專利名稱：一種內(nèi)外環(huán)加熱線圈盤支架的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及加熱線圈盤支架，特別是一種內(nèi)外環(huán)加熱線圈盤支架。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有家電產(chǎn)品中所使用的疏繞方式繞制線圈的加熱線圈盤，包括線圈盤支架、線圈和磁條，其中線圈盤支架的條幅上面設(shè)有若干同心圓設(shè)置的擋板，相鄰擋板形成線槽用于固定線圈，因此該種線圈盤為圓型設(shè)計(jì)。當(dāng)鍋體的受熱面積與線圈盤相對應(yīng)時(shí)，該種設(shè)計(jì)可實(shí)現(xiàn)加熱均勻。可隨著家用電器的不斷發(fā)展，炊具花樣越來越多，鍋具受熱面積并不一定與線圈盤相對應(yīng)，甚者不再僅是圓形底面。特別是歐洲國家，長方型鍋具的使用越來越頻繁。如果繼續(xù)使用該種線圈盤，鍋具能覆蓋的線圈盤線圈面積小，造成加熱面積小、功率低、 加熱不均勻等缺陷。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于考慮上述問題，而提供一種能增大加熱面積、實(shí)現(xiàn)鍋具均勻加熱的適用于大功率家電產(chǎn)品的內(nèi)外環(huán)加熱線圈盤支架。為實(shí)現(xiàn)本實(shí)用新型的目的，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案為一種內(nèi)外環(huán)加熱線圈盤支架，包括由一定高度擋板形成的卡線槽和至少一個(gè)錯(cuò)位槽，其特征在于，內(nèi)側(cè)部的卡線槽和錯(cuò)位槽圍繞成圓形內(nèi)環(huán)支架，外側(cè)部的卡線槽和錯(cuò)位槽圍繞成方形外環(huán)支架。上述的圓形內(nèi)環(huán)支架和方形外環(huán)支架之間的空隙處設(shè)有小擋塊，小擋塊上設(shè)有線圈盤固定卡口或溫度檢測裝置固定卡口。所述的線圈盤支架的背面開設(shè)有放置磁條的磁條槽。進(jìn)一步地，上述的磁條槽的尺寸規(guī)格均相同或至少兩個(gè)不同。本實(shí)用新型的有益效果是，由于采用內(nèi)外環(huán)加熱線圈盤支架且外環(huán)為方形支架， 使得繞制在其上的線圈外環(huán)為方形結(jié)構(gòu)，因此，加熱受熱面積與線圈盤形狀不對應(yīng)的鍋具時(shí)，鍋底覆蓋的線圈面積大，加熱功率高且均勻。內(nèi)側(cè)支架還是采用圓形內(nèi)環(huán)支架，可保留圓形線圈工藝操作簡單、方便的特點(diǎn)。內(nèi)環(huán)支架和外環(huán)支架之間的間隙設(shè)有小擋塊，小擋塊上可設(shè)有線圈盤固定卡口或溫度檢測裝置固定卡口，節(jié)省資源，降低成本。

圖1為本實(shí)用新型的正面結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為一種實(shí)施例中采用的加熱線圈盤支架的背面結(jié)構(gòu)示意圖；圖3為另一種實(shí)施例中采用的加熱線圈盤支架的背面結(jié)構(gòu)示意圖；圖4為本實(shí)用新型用在全區(qū)電磁灶上，且使用長方型鍋具加熱的示意圖。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖對本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式
作進(jìn)一步說明。[0014]如圖1所示，本實(shí)用新型的正面包括由一定高度擋板1形成的卡線槽2和至少一個(gè)錯(cuò)位槽3，其中內(nèi)側(cè)部的卡線槽2和錯(cuò)位槽3圍繞成圓形內(nèi)環(huán)支架4 ；外側(cè)部的卡線槽2 和錯(cuò)位槽3圍繞成方形外環(huán)支架5。圓形內(nèi)環(huán)支架4和方形外環(huán)支架5之間的空隙6處設(shè)有小擋塊7，小擋塊7上可設(shè)置線圈盤固定卡口 71或溫度檢測裝置固定卡口 72。如圖2和圖3所示，本實(shí)用新型的背面開設(shè)有放置磁條的磁條槽8。為了保證磁場的充足以及充分利用空間，所有磁條槽8的尺寸規(guī)格既可相同，也可有不同的尺寸規(guī)格，具體如磁條槽 811、812、821、822。參照圖4，為本實(shí)用新型用在全區(qū)電磁灶上，且使用長方型鍋具加熱的示意圖。圖中本實(shí)用新型9 ；普通圓形線圈盤支架10 ；長方形鍋具11 ；電磁灶灶面板12。如圖4所示，本實(shí)用新型9使用在全區(qū)電磁灶上時(shí)，其加熱面積占灶面板12的面積比例更大；而圖中用虛線給出了直徑與本實(shí)用新型外環(huán)支架5邊長相同的普通圓形線圈盤支架10。圖中線圈盤個(gè)數(shù)為2個(gè)。從圖4可看出，長方型鍋具11覆蓋本實(shí)用新型9的面積比普通圓型線圈盤支架10的面積大。因此，本實(shí)用新型在加熱受熱面積與線圈盤形狀不對應(yīng)的鍋具時(shí)，鍋底覆蓋的線圈面積大，加熱功率高且均勻。
權(quán)利要求1.一種內(nèi)外環(huán)加熱線圈盤支架，包括由一定高度擋板(1)形成的卡線槽(2)和至少一個(gè)錯(cuò)位槽(3)，其特征在于，位于內(nèi)側(cè)部的卡線槽(2)和錯(cuò)位槽(3)圍繞成圓形內(nèi)環(huán)支架 (4)，位于外側(cè)部的卡線槽(2)和錯(cuò)位槽(3)圍繞成方形外環(huán)支架(5)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的內(nèi)外環(huán)加熱線圈盤支架，其特征在于，所述的圓形內(nèi)環(huán)支架 (4)和方形外環(huán)支架(5)之間的空隙(6)處設(shè)有小擋塊(7)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的內(nèi)外環(huán)加熱線圈盤支架，其特征在于，所述的小擋塊(7)上設(shè)有線圈盤固定卡口(71)。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的內(nèi)外環(huán)加熱線圈盤支架，其特征在于，所述的小擋塊(7) 上設(shè)有溫度檢測裝置固定卡口( 72 )。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2或3所述的內(nèi)外環(huán)加熱線圈盤支架，其特征在于，所述的線圈盤支架的背面開設(shè)有放置磁條的磁條槽(8)。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的內(nèi)外環(huán)加熱線圈盤支架，其特征在于，所述的線圈盤支架的背面開設(shè)有放置磁條的磁條槽(8)。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述內(nèi)外環(huán)加熱線圈盤支架，其特征在于，所述的磁條槽(8)的尺寸規(guī)格均相同，或至少兩個(gè)不同。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述內(nèi)外環(huán)加熱線圈盤支架，其特征在于，所述的磁條槽(8)的尺寸規(guī)格均相同，或至少兩個(gè)不同。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種內(nèi)外環(huán)加熱線圈盤支架，包括由一定高度擋板形成的卡線槽和至少一個(gè)錯(cuò)位槽，其特征在于，內(nèi)部的卡線槽和錯(cuò)位槽圍繞成圓形內(nèi)環(huán)支架，外部的卡線槽和錯(cuò)位槽圍繞成方形外環(huán)支架。方形外環(huán)支架使得繞制在其上的線圈外環(huán)為方形結(jié)構(gòu)，因此加熱受熱面積與線圈盤不對應(yīng)的鍋具時(shí)，鍋底覆蓋線圈面積大，加熱功率高且均勻。內(nèi)部支架還是采用圓形內(nèi)環(huán)支架，可保留圓形線圈工藝操作簡單、方便的特點(diǎn)。內(nèi)環(huán)和外環(huán)之間的間隙設(shè)有小擋塊，小擋塊上可設(shè)有線圈盤固定卡口或溫度檢測裝置固定卡口，節(jié)省資源，降低成本。
文檔編號H05B6/36GK202310164SQ20112041537
公開日2012年7月4日 申請日期2011年10月27日 優(yōu)先權(quán)日2011年10月27日
發(fā)明者尹本軍, 謝周斌 申請人:美的集團(tuán)有限公司