。第一電介質(zhì)膜層12能有效加強(qiáng)玻璃基材層11與第一阻擋膜層13的結(jié)合強(qiáng)度，并且能夠阻止玻璃基材11中的Na⁺向其他膜層中滲透。

優(yōu)選地，所述第一阻擋膜層13的厚度為20nm～80nm。

進(jìn)一步優(yōu)選地，第一阻擋膜層13為鎳鉻膜層、氧化鎳鉻膜層、氮化鎳鉻膜層中任一種。第一阻擋膜層13主要起到低輻射膜層14的作用，防止低輻射膜層14受損。

在一優(yōu)選實(shí)施例中，低輻射膜層14的厚度為3nm～30nm。

進(jìn)一步優(yōu)選地，低輻射膜層14為金屬銀膜層、銀的氧化物膜層中的任一種。

在任一實(shí)施例中，第二阻擋膜層15的厚度為2nm～10nm。

進(jìn)一步優(yōu)選地，第二阻擋膜層15為鎳鉻膜層、氧化鎳鉻膜層、氮化鎳鉻膜層中任一種。

優(yōu)選地，第二電介質(zhì)膜層16的厚度為20nm～40nm。

進(jìn)一步優(yōu)選地，第二電介質(zhì)膜層16為SiZrO_x膜層、TiO₂膜層、SiO₂膜層、Ta₂O₅膜層、SiN_xO_y膜層、BiO₂膜層、Al₂O₃膜層、Nb₂O₅膜層、Si₃N₄膜層、AZO膜層中的任一種。

在一優(yōu)選實(shí)施例中，第一PVB膜層2的厚度為0.38mm～2.28mm；和/或第二PVB膜層3的厚度為0.38mm～2.28mm。

優(yōu)選地，電介質(zhì)膜層42的厚度為20nm～80nm。進(jìn)一步優(yōu)選地，電介質(zhì)膜層42為SiZrO_x膜層。

優(yōu)選地，金屬膜層43的厚度為2nm～10nm。進(jìn)一步優(yōu)選地，金屬膜層43為金屬鉻層。

優(yōu)選地，防氧化膜層44的厚度為5nm～20nm。進(jìn)一步優(yōu)選地，防氧化膜層44為SiZrO_x膜層、TiO₂膜層、SiO₂膜層、Ta₂O₅膜層、SiN_xO_y膜層、BiO₂膜層、Al₂O₃膜層、Nb₂O₅膜層、Si₃N₄膜層、AZO膜層中的任一種。

優(yōu)選地，抗劃傷膜層45的厚度為5nm～20nm。進(jìn)一步優(yōu)選地，所述抗劃傷膜層45為TiO₂膜層、SiO₂膜層、Ta₂O₅膜層、BiO₂膜層、Al₂O₃膜層中的任一種。

通過上述膜層結(jié)構(gòu)及多片PVB膜拼接而成的第一PVB膜層2、第二PVB膜層3，使得超大尺寸PVB膜拼接夾層玻璃長度達(dá)到6000～12000mm，寬度達(dá)到2500～3300mm，由于每層PVB膜由至少兩片PVB膜按照原始邊進(jìn)行拼接，由PVB膜拼接而成的第一PVB膜層2的第一縫隙21，與由PVB膜拼接而成的第二PVB膜層3的第二縫隙31相互錯(cuò)位，保障了夾層玻璃的嚴(yán)密性和強(qiáng)度，突破了現(xiàn)有廠家無法達(dá)到的尺寸，從而為超大尺寸夾層玻璃的生產(chǎn)提供了依據(jù)。

相應(yīng)地，在上文所述的超大尺寸PVB拼接夾層玻璃的基礎(chǔ)上，本實(shí)用新型實(shí)施例還提供了本實(shí)用新型實(shí)施例超大尺寸PVB拼接夾層玻璃的一種制造方法。

作為本實(shí)用新型優(yōu)選實(shí)施例，該超大尺寸PVB拼接夾層玻璃的制造方法包括如下步驟：

在所述第一玻璃基板1的第二電介質(zhì)膜層16表面向外依次疊設(shè)第一PVB膜層2、第二PVB膜層3、第二玻璃基板4的步驟。

其中，所述第一PVB膜層2、第二PVB膜層3中任一兩片PVB膜之間的拼接部位留有寬度為0～0.5mm的縫隙，所述縫隙寬度不取0值，也即第一縫隙21、第二縫隙31的寬度為0～0.5mm，所述縫隙寬度不取0值；

所述第一PVB膜層2的縫隙與所述第二PVB膜層3的縫隙相互錯(cuò)位；

所述PVB膜的拼接部位按照原始邊進(jìn)行拼接；

所述第二玻璃基板4的抗劃傷膜層45與所述第二PVB膜層3相對。

具體地，在第一玻璃基板1、第二玻璃基板4表面疊設(shè)PVB膜前，先采用Benteler清洗機(jī)對普通白色浮法玻璃進(jìn)行清洗，去除第一玻璃基板1、第二玻璃基板4表面的有機(jī)污染物質(zhì)。

具體地，用于拼接的第一玻璃基板1可以直接用一表面向外依次鍍覆有第一電介質(zhì)膜層12、第一阻擋膜層13、低輻射膜層14、第二阻擋膜層15、第二電介質(zhì)膜層16的玻璃基板。也可以采用蒸鍍、磁控濺射或噴鍍中的任一種在第一玻璃基材層11一表面向外依次鍍覆第一電介質(zhì)膜層12、第一阻擋膜層13、低輻射膜層14、第二阻擋膜層15、第二電介質(zhì)膜層16。

用于拼接的第二玻璃基板4可以直接用一表面向外已經(jīng)依次鍍覆有電介質(zhì)膜層42、金屬膜層43、防氧化膜層44、抗劃傷膜層45的玻璃基板。也可以采用蒸鍍、磁控濺射或噴鍍中的任一種在第二玻璃基材層41鍍覆電介質(zhì)膜層42、金屬膜層43、防氧化膜層44、抗劃傷膜層45。

在PVB膜的拼接過程中，采用無水乙醇進(jìn)行粘接。

PVB膜拼接時(shí)，相對的兩原始邊留有0～0.5mm的縫隙(不取0值)，以利于將拼接好的玻璃置于高壓釜中時(shí)，縫隙為PVB膜熔融填充平整。

而且第一PVB膜層2、第二PVB膜層3的縫隙相互錯(cuò)開，避免第一PVB膜層的PVB膜熔化時(shí)流入第二PVB膜層的縫隙，各層的PVB膜熔融恰好對各自所在層的縫隙進(jìn)行填充，使得拼接嚴(yán)密且玻璃強(qiáng)度有保障。

本實(shí)用新型實(shí)施例超大尺寸PVB拼接夾層玻璃的制造方法工序簡單、生產(chǎn)效率高、生產(chǎn)成本低，結(jié)構(gòu)牢固、緊湊，產(chǎn)品性能滿足人們對超大尺寸PVB拼接夾層玻璃的需求。

以上所述僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已，并不用以限制本實(shí)用新型，凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進(jìn)等，均應(yīng)包括在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。