基于微金屬網(wǎng)格的電磁屏蔽罩及其制備方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種基于微金屬網(wǎng)格的電磁屏蔽罩及其制備方法，該方法包括：通過(guò)微納壓印方法，在柔性襯底上形成微金屬網(wǎng)格溝槽；將納米導(dǎo)電漿料通過(guò)刮涂方式填充到微金屬網(wǎng)格溝槽中，并燒結(jié)后形成微金屬網(wǎng)格導(dǎo)電薄層；通過(guò)電鑄沉積后在微金屬網(wǎng)格溝槽中形成的微金屬網(wǎng)格；將沉積后的微金屬網(wǎng)格從柔性襯底的微金屬網(wǎng)格溝槽中剝離出來(lái)，形成鏤空的微金屬網(wǎng)格；將鏤空的微金屬網(wǎng)格與相同尺寸的金屬薄片復(fù)合，形成復(fù)合微金屬網(wǎng)格；將復(fù)合微金屬網(wǎng)格固定于凹形模具上，通過(guò)壓延將復(fù)合微金屬網(wǎng)格獲得與凹形模具相同的形狀；分離復(fù)合微金屬網(wǎng)格，得到形狀與凹形模具相同的電磁屏蔽罩。本發(fā)明電磁屏蔽罩制作效率高，成本低、并可實(shí)現(xiàn)大批量制備。
【專利說(shuō)明】基于微金屬網(wǎng)格的電磁屏蔽罩及其制備方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及光學(xué)牽引頭電磁屏蔽【技術(shù)領(lǐng)域】，特別是涉及一種基于為金屬網(wǎng)格的電磁屏蔽罩及其制備方法。

【背景技術(shù)】
[0002]在半球形狀光學(xué)元件表面制備微金屬網(wǎng)格，可對(duì)光波長(zhǎng)透明(可見(jiàn)光到紅外光)，對(duì)電磁波(微波)波長(zhǎng)具有電磁屏蔽作用。通常，這種微金屬網(wǎng)格的電磁屏蔽罩可用于導(dǎo)彈引導(dǎo)頭的半球形光學(xué)元件的電磁屏蔽。
[0003]現(xiàn)有技術(shù)中，在在半球形表面制作微金屬網(wǎng)格的方法包括:
[0004]1、在半球表面光刻膠,通過(guò)激光直寫光刻在光刻膠上形成微網(wǎng)格圖形，再在光刻膠圖形上蒸鍍金屬層(銅等)，通過(guò)lift-off工藝(剝離工藝)，將光刻膠溶解掉，在光刻膠上的金屬銅也同時(shí)被去除，這樣，在光學(xué)介質(zhì)表面就形成了微金屬網(wǎng)格；
[0005]2、在半球面上鍍銅，再在銅表面涂布光刻膠，然后，在光刻膠上激光直寫微網(wǎng)格圖形，顯影后，再蝕刻銅，形成表面微金屬網(wǎng)格罩。
[0006]上述制備方法，均需用激光直寫系統(tǒng)在半球面上直接光刻出微網(wǎng)格圖形，這需專門設(shè)計(jì)的旋轉(zhuǎn)工件臺(tái)和激光直寫設(shè)備，以確保光斑聚焦在半球工件表面的光刻膠上?？紤]到工件臺(tái)旋轉(zhuǎn)的同軸度、旋轉(zhuǎn)角度的控制精度、以及金屬蝕刻誤差、lift-off工藝等因素，這種微金屬網(wǎng)格線寬很難小于10微米，另外，蒸鍍工藝金屬層厚度很難高于lum，其電磁屏蔽效果受到影響。從加工效率上，考慮到激光直寫的機(jī)械掃描，微網(wǎng)格圖形選用方形，使得網(wǎng)格線條的方向與掃描方向相同，由于是逐條線條直寫，當(dāng)工件尺寸大，網(wǎng)格線條多時(shí)，其加工效率很低。
[0007]因此，上述方法制備半球形金屬網(wǎng)格的精度低，成本高，難以大批量一致性制備。另外不足是，在光學(xué)元件表面多次加工，會(huì)影響光學(xué)工件的表面質(zhì)量，同時(shí)，加工其他非規(guī)則形狀工件的金屬網(wǎng)格罩，上述方法的制備難度更大。
[0008]因此，針對(duì)上述技術(shù)問(wèn)題，有必要提供一種基于微金屬網(wǎng)格的電磁屏蔽罩及其制備方法。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0009]有鑒于此，為了解決所述現(xiàn)有技術(shù)中的問(wèn)題，本發(fā)明提供了一種基于微金屬網(wǎng)格的電磁屏蔽罩及其制備方法。
[0010]為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明實(shí)施例提供的技術(shù)方案如下:
[0011]—種基于微金屬網(wǎng)格的電磁屏蔽罩的制備方法，所述方法包括:
[0012]S1、通過(guò)微納壓印方法，在柔性襯底上形成微金屬網(wǎng)格溝槽；
[0013]S2、將納米導(dǎo)電漿料通過(guò)刮涂方式填充到微金屬網(wǎng)格溝槽中，并燒結(jié)后形成微金屬網(wǎng)格導(dǎo)電薄層；
[0014]S3、通過(guò)電鑄沉積后在微金屬網(wǎng)格溝槽中形成的微金屬網(wǎng)格；
[0015]S4、將沉積后的微金屬網(wǎng)格從柔性襯底的微金屬網(wǎng)格溝槽中剝離出來(lái)，形成鏤空的微金屬網(wǎng)格；
[0016]S5、將鏤空的微金屬網(wǎng)格與相同尺寸的金屬薄片復(fù)合，形成復(fù)合微金屬網(wǎng)格；
[0017]S6、將復(fù)合微金屬網(wǎng)格固定于凹形模具上，通過(guò)壓延將復(fù)合微金屬網(wǎng)格獲得與凹形模具相同的形狀；
[0018]S7、分離復(fù)合微金屬網(wǎng)格，得到形狀與凹形模具相同的電磁屏蔽罩。
[0019]作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，所述微金屬網(wǎng)格溝槽為蜂窩形或方形。
[0020]作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，所述微金屬網(wǎng)格溝槽的線寬為5?50um，深度為8?60umo
[0021]作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，所述微金屬網(wǎng)格導(dǎo)電薄層的厚度為I?2um。
[0022]作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，所述步驟S2中的“燒結(jié)”具體為:在150°C或150°C以下低溫烘烤，去除微金屬網(wǎng)格溝槽中納米導(dǎo)電漿料中的有機(jī)溶劑，使微金屬網(wǎng)格溝槽中的納米導(dǎo)電漿料成導(dǎo)通狀態(tài)。
[0023]作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，所述步驟S3中微金屬網(wǎng)格的厚度小于或等于微金屬網(wǎng)格溝槽的深度。
[0024]作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，所述步驟S4后還包括:
[0025]將鏤空的微金屬網(wǎng)格在600°C?1000°C條件下進(jìn)行真空退火，退火時(shí)間為30min ?2h。
[0026]作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，所述步驟S6具體為:
[0027]將復(fù)合微金屬網(wǎng)格固定于凹形模具上，制備形狀與凹形模具對(duì)應(yīng)的凸形模具，通過(guò)凸形模具的壓延作用，使得復(fù)合微金屬網(wǎng)格的金屬薄片在凹形模具中逐漸延伸，獲得與凹形模具相同的形狀。
[0028]作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，所述步驟S6具體為:
[0029]將復(fù)合微金屬網(wǎng)格固定于凹形模具上，將固定了復(fù)合微金屬網(wǎng)格的凹形模具整體置于注塑機(jī)模腔中，在封閉模腔內(nèi)通過(guò)注塑機(jī)的熔融塑料流體的噴射和模腔壓力，使得復(fù)合微金屬網(wǎng)格逐步壓延變形，獲得與凹形模具相同的形狀。
[0030]作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，所述步驟S5具體為:
[0031]將鏤空的微金屬網(wǎng)格與相同尺寸的金屬薄片采用溶劑型膠層復(fù)合，形成復(fù)合微金屬網(wǎng)格。
[0032]作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，所述步驟S7具體為:
[0033]將復(fù)合微金屬網(wǎng)格置于溶劑中將膠層溶解，使鏤空的微金屬網(wǎng)格與金屬薄片分離，得到形狀與凹形模具相同的電磁屏蔽罩。
[0034]相應(yīng)地,本發(fā)明的一種基于微金屬網(wǎng)格的電磁屏蔽罩，所述電磁屏蔽罩米用上述制備方法制備得到。
[0035]本發(fā)明具有以下有益效果:
[0036]通過(guò)本發(fā)明的步驟，基于微金屬網(wǎng)格的電磁屏蔽罩制作效率高，成本低、并可實(shí)現(xiàn)大批量制備；
[0037]本發(fā)明不需要在光學(xué)工件表面直接進(jìn)行微金屬網(wǎng)格加工，只需將微金屬網(wǎng)格安裝固定即可，不影響工件表面的光學(xué)質(zhì)量；
[0038]微金屬網(wǎng)格不僅可以制備在工件的外層，同樣可以安裝在工件的內(nèi)層；
[0039]同樣的微金屬網(wǎng)格，通過(guò)壓延等工藝可形成半球形及其他適合各種光學(xué)工件形狀的電磁屏蔽罩；
[0040]本發(fā)明用于電磁屏蔽的微金屬網(wǎng)格可預(yù)制成較大尺寸，根據(jù)光學(xué)工件的大小和形狀做剪裁，再壓延成金屬網(wǎng)罩；
[0041]微金屬網(wǎng)格線寬可做到5 um,透過(guò)率可大于95% ；
[0042]可根據(jù)使用要求，可選擇不同的微金屬網(wǎng)格形狀分布和金屬類型，以符合更好的屏蔽和耐溫效果。

【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0043]為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明中記載的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0044]圖1為本發(fā)明基于微金屬網(wǎng)格的電磁屏蔽罩的制備方法的流程示意圖；
[0045]圖2a、2b分別為本發(fā)明一【具體實(shí)施方式】中電磁屏蔽罩的側(cè)視圖和俯視圖；
[0046]圖3a?3g為本發(fā)明一【具體實(shí)施方式】中電磁屏蔽罩的制備方法具體流程圖。

【具體實(shí)施方式】
[0047]以下將結(jié)合附圖所示的【具體實(shí)施方式】對(duì)本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)描述。但這些實(shí)施方式并不限制本發(fā)明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員根據(jù)這些實(shí)施方式所做出的結(jié)構(gòu)、方法、或功能上的變換均包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍內(nèi)。
[0048]參圖1所示，本發(fā)明公開了一種基于微金屬網(wǎng)格的電磁屏蔽罩及其制備方法，該制備方法包括:
[0049]S1、通過(guò)微納壓印方法，在柔性襯底上形成微金屬網(wǎng)格溝槽；
[0050]S2、將納米導(dǎo)電漿料通過(guò)刮涂方式填充到微金屬網(wǎng)格溝槽中，并燒結(jié)后形成微金屬網(wǎng)格導(dǎo)電薄層；
[0051]S3、通過(guò)電鑄沉積后在微金屬網(wǎng)格溝槽中形成的微金屬網(wǎng)格；
[0052]S4、將沉積后的微金屬網(wǎng)格從柔性襯底的微金屬網(wǎng)格溝槽中剝離出來(lái)，形成鏤空的微金屬網(wǎng)格；
[0053]S5、將鏤空的微金屬網(wǎng)格與相同尺寸的金屬薄片復(fù)合,形成復(fù)合微金屬網(wǎng)格；
[0054]S6、將復(fù)合微金屬網(wǎng)格固定于凹形模具上，通過(guò)壓延將復(fù)合微金屬網(wǎng)格獲得與凹形模具相同的形狀；
[0055]S7、分離復(fù)合微金屬網(wǎng)格，得到形狀與凹形模具相同的電磁屏蔽罩。
[0056]以下結(jié)合【具體實(shí)施方式】對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步說(shuō)明。
[0057]參圖2a、2b所示為本發(fā)明一【具體實(shí)施方式】中電磁屏蔽罩的側(cè)視圖和俯視圖，該電磁屏蔽罩的材料為銅、鎳、銀、金、鋁等優(yōu)良導(dǎo)體，電磁屏蔽罩上方為半球形設(shè)置，在其他實(shí)施方式中也可以根據(jù)光學(xué)工件的大小和形狀，設(shè)置為半橢球形、弧面形、以及其他規(guī)則或不規(guī)則的形狀。
[0058]以下結(jié)合圖3所示，對(duì)本實(shí)施方式中電磁屏蔽罩的制備方法進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。
[0059]1、如圖3a所示，通過(guò)微納壓印方法，在柔性襯底I上形成微金屬網(wǎng)格溝槽2。
[0060]通過(guò)微納壓印方法，將金屬模具的凸形微網(wǎng)格結(jié)構(gòu)壓印復(fù)制在柔性襯底上，在柔性襯底上形成微金屬網(wǎng)格溝槽,柔性襯底材料為PET、PI等耐溫薄膜。
[0061]微金屬網(wǎng)格溝槽的形狀可以是蜂窩形或方形等，根據(jù)設(shè)計(jì)需要，微金屬網(wǎng)格溝槽的線寬為5?50um,深度為8?60um。
[0062]2、如圖3b所示，將納米導(dǎo)電漿料通過(guò)刮涂方式填充到微金屬網(wǎng)格溝槽2中，并燒結(jié)后形成微金屬網(wǎng)格導(dǎo)電薄層3。
[0063]將納米導(dǎo)電漿料通過(guò)刮涂方式填充到微金屬網(wǎng)格溝槽中，溝槽外殘余導(dǎo)電漿料顆粒被清除，在150°C或150°C以下低溫烘烤，去除微金屬網(wǎng)格溝槽中納米導(dǎo)電漿料中的有機(jī)溶劑，使微金屬網(wǎng)格溝槽中的納米導(dǎo)電漿料成導(dǎo)通狀態(tài)。
[0064]本實(shí)施方式中，納米導(dǎo)電漿料優(yōu)選納米金屬導(dǎo)電漿料，導(dǎo)電漿料填充層的厚度為I?2um,有利于低溫?zé)Y(jié)。
[0065]3、如圖3c所示，通過(guò)電鑄沉積后在微金屬網(wǎng)格溝槽2中形成的微金屬網(wǎng)格4。
[0066]將上述含有微金屬網(wǎng)格的柔性襯底置于電鑄槽液中，并將微金屬網(wǎng)格連接到電鑄槽的陰極上，在陽(yáng)極為金屬(銅、鎳、銀、金、鋁等)，優(yōu)選地，選擇銅或鎳延展性好的金屬，相應(yīng)的電解液中的電解質(zhì)為硫酸銅或者氨基磺酸鎳。在陽(yáng)極和陰極加直流電壓，陽(yáng)極上的金屬通過(guò)陽(yáng)離子方式逐步沉積到陰極的溝槽中導(dǎo)電的微金屬網(wǎng)格導(dǎo)電薄層上，由于溝槽的側(cè)壁具有一定深度，因此，在溝槽導(dǎo)電層上的沉積過(guò)程是被“約束生長(zhǎng)”，其形狀與線寬與網(wǎng)格溝槽的形狀和線寬相同。通過(guò)對(duì)電鑄沉積電流大小和時(shí)間的控制微金屬網(wǎng)格厚度小于或等于溝槽深度。
[0067]4、將沉積后的微金屬網(wǎng)格從柔性襯底的微金屬網(wǎng)格溝槽中剝離出來(lái)，參圖3d所示，形成鏤空的微金屬網(wǎng)格。
[0068]進(jìn)一步地，將鏤空的微金屬網(wǎng)格在600°C?1000°C條件下進(jìn)行真空退火，退火時(shí)間為30min?2h，具體的退火時(shí)間取決于金屬成分和網(wǎng)格線寬等因素。高溫退火可以改變金屬顆粒晶相分布，有利于后繼壓延工序。
[0069]5、將鏤空的微金屬網(wǎng)格與相同尺寸的金屬薄片采用溶劑型膠層復(fù)合，形成復(fù)合微金屬網(wǎng)格。
[0070]6、如圖3e、3f所示，將復(fù)合微金屬網(wǎng)格固定于半球形的凹形模具5上，制備形狀與凹形模具對(duì)應(yīng)的半球形的凸形模具6，通過(guò)凸形模具的壓延作用，使得復(fù)合微金屬網(wǎng)格的金屬薄片在凹形模具中逐漸延伸，獲得與凹形模具相同的形狀。
[0071]其中，金屬薄片的作用是確保微金屬網(wǎng)格各部分在壓延變形時(shí)受力保持一致。在其他實(shí)施方式中，上述壓延過(guò)程中的模具形狀可以根據(jù)所需制備的電磁屏蔽罩的形狀設(shè)置為其他形狀。
[0072]在其他實(shí)施方式中，將復(fù)合微金屬網(wǎng)格固定于半球形的凹形模具上，可以不使用凸形模具進(jìn)行壓延，而是將固定了復(fù)合微金屬網(wǎng)格的凹形模具整體置于注塑機(jī)模腔(未圖示)中，在封閉模腔內(nèi)通過(guò)注塑機(jī)的熔融塑料流體的噴射和模腔壓力，使得復(fù)合微金屬網(wǎng)格逐步壓延變形，獲得與凹形模具相同的形狀。
[0073]7、將復(fù)合微金屬網(wǎng)格置于溶劑中將膠層溶解，使鏤空的微金屬網(wǎng)格與金屬薄片分離，再根據(jù)使用要求，進(jìn)行邊緣機(jī)械加工，便可形成如圖3g所示的基于微金屬網(wǎng)格的電磁屏蔽罩。
[0074]本發(fā)明通過(guò)微納壓印在柔性襯底上形成微米級(jí)的網(wǎng)格溝槽、在溝槽中填充納米導(dǎo)電材料，形成導(dǎo)電電極，用電鑄方式在溝槽內(nèi)導(dǎo)電電極上約束沉積，在溝槽中形成較厚的金屬網(wǎng)格。將金屬網(wǎng)格從襯底材料上分離，在通過(guò)高溫退火和模具壓延工序，形成異形微金屬網(wǎng)格的電磁屏蔽罩，用于光學(xué)兀件表面的電磁屏蔽，尤其適合半球形引導(dǎo)頭的電磁屏蔽罩的制備，且利用微金屬網(wǎng)格的壓延特性，還可制備適合非規(guī)則形狀的光學(xué)工件表面的微金屬網(wǎng)格的電磁屏蔽罩。
[0075]綜上所述，與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明具有以下優(yōu)點(diǎn):
[0076]通過(guò)本發(fā)明的步驟，基于微金屬網(wǎng)格的電磁屏蔽罩制作效率高，成本低、并可實(shí)現(xiàn)大批量制備；
[0077]本發(fā)明不需要在光學(xué)工件表面直接進(jìn)行微金屬網(wǎng)格加工，只需將微金屬網(wǎng)格安裝固定即可，不影響工件表面的光學(xué)質(zhì)量；
[0078]微金屬網(wǎng)格不僅可以制備在工件的外層，同樣可以安裝在工件的內(nèi)層；
[0079]同樣的微金屬網(wǎng)格，通過(guò)壓延等工藝可形成半球形及其他適合各種光學(xué)工件形狀的電磁屏蔽罩；
[0080]本發(fā)明用于電磁屏蔽的微金屬網(wǎng)格可預(yù)制成較大尺寸，根據(jù)光學(xué)工件的大小和形狀做剪裁，再壓延成金屬網(wǎng)罩；
[0081]微金屬網(wǎng)格線寬可做到5 um，透過(guò)率可大于95% ；
[0082]可根據(jù)使用要求，可選擇不同的微金屬網(wǎng)格形狀分布和金屬類型，以符合更好的屏蔽和耐溫效果。
[0083]對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員而言，顯然本發(fā)明不限于上述示范性實(shí)施例的細(xì)節(jié)，而且在不背離本發(fā)明的精神或基本特征的情況下，能夠以其他的具體形式實(shí)現(xiàn)本發(fā)明。因此，無(wú)論從哪一點(diǎn)來(lái)看，均應(yīng)將實(shí)施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本發(fā)明的范圍由所附權(quán)利要求而不是上述說(shuō)明限定，因此旨在將落在權(quán)利要求的等同要件的含義和范圍內(nèi)的所有變化囊括在本發(fā)明內(nèi)。不應(yīng)將權(quán)利要求中的任何附圖標(biāo)記視為限制所涉及的權(quán)利要求。
[0084]此外，應(yīng)當(dāng)理解，雖然本說(shuō)明書按照實(shí)施方式加以描述，但并非每個(gè)實(shí)施方式僅包含一個(gè)獨(dú)立的技術(shù)方案，說(shuō)明書的這種敘述方式僅僅是為清楚起見(jiàn)，本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)將說(shuō)明書作為一個(gè)整體，各實(shí)施例中的技術(shù)方案也可以經(jīng)適當(dāng)組合，形成本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解的其他實(shí)施方式。
【權(quán)利要求】
1.一種基于微金屬網(wǎng)格的電磁屏蔽罩的制備方法，其特征在于，所述方法包括: 51、通過(guò)微納壓印方法，在柔性襯底上形成微金屬網(wǎng)格溝槽； 52、將納米導(dǎo)電漿料通過(guò)刮涂方式填充到微金屬網(wǎng)格溝槽中，并燒結(jié)后形成微金屬網(wǎng)格導(dǎo)電薄層； 53、通過(guò)電鑄沉積后在微金屬網(wǎng)格溝槽中形成的微金屬網(wǎng)格； 54、將沉積后的微金屬網(wǎng)格從柔性襯底的微金屬網(wǎng)格溝槽中剝離出來(lái)，形成鏤空的微金屬網(wǎng)格； 55、將鏤空的微金屬網(wǎng)格與相同尺寸的金屬薄片復(fù)合,形成復(fù)合微金屬網(wǎng)格； 56、將復(fù)合微金屬網(wǎng)格固定于凹形模具上，通過(guò)壓延將復(fù)合微金屬網(wǎng)格獲得與凹形模具相同的形狀； 57、分離復(fù)合微金屬網(wǎng)格，得到形狀與凹形模具相同的電磁屏蔽罩。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述微金屬網(wǎng)格溝槽為蜂窩形或方形。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述微金屬網(wǎng)格溝槽的線寬為5?50um，深度為8?60um。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述微金屬網(wǎng)格導(dǎo)電薄層的厚度為I?2um0
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述步驟S2中的“燒結(jié)”具體為:在150°C或150°C以下低溫烘烤，去除微金屬網(wǎng)格溝槽中納米導(dǎo)電漿料中的有機(jī)溶劑，使微金屬網(wǎng)格溝槽中的納米導(dǎo)電漿料成導(dǎo)通狀態(tài)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述步驟S3中微金屬網(wǎng)格的厚度小于或等于微金屬網(wǎng)格溝槽的深度。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述步驟S4后還包括: 將鏤空的微金屬網(wǎng)格在600 V?1000 V條件下進(jìn)行真空退火，退火時(shí)間為30min?2h。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述步驟S6具體為: 將復(fù)合微金屬網(wǎng)格固定于凹形模具上，制備形狀與凹形模具對(duì)應(yīng)的凸形模具，通過(guò)凸形模具的壓延作用，使得復(fù)合微金屬網(wǎng)格的金屬薄片在凹形模具中逐漸延伸，獲得與凹形模具相同的形狀。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述步驟S6具體為: 將復(fù)合微金屬網(wǎng)格固定于凹形模具上，將固定了復(fù)合微金屬網(wǎng)格的凹形模具整體置于注塑機(jī)模腔中，在封閉模腔內(nèi)通過(guò)注塑機(jī)的熔融塑料流體的噴射和模腔壓力，使得復(fù)合微金屬網(wǎng)格逐步壓延變形，獲得與凹形模具相同的形狀。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述步驟S5具體為: 將鏤空的微金屬網(wǎng)格與相同尺寸的金屬薄片采用溶劑型膠層復(fù)合，形成復(fù)合微金屬網(wǎng)格。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其特征在于，所述步驟S7具體為: 將復(fù)合微金屬網(wǎng)格置于溶劑中將膠層溶解，使鏤空的微金屬網(wǎng)格與金屬薄片分離，得到形狀與凹形模具相同的電磁屏蔽罩。
12.一種基于微金屬網(wǎng)格的電磁屏蔽罩，其特征在于，所述電磁屏蔽罩采用權(quán)利要求1?11中任一項(xiàng)所述的制備方法制備得到。
【文檔編號(hào)】H05K9/00GK104185410SQ201410464874
【公開日】2014年12月3日 申請(qǐng)日期:2014年9月12日 優(yōu)先權(quán)日:2014年9月12日
【發(fā)明者】方宗豹, 陳林森, 周小紅, 浦東林, 朱鵬飛 申請(qǐng)人:蘇州大學(xué), 蘇州蘇大維格光電科技股份有限公司