專利名稱：一種單晶硅副爐室清理器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型屬于清理器，特別涉及一種單晶硅副爐室清理器。二、技術(shù)背景制備單晶硅的時(shí)候，清理副爐室是很重要的一環(huán)，在生產(chǎn)過程中，爐內(nèi)都會(huì)產(chǎn)生揮發(fā)物和一些雜質(zhì)附著到副爐室內(nèi)壁上，在高溫下易形成二次揮發(fā)，使拉晶的環(huán)境純度不高，容易造成拉晶環(huán)節(jié)效率低下。因此仔細(xì)清理副爐室是很重要的一環(huán)，不能小覷。單晶爐副爐室為①320mmX 2500mm的細(xì)長筒體，清理副爐室的老辦法是用一根約2.8m長的長桿，一端纏毛巾和無塵擦爐紙，然后噴無水乙醇，由人員握另一端，伸入副爐室后上下、旋轉(zhuǎn)擦拭清理，這樣的清理方式耽誤時(shí)間，影響效率，且此種方法為點(diǎn)式操作，從而使副爐室清理不徹底，影響產(chǎn)品質(zhì)量和生產(chǎn)效率。三、發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的目的是要解決現(xiàn)有技術(shù)存在的問題，提供一種能夠徹底清理單晶爐副爐室內(nèi)雜物的工具。本實(shí)用新型是這樣實(shí)現(xiàn)的:一種單晶硅副爐室清理器，其特征在于在一個(gè)略小于副爐室內(nèi)徑的圓環(huán)(I)上垂直固定一根長于副爐室的直桿(3),在直桿(3)的另一端安裝手柄保護(hù)套(4)，在圓環(huán)(I)上纏繞清潔布(2)。本實(shí)用新型是這樣工作的:在本實(shí)用新型清潔布(2)表面噴灑擦洗溶劑，手握手柄保護(hù)套(4)，使圓環(huán)(I)上的清潔布(2)緊貼副爐室內(nèi)壁，進(jìn)行往復(fù)擦拭即可。本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)是:清潔布(2)緊貼副爐室內(nèi)壁，可充分清理副爐室內(nèi)壁上的雜物，清理速度快，效率高，操作方便，實(shí)用簡單，副爐室清理徹底，提聞拉晶的環(huán)境純度、單晶娃廣品質(zhì)量和生廣效率。四
圖1為本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)示意圖。圖2為圖1右視圖圖中:1、圓環(huán) 2、清潔布3、直桿4、手柄保護(hù)套。五具體實(shí)施方式
實(shí)施例1:一種單晶硅副爐室清理器，在一個(gè)略小于副爐室內(nèi)徑的圓環(huán)(I)上垂直固定一根長于副爐室的直桿(3)，在直桿(3)的另一端安裝手柄保護(hù)套(4)，在圓環(huán)(I)上纏繞清潔布(2)。
權(quán)利要求1.一種單晶硅副爐室清理器，其特征在于在一個(gè)略小于副爐室內(nèi)徑的圓環(huán)(I)上垂直固定一根長于副爐室的直桿(3)，在直桿(3)的另一端安裝手柄保護(hù)套(4)，在圓環(huán)(I)上纏繞清潔布(2)。
專利摘要本實(shí)用新型屬于清理器，特別涉及一種單晶硅副爐室清理器。本實(shí)用新型特征在于在一個(gè)略小于副爐室內(nèi)徑的圓環(huán)(1)上垂直固定一根長于副爐室的直桿(3)，在直桿(3)的另一端安裝手柄保護(hù)套(4)，在圓環(huán)(1)上纏繞清潔布(2)。本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)是清潔布(2)緊貼副爐室內(nèi)壁，可充分清理副爐室內(nèi)壁上的雜物，清理速度快，效率高，操作方便，實(shí)用簡單，副爐室清理徹底，提高拉晶的環(huán)境純度、單晶硅產(chǎn)品質(zhì)量和生產(chǎn)效率。
文檔編號(hào)C30B29/06GK202925150SQ20122057044
公開日2013年5月8日 申請日期2012年11月1日 優(yōu)先權(quán)日2012年11月1日
發(fā)明者閆衛(wèi)東, 李櫟 申請人:陽光能源(青海)有限公司