專利名稱：有機膜的燒制裝置以及具有由該裝置燒制的有機膜的有機元件的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及對由涂敷法形成的有機膜進行燒制的裝置以及具有由該裝置燒制的有機膜的有機元件。
背景技術(shù)：
以往，作為具有有機層的有機元件，已知有有機EL元件(有機電致發(fā)光元件)及有機太陽能電池。有機EL元件是通過施加電壓而向有機層注入電子和空穴(空子)、使注入到有機層中的電子與空穴再結(jié)合、在該再結(jié)合時使有機層中的發(fā)光物質(zhì)發(fā)光的發(fā)光元件。有機太陽能電池是通過對有機層照射光而產(chǎn)生空穴和電子、將電カ向外部取出的受光元件。這些有機元件在透光性的基板上依次形成透明電極、多個有機層、及陰極層。在有機元件的形成中，將透明電極通過濺鍍法等形成，將透明電極以外的層利用全部通過蒸鍍法形成的方法、通過涂敷法及蒸鍍法的兩方法形成的方法、全部通過涂敷法形成的方法中的某種方法形成。已知有將有機層中的空穴注入層用涂敷法形成在透明電極上、在該空穴注入層之上用蒸鍍法形成有其他層的有機EL元件(例如，參照專利文獻I)。這樣形成的有機EL元件由于空穴注入層被平坦地涂敷、其他層被蒸鍍到平坦的空穴注入層之上而平坦地形成，所以發(fā)光量被均勻化，防止因電流集中到一部分而造成的耐久性的下降。在有機太陽能電池的形成中也同樣，希望將至少I層的有機層用涂敷法形成。另外，有機EL元件如果在暴露于大氣中的狀態(tài)下放置，則通過大氣中的水分而劣化，例如發(fā)生稱作暗斑(dark spot)的非發(fā)光區(qū)域，它隨著時間的經(jīng)過而擴大。為了防止這樣的因水分造成的劣化，已知有將透明電極、有機層及陰極層用密封層密封的有機EL元件(例如，參照專利文獻2 )。對具有密封層的有機EL元件而言，形成密封層時的密封層內(nèi)的水分濃度管理是重要的，已知有使水分的管理濃度為IOppm以下的有機EL元件(例如，參照專利文獻3)。形成密封層后的防止向密封層內(nèi)的水分的侵入也是非常重要的，已知形成密封層物質(zhì)及密封層時的氣體環(huán)境(日本語雰囲気)的水分濃度管理也應(yīng)以極微量進行管理。此外，在有機太陽能電池中，也需要防止因水分造成的劣化(例如，參照專利文獻4)。但是，在有機元件中，將有機層用涂敷法形成、和防止因水分造成的劣化不容易兼顧。例如，如果涂敷液的溶劑是含有水的物質(zhì)，則其水向有機層侵入。即使溶劑不是含有水的物質(zhì)，也有在涂敷中吸收氣體環(huán)境中的水分的可能性。通過涂敷法形成的有機膜被減壓干燥或加熱干燥，在基板上成為固體膜的有機層。該有機層在剛剛干燥后，膜中的水分極少，但之后有在向下個エ序進行前侵入微量的水分的可能性。例如，氣體環(huán)境中的水分附著到有機層上而侵入。侵入了水分的有機層在進一歩形成了上層的情況下，水分的除去變得非常困難。此外，侵入了水分的有機層如果被照射能量高的光，則發(fā)生光氧化反應(yīng)而劣化?，F(xiàn)有技術(shù)文獻專利文獻專利文獻I :國際申請W02003/053109說明書
專利文獻2 日本特開2002 — 50470號公報專利文獻3 :日本特開平9 一 35868號公報專利文獻4 :日本特開2009 — 099805號公報

發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明概要發(fā)明要解決的技術(shù)問題本發(fā)明是解決上述問題的，目的是提供一種對通過涂敷法形成的有機膜進行燒制的裝置；以及在具有由該裝置燒制的有機膜的有機元件中防止水分向有機膜的侵入、防止因水分造成的有機元件的劣化、高品質(zhì)而沒有缺陷的有機元件。
用于解決技術(shù)問題的手段為了達到上述目的，本發(fā)明是一種對作為有機EL元件或有機太陽能電池的有機元件具有的通過涂敷法形成的有機膜進行燒制的裝置，具備投入部，用來投入形成有有機膜的基板；燒制部，將上述基板上的有機膜所含有的溶劑加熱除去，來對該有機膜進行燒制；取出部，用來從上述燒制部將上述基板取出；上述投入部、燒制部及取出部的各自的內(nèi)部被作為氣體環(huán)境劃分。本發(fā)明在上述有機膜的燒制裝置中，優(yōu)選的是，上述燒制部具有多個燒制有機膜的處理空間；各個上述處理空間被作為氣體環(huán)境劃分。本發(fā)明在上述有機膜的燒制裝置中，優(yōu)選的是，在上述取出部的后級具備向燒制后的有機膜上蒸鍍別的膜的蒸鍍裝置，從上述取出部向上述蒸鍍裝置將基板在80°C以上的狀態(tài)下搬送。本發(fā)明在上述有機膜的燒制裝置中，優(yōu)選的是，當從上述取出部將基板搬出時，上述基板與熱容比該基板大的保溫板密接。本發(fā)明在上述有機膜的燒制裝置中，優(yōu)選的是，從上述取出部向上述蒸鍍裝置將基板在相対濕度10%以下的氣體環(huán)境中搬送。本發(fā)明在上述有機膜的燒制裝置中，優(yōu)選的是，上述燒制部以將內(nèi)部減壓的方式構(gòu)成，來對上述有機膜進行干燥。本發(fā)明在上述有機膜的燒制裝置中，優(yōu)選的是，上述取出部兼作為上述蒸鍍裝置具有的加載鎖定室。本發(fā)明在上述有機膜的燒制裝置中，優(yōu)選的是，具備通過透射分光或反射分光來測量燒制后的上述有機膜的光學常數(shù)的分光測量器。本發(fā)明在上述有機膜的燒制裝置中，優(yōu)選的是，上述投入部、燒制部及取出部的內(nèi)部被遮光，以使紫外光及波長比規(guī)定的波長短的可視光不被照射到上述有機膜。本發(fā)明是ー種具有通過上述有機膜的燒制裝置燒制得到的有機膜的有機元件。發(fā)明效果根據(jù)本發(fā)明，由于通過涂敷法形成的有機膜的燒制在與燒制前的有機膜不同的氣體環(huán)境劃分中進行，所以能夠防止溶劑成分從燒制前的有機膜侵入。此外，由于燒制后的有機膜被取出到與燒制前及燒制中的有機膜不同的氣體環(huán)境劃分中，所以能夠防止溶劑成分從燒制前及燒制中的有機膜侵入。因而，即使在溶劑成分中含有水分，也能夠防止水分向燒制后的有機膜侵入，能夠提供高品質(zhì)、沒有缺陷的有機膜。


圖I是具有由有關(guān)本發(fā)明的第I實施方式的燒制裝置燒制的有機層的有機EL元件的剖視圖。圖2是具有由該裝置燒制的有機層的有機太陽能電池的剖視圖。圖3是對該裝置的內(nèi)部進行透視的俯視圖。圖4是該裝置的燒制部的剖視圖。圖5是對有關(guān)本發(fā)明的第2實施方式的燒制裝置的內(nèi)部進行透視的俯視圖。
圖6是該裝置的燒制部的剖視圖。圖7是對有關(guān)本發(fā)明的第3實施方式的燒制裝置的內(nèi)部進行透視的俯視圖。
具體實施例方式(第I實施方式)有關(guān)本發(fā)明的第I實施方式的燒制裝置是對有機元件具有的由涂敷法形成的有機膜進行燒制的裝置。有機元件的制造エ序具有在基板上涂敷有機膜的エ序、對涂敷的有機膜進行燒制的エ序、和在燒制的有機膜上蒸鍍別的膜的エ序。本實施方式的燒制裝置是在其中的、燒制有機膜的エ序中使用的。首先對有機元件進行說明。有機元件是有機EL元件或有機太陽能電池。圖I表示有機EL元件I的結(jié)構(gòu)。有機EL元件I具有透光性基板11、形成在其上的由透明導(dǎo)電層構(gòu)成的透明電極12、作為對置電極的陰極層13、和兩電極間的有機層14。有機層14至少具有有機發(fā)光層14c，例如具有多個層14a、14b、14c。有機EL元件I是底部發(fā)光型的元件，有機發(fā)光層14c的發(fā)光透過透明電極12和透光性基板11而射出。透光性基板11是透明的玻璃板或塑料板等。透明電極12是用來向有機層14注入空穴的透明導(dǎo)電層，例如是形成為層厚150nm的IT0(銦錫氧化物)。有機層14例如將空穴注入層14a、空穴輸送層14b、有機發(fā)光層14c依次層疊到透明電極12上而成?？昭ㄗ⑷雽?4a例如是形成為層厚30nm的PEDOT — PSS (3,4 一こ撐ニ氧噻吩的聚合物與苯こ烯磺酸的聚合物的復(fù)合體)?？昭ㄝ斔蛯?4b例如是形成為層厚30nm的NPD(ニー萘基ー苯氨基ー聯(lián)苯)。有機發(fā)光層14c例如是形成為層厚60nm的Alq (輕基喹啉招絡(luò)合物)。陰極層13是用來向有機層14注入電子的金屬電極，例如是LiF (I)/Al (80)(鋁與氟化鋰的混合物)。有機EL元件I也可以在有機發(fā)光層14c與陰極層13之間具有電子輸送層。此外，有機EL元件I也可以是頂部發(fā)光型的元件。有機層14其中的至少I層是通過涂敷法形成的涂敷層。在涂敷法中，涂敷的有機膜由燒制裝置燒制，成為有機層14內(nèi)的層。例如，空穴注入層14a是將在水類溶劑中分散有PEDOT — PSS (3,4 一こ撐ニ氧噻吩的聚合物與苯こ烯磺酸的聚合物的復(fù)合體)的涂敷液涂敷到透明電極12上、用燒制裝置燒制、形成為層厚30nm的。在作為涂敷層的空穴注入層14a之上，蒸鍍有空穴輸送層14b、有機發(fā)光層14c及陰極層13。也可以將有機EL元件I做成具有多個有機發(fā)光層的多光子型元件、將I層或多層的有機發(fā)光層做成涂敷層。在涂敷法的涂敷エ藝中，可以使用旋涂法、噴墨法、噴涂法、凸版印刷法、蓋涂層法、狹縫涂層法等。圖2表示有機太陽能電池2的結(jié)構(gòu)。有機太陽能電池2具有透光性基板21、形成在其上的由透明導(dǎo)電層構(gòu)成的透明電極22、作為對置電極的陰極層23、和兩電極間的有機層24。有機層24具有至少包括發(fā)電層24b的多個層，例如將導(dǎo)電性高分子層24a、發(fā)電層24b依次層疊到透明電極22上而成。透明電極22例如是形成為層厚150nm的ITO。導(dǎo)電性高分子層24a例如是形成為層厚30nm的PEDOT — PSS0發(fā)電層24b例如是形成為層厚130nm 的 MEH — OPV5+C60 混合層。MEH — 0PV5 是(E，E, E, E) — 1，4 —雙[(4 —苯こ烯基)苯こ烯基]一 2 —甲氧基ー 5 —(2’ —こ基己氧基)苯。陰極層23例如是形成為80nm的Al。在有機太陽能電池2中，入射到透光性基板21的光到達發(fā)電層24b，在發(fā)電層24b內(nèi)生成電子和空穴的對，將光能變換為電能。有機層24中的至少I層是通過涂敷法形成的涂敷層。例如，導(dǎo)電性高分子層24a是將在水類溶劑中分散有PEDOT — PSS的涂敷液涂敷到透明電極22上、用燒制裝置燒制、形成為層厚30nm的。在作為涂敷層的導(dǎo)電性高分子層24a上，發(fā)電層24b通過真空蒸鍍法形成，進而形成陰極層23。發(fā)電層24b優(yōu)選的是在極力抑制涂敷層中的水分的狀態(tài)下形成。也可以將有機太陽能電池2做成具有多個發(fā)電層的串列型、將I層或多層發(fā)電層做成涂敷層。
在本實施方式中例示了，有機EL元件I及有機太陽能電池2是在涂敷層中使用了PEDOT — PSS的結(jié)構(gòu)。有機膜自身通過在冷卻時暴露在大氣中而伴隨著吸濕。本實施方式的燒制裝置并不限定用于，在水類溶劑中分散有PEDOT — PSS的涂敷層的燒制，也適用于在氯仿(chloroform)、安息香酸こ酷、醋酸丁酷、異丙醇等的有機溶劑或不同種類的有機溶劑的混合溶劑中分散有有機物的涂敷層的燒制，是防止水分向有機膜的侵入而得到高品質(zhì)的有機EL元件I及有機太陽能電池2的裝置。接著，參照圖3及圖4說明本實施方式的燒制裝置。燒制裝置3具備用來投入形成有有機膜的基板4的投入部5、燒制部6、和用來從燒制部6將基板4取出的取出部7。燒制裝置3將基板4上的有機膜中所包含的溶劑加熱除去，對該有機膜進行燒制。投入部5、燒制部6及取出部7的各自的內(nèi)部被作為氣體環(huán)境劃分?；?是有機EL元件I或有機太陽能電池2的制造エ序中的中間體，在透光性基板上通過涂敷法形成有有機膜。投入到燒制裝置3中的基板4上的有機膜可以是完全濕狀態(tài)的膜、干燥狀態(tài)的膜的任ー種。投入部5、燒制部6及取出部7分別具有能夠氣密地收容基板4的腔室51、61、71。投入部5具有用來將基板4搬入的閘門閥Gl。閘門閥Gl能夠開閉，將腔室51氣密地關(guān)閉。投入部5與燒制部6經(jīng)由閘門閥G2連結(jié)。閘門閥G2在閉狀態(tài)下將腔室51與腔室61氣密地分隔。燒制部6與取出部7經(jīng)由閘門閥G3連結(jié)。閘門閥G3在閉狀態(tài)下將腔室61與腔室71氣密地分隔。取出部7具有用來將基板4搬出的閘門閥G4。閘門閥G4將腔室71氣密地關(guān)閉。閘門閥G1、G2、G3、G4被設(shè)為常關(guān)。投入部5通過閘門閥Gl與G2不同時打開，防止燒制部6的內(nèi)部向大氣開放。取出部7通過G3與G4不同時打開，防止燒制部6的內(nèi)部向大氣開放。燒制部6具有用來將有機膜加熱的紅外線照射器65。也可以代替紅外線照射器65而將熱板或暖風加熱器設(shè)在燒制部6內(nèi)。在投入部5、燒制部6及取出部7上，分別連接著將清潔干燥空氣向內(nèi)部供氣的供氣管52、62、72、和將內(nèi)部的空氣排氣的排氣管53、63、73。供氣管52、62、72在上游側(cè)連接著清潔干燥空氣供給裝置(未圖示)。被供氣的清潔干燥空氣既可以是含有氧的空氣也可以是無氧空氣，根據(jù)有機膜而適當選擇。此外，投入部5、燒制部6、及取出部7分別具有搬送裝置54、64、74。搬送裝置54、64、74是輪式輸送機，也可以是輥式輸送機或帶式輸送機等。基板4被載置在板狀的基板臺41上在燒制裝置3內(nèi)搬送。搬送裝置54、64將基板臺41從投入部5向燒制部6搬送。搬送裝置64、74將基板臺41從燒制部6向取出部7搬送。此外，投入部5、燒制部6及取出部7優(yōu)選的是內(nèi)部被遮光，以使得紫外光及波長比規(guī)定的波長短的可視光不會被照射到上述有機膜上。規(guī)定的波長是根據(jù)有機膜而決定的波長，例如為500nm。為了將內(nèi)部遮光，使燒制裝置3的全部的腔室51、61、71為遮光規(guī)格。此外，在腔室51、61、71的某個上設(shè)置內(nèi)部確認用的窗部(未圖示)的情況下，在窗部上覆蓋設(shè)置對紫外光及波長比規(guī)定的波長短的可視光進行遮光的濾光器(fiter)。由此，燒制裝置3的周圍的環(huán)境光等不會照射在有機膜上，所以即使有機膜是呈感光劣化的，也能夠防止感光劣化。
燒制裝置3優(yōu)選的是具備將燒制的有機膜的光學常數(shù)通過透射分光或反射分光來進行測量的分光測量器75。例如，分光測量器75設(shè)在取出部7的內(nèi)部中，作為光學常數(shù)，測量有機膜的膜厚及透射光譜等。通過透射光譜，能夠判斷有機膜的燒制的進行的程度等。由此，能夠?qū)⒕哂蟹止鉁y量器75得到的測量值偏離管理值這樣的有機膜的基板4從制造エ序中去除，能夠管理有機膜的膜質(zhì)。在如上述那樣構(gòu)成的燒制裝置3中，將閘門閥Gl打開，向投入部5搬入基板4。將閘門閥Gl關(guān)閉，投入部5將內(nèi)部的空氣從排氣管53排氣，并將清潔干燥空氣從供氣管52供氣。將閘門閥G2打開，將基板4通過搬送裝置54、64搬送，向燒制部6投入。將閘門閥G2關(guān)閉，將形成在基板4上的有機膜通過紅外線照射器65加熱而燒制。將含有從有機膜除去的溶劑的空氣從排氣管63排氣，并將清潔干燥空氣從供氣管62供氣。將閘門閥G3打開，將基板4通過搬送裝置64、74搬送，從燒制部6向取出部7取出。將閘門閥G3關(guān)閉，在取出部7內(nèi)，將有機膜的光學常數(shù)通過分光測量器75測量。將閘門閥G4打開，將基板4從取出部7搬出。將閘門閥G4關(guān)閉，取出部7將內(nèi)部的空氣從排氣管73排氣，并將清潔干燥空氣從供氣管72供氣。在燒制裝置3內(nèi)，有機膜在處于投入部5內(nèi)的燒制前的狀態(tài)含有最多的溶劑成分，接著依次為在燒制部6內(nèi)燒制中的有機膜、處于取出部7內(nèi)的燒制后的有機膜。由于溶劑成分從有機膜氣化到氣體環(huán)境中，所以投入部5內(nèi)的氣體環(huán)境含有最多的溶劑成分，接著依次為燒制部6內(nèi)的氣體環(huán)境、取出部7內(nèi)的氣體環(huán)境。將閘門閥G2、G3關(guān)閉，投入部5、燒制部6及取出部7內(nèi)的各自的內(nèi)部被作為氣體環(huán)境劃分。因此，通過涂敷法形成的有機膜的燒制在與燒制前的有機膜不同的氣體環(huán)境劃分中進行，所以能夠防止溶劑成分從燒制前的有機膜侵入。此外，由于燒制后的有機膜被取出到與燒制前及燒制中的有機膜不同的氣體環(huán)境區(qū)畫中，所以能夠防止溶劑成分從燒制前及燒制中的有機膜侵入。因而，即使在溶劑成分中含有水分，也能夠防止水分侵入到燒制后的有機膜中，能夠提供高品質(zhì)、沒有缺陷的有機膜。燒制有機膜的エ序的下個エ序是對別的膜進行蒸鍍的エ序。在取出部7的后級，設(shè)有在燒制后的有機膜上蒸鍍別的膜的蒸鍍裝置8。蒸鍍裝置8具有向基板4真空蒸鍍有機膜等的蒸鍍室81、和加載鎖定室82。加載鎖定室82是用來在保持著蒸鍍室81的真空的狀態(tài)下將基板4向蒸鍍室81放入的真空室。在燒制部6內(nèi)進行了加熱的基板4優(yōu)選的是，在80°C以上的狀態(tài)下從取出部7向蒸鍍裝置8搬送。例如，取出部7經(jīng)由閘門閥G4連結(jié)在加載鎖定室82上，以使搬送到蒸鍍裝置8中的基板4的溫度不會下降到不滿80°C。因此，燒制后的有機膜在高溫的狀態(tài)下被搬送，所以能夠防止在搬送中因溫度的下降而吸附氣體環(huán)境中的水分。當將基板4從取出部7搬出時，優(yōu)選的是將基板4密接在熱容比該基板大的保溫板上。例如，用來搬送基板4的基板臺41兼作為保溫板。保溫板與基板4 一起在燒制部6內(nèi)被加熱，在從燒制部6取出后，對基板4進行保溫。這樣，將燒制后的有機膜保溫而搬送，所以能夠防止在搬送中因溫度的下降而吸附氣體環(huán)境中的水分。
此外，優(yōu)選的是，從取出部7向蒸鍍裝置8將基板4在相対濕度(R. H. >10%以下的氣體環(huán)境中搬送。例如，取出部7經(jīng)由閘門閥G4連結(jié)在加載鎖定室82上，通過向內(nèi)部供給清潔干燥空氣，使氣體環(huán)境的相対濕度為10%以下。因此，燒制后的有機膜被在干燥氣體環(huán)境中搬送，所以能夠防止在搬送中吸附水分。蒸鍍室81可以根據(jù)蒸鍍的膜數(shù)而設(shè)置多個。基板4通過多個蒸鍍室81形成有機層及陰極層。然后，將基板4形成密封層，成為有機元件。(第2實施方式)參照圖5及圖6說明有關(guān)本發(fā)明的第2實施方式的燒制裝置。本實施方式的燒制裝置103中，投入部5、燒制部6和取出部7的相互配置、搬送基板4的機構(gòu)、以及燒制部6的內(nèi)部結(jié)構(gòu)與第I實施方式不同，其他是同樣的。對于與第I實施方式同樣的部位賦予相同的標號。燒制裝置103具備投入部5、燒制部6及取出部7、和用來在它們之間搬送基板4的搬送部9。搬送部9具有能夠使內(nèi)部成為氣密的腔室91、和設(shè)在腔室91內(nèi)的搬送用機器人94。在搬送部9上，連接著用來將清潔干燥空氣向內(nèi)部供給的供氣管92、和將內(nèi)部的空氣排氣的排氣管93。投入部5、燒制部6及取出部7配置在搬送部9的周圍，分別經(jīng)由閘門閥G5、G6、G7連結(jié)在搬送部9上。將閘門閥G5、G6、G7關(guān)閉，使得投入部5、燒制部6及取出部7內(nèi)各自的內(nèi)部被作為氣體環(huán)境劃分。搬送用機器人94具有固定在腔室91內(nèi)的主體94a、用來保持基板臺41的手部94b、和將手部94b可動地支承在主體94a上的臂94c。臂94c相對于主體94a升降及旋繞自如、在旋繞的運動直徑方向上伸縮自如地構(gòu)成。搬送用機器人94將載置著基板4的基板臺41從投入部5向燒制部6投入，從燒制部6向取出部7取出。在本實施方式中，搬送用機器人94對形成有燒制前的有機層的基板4和形成有燒制后的有機層的基板4進行搬送，但燒制前的有機層和燒制后的有機層不會同時存在于搬送部9上。此外，搬送部9在將基板4投入到燒制部6中而將閘門閥G6關(guān)閉后，將內(nèi)部的空氣從排氣管93排氣并將清潔干燥空氣從供氣管92供氣。當從燒制部6將基板4取出吋，搬送部9充滿清潔干燥空氣。因此，能夠防止溶劑成分從燒制前的有機膜向燒制后的有機膜侵入。本實施方式的燒制部6在腔室61內(nèi)具有多個對有機膜進行燒制的處理空間66(參照圖6)。各個處理空間66設(shè)有紅外線照射器65,并被作為氣體環(huán)境劃分。在本實施方式中，多個處理空間66在上下方向上配置，但也可以在橫向上排列配置，也可以配置為格狀。搬送用機器人94將載置著基板4的基板臺41向處理空間66投入，從處理空間66取出。上述那樣構(gòu)成的燒制裝置103在各個處理空間66中對形成在基板4上的有機膜進行燒制。由于能夠在多個處理空間66中將有機膜同時燒制，所以使燒制處理高效率化。此外，由于各個處理空間66內(nèi)的有機膜相互處于不同的氣體環(huán)境劃分中，所以能夠防止溶劑成分從處于I個處理空間66內(nèi)的有機膜向處于其他處理空間66中的有機膜侵入，還能夠防止水分的侵入。此外，在將多個處理空間66在上下方向上配置的情況下，能夠使燒制部6的占用面積變小。(第3實施方式)參照圖7說明有關(guān)本發(fā)明的第3實施方式的燒制裝置。本實施方式的燒制裝置203具備減壓機構(gòu)這一點與第I實施方式不同，其他是同樣的。燒制部6作為減壓機構(gòu)而具有將腔室61內(nèi)減壓的真空泵67。取出部7作為減壓機構(gòu)而具有將腔室71內(nèi)減壓的真空泵77，并兼作為加載鎖定室82。燒制部6經(jīng)由閘門閥G3連結(jié)在加載鎖定室82 (取出部7)上。加載鎖定室82經(jīng)由閘門閥G4連結(jié)在蒸鍍室81上。蒸鍍室81具有真空泵87，為了進 行真空蒸鍍而被減壓。此外，蒸鍍室81具有用來搬送載置著基板4的基板臺41的搬送裝置84。在如上述那樣構(gòu)成的燒制裝置203中，燒制部6在將閘門閥G2打開而投入基板4后，將閘門閥G2關(guān)閉，通過真空泵67將內(nèi)部減壓。將形成在基板4上的有機膜通過紅外線照射器65加熱而燒制。由于將有機膜在減壓下加熱，所以促進干燥。將基板4在減壓下從燒制部6向加載鎖定室82 (取出部7)取出。這樣，將燒制后的有機膜在減壓下向蒸鍍裝置8搬送，所以能夠防止在搬送中吸附水分。另外，本發(fā)明并不限定于上述實施方式的結(jié)構(gòu)，在不變更發(fā)明的主g的范圍內(nèi)能夠進行各種變形。例如，在第2實施方式中，也可以構(gòu)成為，使取出部7兼作為蒸鍍裝置8的加載鎖定室82。標號說明I有機EL元件2有機太陽能電池3,103,203 燒制裝置4 基板41保溫板(基板臺)5投入部6燒制部7取出部75分光測量器8蒸鍍裝置82加載鎖定室
權(quán)利要求
1.一種有機膜的燒制裝置，對作為有機EL元件或有機太陽能電池的有機元件具有的通過涂敷法形成的有機膜進行燒制，其特征在于， 具備 投入部，用來投入形成有有機膜的基板； 燒制部，將上述基板上的有機膜所含有的溶劑加熱除去，來對該有機膜進行燒制；以及 取出部，用來從上述燒制部將上述基板取出， 上述投入部、燒制部及取出部的各自的內(nèi)部被作為氣體環(huán)境劃分。
2.如權(quán)利要求I所述的有機膜的燒制裝置，其特征在于， 上述燒制部具有多個燒制有機膜的處理空間； 各個上述處理空間被作為氣體環(huán)境劃分。
3.如權(quán)利要求I所述的有機膜的燒制裝置，其特征在于， 在上述取出部的后級具備向燒制后的有機膜上蒸鍍別的膜的蒸鍍裝置， 從上述取出部向上述蒸鍍裝置將基板在80°C以上的狀態(tài)下搬送。
4.如權(quán)利要求3所述的有機膜的燒制裝置，其特征在于， 當從上述取出部將基板搬出時，上述基板與熱容比該基板大的保溫板密接。
5.如權(quán)利要求3所述的有機膜的燒制裝置，其特征在于， 從上述取出部向上述蒸鍍裝置將基板在相對濕度10%以下的氣體環(huán)境中搬送。
6.如權(quán)利要求3所述的有機膜的燒制裝置，其特征在于， 上述燒制部以將內(nèi)部減壓的方式構(gòu)成，來對上述有機膜進行干燥。
7.如權(quán)利要求6所述的有機膜的燒制裝置，其特征在于， 上述取出部兼作為上述蒸鍍裝置具有的加載鎖定室。
8.如權(quán)利要求I所述的有機膜的燒制裝置，其特征在于， 具備通過透射分光或反射分光來測量燒制后的上述有機膜的光學常數(shù)的分光測量器。
9.如權(quán)利要求I所述的有機膜的燒制裝置，其特征在于， 上述投入部、燒制部及取出部的內(nèi)部被遮光，以使紫外光及波長比規(guī)定的波長短的可視光不被照射到上述有機膜。
10.一種有機元件，其特征在于， 具有通過上述權(quán)利要求I 9中任一項所述的有機膜的燒制裝置燒制得到的有機膜。
全文摘要
在對通過涂敷法形成的有機膜進行燒制的裝置中，防止水分向有機膜的侵入，防止因水分造成的有機元件的劣化。燒制裝置(3)具備用來投入形成有有機膜的基板(4)的投入部(5)、將基板(4)上的有機膜中含有的溶劑加熱除去來對該有機膜進行燒制的燒制部(6)、和用來從燒制部(6)將基板(4)取出的取出部(7)。投入部(5)、燒制部(6)及取出部(7)各自的內(nèi)部被作為氣體環(huán)境劃分。由此，防止含有水分的溶劑成分從燒制前及燒制中的有機膜向燒制后的有機膜侵入，能夠提供高品質(zhì)、沒有缺陷的有機膜。
文檔編號H05B33/10GK102860131SQ20118002082
公開日2013年1月2日 申請日期2011年4月28日 優(yōu)先權(quán)日2010年4月28日
發(fā)明者葛岡義和, 井出伸弘, 宮川展幸, 宮井隆雄, 山本稔, 川口敬史 申請人:松下電器產(chǎn)業(yè)株式會社, 龍云股份有限公司