專利名稱：一種加工晶體材料時(shí)對(duì)坩堝的均溫裝置及其方法
一種加工晶體材料時(shí)對(duì)坩堝的均溫裝置及其方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種坩堝的加熱方法，具體地說本發(fā)明涉及一種加工晶體材料時(shí)對(duì)坩堝的均溫裝置及其方法。
背景技術(shù)：
在晶體材料中，多晶硅碎料拉制成為多晶硅棒或多晶硅轉(zhuǎn)換為單晶硅均需要使用坩堝，通過拉制或使用坩堝下降法使多晶生長(zhǎng)為單晶；這個(gè)過程是在一個(gè)密閉的爐體內(nèi)完成的；以多晶硅為例，常規(guī)的方式是，在坩堝下部設(shè)置支撐體，由支撐體旋轉(zhuǎn)并帶動(dòng)坩堝同步旋轉(zhuǎn)，在坩堝外部設(shè)置的加熱套直接對(duì)坩堝加熱，然后通過籽晶將坩堝內(nèi)的多晶硅拉制成為多晶硅棒；在這一過程中，受到坩堝與加熱套間距的限制，加熱套在對(duì)坩堝加熱中，坩堝四周的外緣面容易形成部分距離較近處較熱，其它相對(duì)于較熱部分的溫度較冷，這種環(huán)境下便會(huì)出現(xiàn)非均勻晶核，而且坩堝自身的旋轉(zhuǎn)還會(huì)出現(xiàn)坩堝內(nèi)的晶液難以保持一個(gè)平坦的固液交界面，拉制中便會(huì)出現(xiàn)晶震現(xiàn)象，使得拉制中獲取的晶棒出現(xiàn)明顯的不等徑，使得獲取的晶棒成品率較低；這也是決定晶體成品質(zhì)量的一個(gè)重要因素。同理，藍(lán)寶石的加工方法包括提拉法、坩堝下降法、溫度梯度法、導(dǎo)模法、熱交換法、泡生法等，針對(duì)目前對(duì)藍(lán)寶石制備的方法，以上制備方法都采用支撐體旋轉(zhuǎn)帶動(dòng)坩堝同步旋轉(zhuǎn)的方案，坩堝內(nèi)的藍(lán)寶石結(jié)晶過程受到微震使得結(jié)晶過程出現(xiàn)晶震現(xiàn)象而形成部分晶體錯(cuò)位，造成品質(zhì)下降。

發(fā)明內(nèi)容為了克服背景技術(shù)中的不足，本發(fā)明公開了一種加工晶體材料時(shí)對(duì)坩堝的均溫裝置及其方法，本發(fā)明通過在坩堝與加熱套之間設(shè)置旋轉(zhuǎn)的均勻溫度套，均勻溫度套對(duì)坩堝加熱，所述坩堝內(nèi)的晶液便可保持一個(gè)平坦的固液交界面，拉制中克服了現(xiàn)有技術(shù)的晶震現(xiàn)象。為了實(shí)現(xiàn)上述發(fā)明的目的，本發(fā)明采用如下技術(shù)方案:一種加工晶體材料時(shí)對(duì)坩堝的均溫裝置，包括坩堝、加熱套和支撐體，在坩堝外部間隔設(shè)置有加熱套，加熱套的兩側(cè)分別連接有電極A和電極B，在所述坩堝下部設(shè)置有支撐體；在坩堝與加熱套之間設(shè)有均勻溫度套，所述溫度套通過動(dòng)力機(jī)構(gòu)旋轉(zhuǎn)。所述的加工晶體材料時(shí)對(duì)坩堝的均溫裝置，所述電極A和電極B的其中一個(gè)為正極，另一個(gè)便是負(fù)極。所述的加工晶體材料時(shí)對(duì)坩堝的均溫裝置，所述加熱套的材質(zhì)為石墨、鎢或鑰的
任意一種。所述的加工晶體材料時(shí)對(duì)坩堝的均溫裝置，所述動(dòng)力機(jī)構(gòu)第一結(jié)構(gòu)，在均勻溫度套的上端外部設(shè)置外翻邊，外翻邊的下部面上設(shè)置環(huán)形向上凹陷的圓弧槽，在外翻邊的下部設(shè)置托環(huán)，所述托環(huán)的外部由至少三根吊桿連接，所述吊桿上端與爐室上部?jī)?nèi)壁連接，所述托環(huán)的內(nèi)面與均勻溫度套的外部面間隔設(shè)置，在托環(huán)的上部面上設(shè)有對(duì)應(yīng)外翻邊圓弧槽的向下凹陷圓弧槽，外翻邊圓弧槽與托環(huán)的圓弧槽之間設(shè)有復(fù)數(shù)個(gè)滾動(dòng)體，在均勻溫度套的下端面上設(shè)有齒面，設(shè)置在爐室下部的支撐座上部通過動(dòng)力軸A的一端固定齒輪A，所述齒輪A與均勻溫度套下部面的齒面齒合，所述動(dòng)力軸A的另一端外接動(dòng)力。所述的加工晶體材料時(shí)對(duì)坩堝的均溫裝置，所述動(dòng)力機(jī)構(gòu)另一替換結(jié)構(gòu)，在均勻溫度套的上端外部設(shè)置外翻邊，外翻邊的下部面上設(shè)置環(huán)形向上凹陷的圓弧槽，在外翻邊的下部設(shè)置托環(huán)，所述托環(huán)的外部由至少三根吊桿連接，所述吊桿上端與爐室上部?jī)?nèi)壁連接，所述托環(huán)的內(nèi)面與均勻溫度套的外部面間隔設(shè)置，在托環(huán)的上部面上設(shè)有對(duì)應(yīng)外翻邊圓弧槽的向下凹陷圓弧槽，外翻邊圓弧槽與托環(huán)的圓弧槽之間設(shè)有復(fù)數(shù)個(gè)滾動(dòng)體，在均勻溫度套的上端面上設(shè)有齒面，設(shè)置在爐室上部的支撐座下部通過動(dòng)力軸A的一端固定齒輪A，所述齒輪A與均勻溫度套上端面的齒面齒合，所述動(dòng)力軸A的另一端外接動(dòng)力。所述的加工晶體材料時(shí)對(duì)坩堝的均溫裝置，所述動(dòng)力機(jī)構(gòu)第三替換結(jié)構(gòu)，在均勻溫度套的上端外部設(shè)置外翻邊，外翻邊的下部面上設(shè)置環(huán)形向上凹陷的圓弧槽，在外翻邊的下部設(shè)置托環(huán)，所述托環(huán)的外部由至少三根吊桿連接，所述吊桿上端與爐室上部?jī)?nèi)壁連接，所述托環(huán)的內(nèi)面與均勻溫度套的外部面間隔設(shè)置，在托環(huán)的上部面上設(shè)有對(duì)應(yīng)外翻邊圓弧槽的向下凹陷圓弧槽，外翻邊圓弧槽與托環(huán)的圓弧槽之間設(shè)有復(fù)數(shù)個(gè)滾動(dòng)體，在均勻溫度套的下部外緣面上環(huán)繞設(shè)有外緣齒面，設(shè)置在爐室下部的豎動(dòng)力軸B上的齒輪B與均勻溫度套的外緣齒面齒合，豎動(dòng)力軸B的下部外接動(dòng)力。所述的加工晶體材料時(shí)對(duì)坩堝的均溫裝置，所述動(dòng)力機(jī)構(gòu)第四替換結(jié)構(gòu)，在均勻溫度套的下端外部設(shè)置下部外翻邊，下部外翻邊的下部面上設(shè)置環(huán)形槽，在爐室下部設(shè)有至少三個(gè)支撐座，所述支撐座上設(shè)有一個(gè)動(dòng)力轉(zhuǎn)輪，另外的支撐座上設(shè)置為轉(zhuǎn)輪且由軸連接，所述動(dòng)力轉(zhuǎn)輪和轉(zhuǎn)輪對(duì)應(yīng)下部外翻邊的環(huán)形槽，動(dòng)力轉(zhuǎn)輪和轉(zhuǎn)輪之間的間距為均勻設(shè)置，其中動(dòng)力轉(zhuǎn)輪通過動(dòng)力軸A的一端連接在支撐座上，動(dòng)力軸A的另一端外接動(dòng)力。所述的加工晶體材料時(shí)對(duì)坩堝的均溫裝置，所述動(dòng)力機(jī)構(gòu)第五替換結(jié)構(gòu)，在均勻溫度套的下端外部設(shè)置下部外翻邊，下部外翻邊的下部面上設(shè)置凸出環(huán)，在爐室下部設(shè)有至少三個(gè)支撐座，所述支撐座上設(shè)有一個(gè)動(dòng)力槽輪，另外的支撐座上設(shè)置為槽輪且由軸連接，所述動(dòng)力槽輪和槽輪對(duì)應(yīng)下部外翻邊的凸出環(huán)，動(dòng)力槽輪和槽輪之間的間距為均勻設(shè)置，其中動(dòng)力槽輪通過動(dòng)力軸A的一端連接在支撐座上，動(dòng)力軸A的另一端外接動(dòng)力。一種加工晶體材料時(shí)對(duì)坩堝的均溫方法，包括坩堝、均勻溫度套、加熱套和支撐體，在坩堝外部間隔設(shè)置有加熱套，加熱套的兩側(cè)分別連接有電極A和電極B，由電極A和電極B分別連接加熱套的兩側(cè)使加熱套產(chǎn)生熱能，在所述坩堝下部設(shè)置有支撐體；在坩堝與加熱套之間設(shè)有均勻溫度套，所述溫度套通過動(dòng)力機(jī)構(gòu)旋轉(zhuǎn)，由加熱套傳遞熱能給均勻溫度套，由均勻溫度套將熱能傳遞給坩堝，使坩堝獲取較為均勻的溫度，坩堝內(nèi)的晶體料也獲取較為均勻的加熱溫度。通過上述公開內(nèi)容，本發(fā)明的有益效果是:本發(fā)明所述加工晶體材料時(shí)對(duì)坩堝的均溫裝置及其方法，通過在坩堝與加熱套之間設(shè)置均勻溫度套，使得坩堝和加熱套為靜止設(shè)置，均勻溫度套旋轉(zhuǎn)，由加熱套加熱均勻溫度套，熱均勻溫度套對(duì)坩堝加熱，使坩堝四周獲取較為均勻的溫度，由于坩堝自身不動(dòng)，所述坩堝內(nèi)的晶液便可保持一個(gè)平坦 的固液交界面，拉制中克服了晶震現(xiàn)象；本發(fā)明構(gòu)思奇妙、結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，使用成本較低。
圖1是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是本發(fā)明的加熱套轉(zhuǎn)動(dòng)第一實(shí)施例結(jié)構(gòu)示意圖；圖3是本發(fā)明的加熱套轉(zhuǎn)動(dòng)第二實(shí)施例結(jié)構(gòu)示意圖；圖4是本發(fā)明的加熱套轉(zhuǎn)動(dòng)第三實(shí)施例結(jié)構(gòu)示意圖；圖5是本發(fā)明的加熱套轉(zhuǎn)動(dòng)第四實(shí)施例結(jié)構(gòu)示意圖；圖6是本發(fā)明的加熱套轉(zhuǎn)動(dòng)第五實(shí)施例結(jié)構(gòu)示意圖；在圖中:1、晶體料；2、坩堝；3、加熱套一側(cè)面；4、均勻溫度套一側(cè)面；5、電極A ;6、支撐體；7、電極B ;8、加熱套另一側(cè)面；9、均勻溫度套另一側(cè)面；10、吊桿；11、滾動(dòng)體；12、托環(huán)；13、支撐座；14、動(dòng)力軸A ;15、齒面；16、齒輪A ;17、外翻邊；18、外緣齒面；19、齒輪B ;
20、動(dòng)力軸B ;21、套管；22、動(dòng)力轉(zhuǎn)輪；23、轉(zhuǎn)輪；24、槽；25、下部外翻邊；26、軸；27、凸出環(huán)；28、動(dòng)力槽輪；29、槽輪。
具體實(shí)施方式下面結(jié)合實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行進(jìn)一步的說明；下面的實(shí)施例并不是對(duì)于本發(fā)明的限定，僅作為支持實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的方式，在本發(fā)明所公開的技術(shù)框架內(nèi)的任意等同結(jié)構(gòu)替換，均為本發(fā)明的保護(hù)范圍；結(jié)合附圖1中一種加工晶體材料時(shí)對(duì)坩堝的均溫裝置，包括坩堝2、加熱套和支撐體6，所述坩堝2用來放置晶體料1，在坩堝2外部間隔設(shè)置有加熱套，所述加熱套與坩堝同心設(shè)置，加熱套的兩側(cè)分別連接有電極A5和電極B7，其中電極A5與加熱套一側(cè)面3連接，電極B7與加熱套另一側(cè)面8連接，在所述坩堝2下部設(shè)置有支撐體6 ;所述支撐體6用來支撐坩堝2，在坩堝2與加熱套之間設(shè)有均勻溫度套，所述溫度套通過動(dòng)力機(jī)構(gòu)旋轉(zhuǎn)，并實(shí)現(xiàn)對(duì)坩堝2的均勻加熱，所述溫度套可設(shè)置成圓筒形或多角筒形或在圓筒形或多角筒形設(shè)置有負(fù)數(shù)個(gè)孔形成的網(wǎng)狀筒形；其中電極A5和電極B7的其中一個(gè)為正極，另一個(gè)便是負(fù)極；所述加熱套的材質(zhì)為石墨、鎢或鑰的任意一種。結(jié)合附圖2中所述的加工晶體材料時(shí)對(duì)坩堝的均溫裝置，所述動(dòng)力機(jī)構(gòu)第一結(jié)構(gòu)，在均勻溫度套的上端外部設(shè)置外翻邊17，外翻邊17的下部面上設(shè)置環(huán)形向上凹陷的圓弧槽，形成滾動(dòng)體11的上滑道，在外翻邊17的下部設(shè)置托環(huán)12，所述托環(huán)12的外部由至少三根吊桿10連接，所述吊桿10上端與爐室上部?jī)?nèi)壁連接，所述托環(huán)12的內(nèi)面與均勻溫度套的外部面間隔設(shè)置，在托環(huán)12的上部面上設(shè)有對(duì)應(yīng)外翻邊17圓弧槽的向下凹陷圓弧槽，形成滾動(dòng)體11的下滑道，外翻邊17圓弧槽與托環(huán)12的圓弧槽之間設(shè)有復(fù)數(shù)個(gè)滾動(dòng)體11，由于托環(huán)12固定不動(dòng)，則均勻溫度套轉(zhuǎn)動(dòng)，即使均勻溫度套一側(cè)面4和均勻溫度套另一側(cè)面9相對(duì)于坩堝2、加熱套一側(cè)面3和加熱套另一側(cè)面8的位置不斷變化，有效的克服了在裝爐中造成的坩堝與加熱套和均勻溫度套之間的不同心，從而使加熱套對(duì)坩堝2的加熱更加均勻，在均勻溫度套的下端面上設(shè)有齒面15，設(shè)置在爐室下部的支撐座13上部通過動(dòng)力軸A14的一端固定齒輪A16,所述齒輪A16與均勻溫度套下部面的齒面15齒合,所述齒輪A16通過設(shè)置在均勻溫度套下端的齒面15帶動(dòng)均勻溫度套旋轉(zhuǎn)，所述動(dòng)力軸A14的另一端外接動(dòng)力，所述外接動(dòng)力與控制系統(tǒng)連接。
結(jié)合附圖3中所述的加工晶體材料時(shí)對(duì)坩堝的均溫裝置，所述動(dòng)力機(jī)構(gòu)另一替換結(jié)構(gòu)，在均勻溫度套的上端外部設(shè)置外翻邊17，外翻邊17的下部面上設(shè)置環(huán)形向上凹陷的圓弧槽，形成滾動(dòng)體11的上滑道，在外翻邊17的下部設(shè)置托環(huán)12，所述托環(huán)12的外部由至少三根吊桿10連接，所述吊桿10上端與爐室上部?jī)?nèi)壁連接，所述托環(huán)12的內(nèi)面與均勻溫度套的外部面間隔設(shè)置，在托環(huán)12的上部面上設(shè)有對(duì)應(yīng)外翻邊17圓弧槽的向下凹陷圓弧槽，形成滾動(dòng)體11的下滑道，外翻邊17圓弧槽與托環(huán)12的圓弧槽之間設(shè)有復(fù)數(shù)個(gè)滾動(dòng)體11，由于托環(huán)12固定不動(dòng)，則均勻溫度套轉(zhuǎn)動(dòng)，即使均勻溫度套一側(cè)面4和均勻溫度套另一側(cè)面9相對(duì)于坩堝2、加熱套一側(cè)面3和加熱套另一側(cè)面8的位置不斷變化，有效的克服了在裝爐中造成的坩堝與加熱套和均勻溫度套之間的不同心，從而使加熱套對(duì)坩堝2的加熱更加均勻，在均勻溫度套的上端面上設(shè)有齒面15，設(shè)置在爐室上部的支撐座13下部通過動(dòng)力軸A14的一端固定齒輪A16，所述齒輪A16與均勻溫度套上端面的齒面15齒合，所述齒輪A16通過設(shè)置在均勻溫度套上端面的齒面15帶動(dòng)均勻溫度套旋轉(zhuǎn)，所述動(dòng)力軸A14的另一端外接動(dòng)力，所述外接動(dòng)力與控制系統(tǒng)連接。結(jié)合附圖4中所述的加工晶體材料時(shí)對(duì)坩堝的均溫裝置，所述動(dòng)力機(jī)構(gòu)第三替換結(jié)構(gòu)，在均勻溫度套的上端外部設(shè)置外翻邊17，外翻邊17的下部面上設(shè)置環(huán)形向上凹陷的圓弧槽，形成滾動(dòng)體11的上滑道，在外翻邊17的下部設(shè)置托環(huán)12，所述托環(huán)12的外部由至少三根吊桿10連接，所述·吊桿10上端與爐室上部?jī)?nèi)壁連接，所述托環(huán)12的內(nèi)面與均勻溫度套的外部面間隔設(shè)置，在托環(huán)12的上部面上設(shè)有對(duì)應(yīng)外翻邊17圓弧槽的向下凹陷圓弧槽，形成滾動(dòng)體11的下滑道，外翻邊17圓弧槽與托環(huán)12的圓弧槽之間設(shè)有復(fù)數(shù)個(gè)滾動(dòng)體11，由于托環(huán)12固定不動(dòng)，則均勻溫度套轉(zhuǎn)動(dòng)，即使均勻溫度套一側(cè)面4和均勻溫度套另一側(cè)面9相對(duì)于坩堝2、加熱套一側(cè)面3和加熱套另一側(cè)面8的位置不斷變化，有效的克服了在裝爐中造成的坩堝與加熱套和均勻溫度套之間的不同心，從而使加熱套對(duì)坩堝2的加熱更加均勻，在均勻溫度套的下部外緣面上環(huán)繞設(shè)有外緣齒面18，設(shè)置在爐室下部的豎動(dòng)力軸B20上的齒輪B19與均勻溫度套的外緣齒面18齒合，所述齒輪B19下部設(shè)置的套管21與豎動(dòng)力軸B20連接，齒輪B19通過設(shè)置在均勻溫度套的下部外緣面上的外緣齒面18帶動(dòng)均勻溫度套轉(zhuǎn)動(dòng)，豎動(dòng)力軸B20的下部外接動(dòng)力，所述外接動(dòng)力與控制系統(tǒng)連接。結(jié)合附圖5中所述的加工晶體材料時(shí)對(duì)坩堝的均溫裝置，所述動(dòng)力機(jī)構(gòu)第四替換結(jié)構(gòu)，在均勻溫度套的下端外部設(shè)置下部外翻邊25，下部外翻邊25的下部面上設(shè)置環(huán)形槽24，所述環(huán)形槽24為均勻溫度套的轉(zhuǎn)動(dòng)軌道，在爐室下部設(shè)有至少三個(gè)支撐座13，所述支撐座13上設(shè)有一個(gè)動(dòng)力轉(zhuǎn)輪22，另外的支撐座13上設(shè)置為轉(zhuǎn)輪23且由軸26連接，所述動(dòng)力轉(zhuǎn)輪22和轉(zhuǎn)輪23對(duì)應(yīng)下部外翻邊25的環(huán)形槽24，從而使均勻溫度套按照預(yù)定位置進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，動(dòng)力轉(zhuǎn)輪22和轉(zhuǎn)輪23之間的間距為均勻設(shè)置，其中動(dòng)力轉(zhuǎn)輪22通過動(dòng)力軸A14的一端連接在支撐座13上，動(dòng)力軸A14的另一端外接動(dòng)力，所述外接動(dòng)力與控制系統(tǒng)連接。結(jié)合附圖6中所述的加工晶體材料時(shí)對(duì)坩堝的均溫裝置，所述動(dòng)力機(jī)構(gòu)第五替換結(jié)構(gòu)，在均勻溫度套的下端外部設(shè)置下部外翻邊25，下部外翻邊25的下部面上設(shè)置凸出環(huán)27，在爐室下部設(shè)有至少三個(gè)支撐座13，所述支撐座13上設(shè)有一個(gè)動(dòng)力槽輪28，另外的支撐座13上設(shè)置為槽輪29且由軸26連接，所述動(dòng)力槽輪28和槽輪29對(duì)應(yīng)下部外翻邊25的凸出環(huán)27，動(dòng)力槽輪28和槽輪29之間的間距為均勻設(shè)置，其中動(dòng)力槽輪28通過動(dòng)力軸A14的一端連接在支撐座13上，動(dòng)力軸A14的另一端外接動(dòng)力，所述外接動(dòng)力與控制系統(tǒng)連接。一種加工晶體材料時(shí)對(duì)坩堝的均溫方法，結(jié)合附圖1 6中包括坩堝2、均勻溫度套、加熱套和支撐體6，首先在坩堝2內(nèi)裝入適量的晶體料1，在坩堝2外部間隔設(shè)置有加熱套，所述坩堝2和加熱套同心設(shè)置，加熱套的兩側(cè)分別連接有電極A5和電極B7，由電極A5和電極B7分別連接加熱套的兩側(cè)使加熱套產(chǎn)生熱能，在所述坩堝2下部設(shè)置有支撐體6 ；在坩堝2與加熱套之間設(shè)有均勻溫度套，所述均勻溫度套與加熱器和坩堝2同心設(shè)置，所述溫度套通過動(dòng)力機(jī)構(gòu)帶動(dòng)旋轉(zhuǎn)，由加熱套傳遞熱能給均勻溫度套，由均勻溫度套將熱能傳遞給坩堝2，并通過均勻溫度套的不斷旋轉(zhuǎn)，使坩堝2獲取較為均勻的溫度，坩堝2內(nèi)的晶體料I也獲取較為均勻的加熱溫度。本發(fā)明適用于多晶硅、單晶硅和藍(lán)寶石的拉制。本發(fā)明未詳述部分為現(xiàn)有技術(shù)。 為了公開本發(fā)明的目的而在本文中選用的實(shí)施例，當(dāng)前認(rèn)為是適宜的，但是，應(yīng)了解的是，本發(fā)明旨在包括一切屬于本構(gòu)思和發(fā)明范圍內(nèi)的實(shí)施例的所有變化和改進(jìn)。
權(quán)利要求
1.一種加工晶體材料時(shí)對(duì)坩堝的均溫裝置，包括坩堝(2)、加熱套和支撐體￠)，其特征是:在坩堝(2)外部間隔設(shè)置有加熱套，加熱套的兩側(cè)分別連接有電極A(5)和電極B(7)，在所述坩堝(2)下部設(shè)置有支撐體(6);在坩堝(2)與加熱套之間設(shè)有均勻溫度套，所述溫度套通過動(dòng)力機(jī)構(gòu)旋轉(zhuǎn)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的加工晶體材料時(shí)對(duì)坩堝的均溫裝置，其特征是:所述電極A (5)和電極B (7)的其中一個(gè)為正極，另一個(gè)便是負(fù)極。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的加工晶體材料時(shí)對(duì)坩堝的均溫裝置，其特征是:所述加熱套的材質(zhì)為石墨、鎢或鑰的任意一種。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的加工晶體材料時(shí)對(duì)坩堝的均溫裝置，其特征是:所述動(dòng)力機(jī)構(gòu)第一結(jié)構(gòu)，在均勻溫度套的上端外部設(shè)置外翻邊(17)，外翻邊(17)的下部面上設(shè)置環(huán)形向上凹陷的圓弧槽，在外翻邊(17)的下部設(shè)置托環(huán)(12)，所述托環(huán)(12)的外部由至少三根吊桿(10)連接，所述吊桿(10)上端與爐室上部?jī)?nèi)壁連接，所述托環(huán)(12)的內(nèi)面與均勻溫度套的外部面間隔設(shè)置，在托環(huán)(12)的上部面上設(shè)有對(duì)應(yīng)外翻邊(17)圓弧槽的向下凹陷圓弧槽，外翻邊(17)圓弧槽與托環(huán)(12)的圓弧槽之間設(shè)有復(fù)數(shù)個(gè)滾動(dòng)體(11)，在均勻溫度套的下端面上設(shè)有齒面(15)，設(shè)置在爐室下部的支撐座(13)上部通過動(dòng)力軸A(14)的一端固定齒輪A(16)，所述齒輪A(16)與均勻溫度套下部面的齒面(15)齒合，所述動(dòng)力軸A(14)的另一端外接動(dòng)力。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的加工晶體材料時(shí)對(duì)坩堝的均溫裝置，其特征是:所述動(dòng)力機(jī)構(gòu)另一替換結(jié)構(gòu)，在均勻溫 度套的上端外部設(shè)置外翻邊(17)，外翻邊(17)的下部面上設(shè)置環(huán)形向上凹陷的圓弧槽，在外翻邊(17)的下部設(shè)置托環(huán)(12)，所述托環(huán)(12)的外部由至少三根吊桿(10)連接，所述吊桿(10)上端與爐室上部?jī)?nèi)壁連接，所述托環(huán)(12)的內(nèi)面與均勻溫度套的外部面間隔設(shè)置，在托環(huán)(12)的上部面上設(shè)有對(duì)應(yīng)外翻邊(17)圓弧槽的向下凹陷圓弧槽，外翻邊(17)圓弧槽與托環(huán)(12)的圓弧槽之間設(shè)有復(fù)數(shù)個(gè)滾動(dòng)體(11)，在均勻溫度套的上端面上設(shè)有齒面(15)，設(shè)置在爐室上部的支撐座(13)下部通過動(dòng)力軸A (14)的一端固定齒輪A(16)，所述齒輪A(16)與均勻溫度套上端面的齒面(15)齒合，所述動(dòng)力軸A(14)的另一端外接動(dòng)力。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的加工晶體材料時(shí)對(duì)坩堝的均溫裝置，其特征是:所述動(dòng)力機(jī)構(gòu)第三替換結(jié)構(gòu)，在均勻溫度套的上端外部設(shè)置外翻邊(17)，外翻邊(17)的下部面上設(shè)置環(huán)形向上凹陷的圓弧槽，在外翻邊(17)的下部設(shè)置托環(huán)(12)，所述托環(huán)(12)的外部由至少三根吊桿(10)連接，所述吊桿(10)上端與爐室上部?jī)?nèi)壁連接，所述托環(huán)(12)的內(nèi)面與均勻溫度套的外部面間隔設(shè)置，在托環(huán)(12)的上部面上設(shè)有對(duì)應(yīng)外翻邊(17)圓弧槽的向下凹陷圓弧槽，外翻邊(17)圓弧槽與托環(huán)(12)的圓弧槽之間設(shè)有復(fù)數(shù)個(gè)滾動(dòng)體(11)，在均勻溫度套的下部外緣面上環(huán)繞設(shè)有外緣齒面(18)，設(shè)置在爐室下部的豎動(dòng)力軸B (20)上的齒輪B (19)與均勻溫度套的外緣齒面(18)齒合，豎動(dòng)力軸B (20)的下部外接動(dòng)力。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的加工晶體材料時(shí)對(duì)坩堝的均溫裝置，其特征是:所述動(dòng)力機(jī)構(gòu)第四替換結(jié)構(gòu)，在均勻溫度套的下端外部設(shè)置下部外翻邊(25)，下部外翻邊(25)的下部面上設(shè)置環(huán)形槽(24)，在爐室下部設(shè)有至少三個(gè)支撐座(13)，所述支撐座(13)上設(shè)有一個(gè)動(dòng)力轉(zhuǎn)輪(22)，另外的支撐座(13)上設(shè)置為轉(zhuǎn)輪(23)且由軸(26)連接，所述動(dòng)力轉(zhuǎn)輪(22)和轉(zhuǎn)輪(23)對(duì)應(yīng)下部外翻邊(25)的環(huán)形槽(24)，動(dòng)力轉(zhuǎn)輪(22)和轉(zhuǎn)輪(23)之間的間距為均勻設(shè)置，其中動(dòng)力轉(zhuǎn)輪(22)通過動(dòng)力軸A (14)的一端連接在支撐座(13)上，動(dòng)力軸A (14)的另一端外接動(dòng)力。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的加工晶體材料時(shí)對(duì)坩堝的均溫裝置，其特征是:所述動(dòng)力機(jī)構(gòu)第五替換結(jié)構(gòu)，在均勻溫度套的下端外部設(shè)置下部外翻邊(25)，下部外翻邊(25)的下部面上設(shè)置凸出環(huán)(27)，在爐室下部設(shè)有至少三個(gè)支撐座(13)，所述支撐座(13)上設(shè)有一個(gè)動(dòng)力槽輪(28)，另外的支撐座(13)上設(shè)置為槽輪(29)且由軸(26)連接，所述動(dòng)力槽輪(28)和槽輪(29)對(duì)應(yīng)下部外翻邊(25)的凸出環(huán)(27)，動(dòng)力槽輪(28)和槽輪(29)之間的間距為均勻設(shè)置，其中動(dòng)力槽輪(28)通過動(dòng)力軸A (14)的一端連接在支撐座(13)上，動(dòng)力軸A(14)的另一端外接動(dòng)力。
9.實(shí)施權(quán)利要求1 8任一權(quán)利要求所述的加工晶體材料時(shí)對(duì)坩堝的均溫方法，其特征是:包括坩堝(2)、均勻溫度套、加熱套和支撐體￠)，在坩堝(2)外部間隔設(shè)置有加熱套，加熱套的兩側(cè)分別連接有電極A(5)和電極B(7)，由電極A(5)和電極B(7)分別連接加熱套的兩側(cè)使加熱套產(chǎn)生熱能，在所述坩堝(2)下部設(shè)置有支撐體￠);在坩堝(2)與加熱套之間設(shè)有均勻溫度套，所述溫度套通過動(dòng)力機(jī)構(gòu)旋轉(zhuǎn)，由加熱套傳遞熱能給均勻溫度套，由均勻溫度套將熱能傳遞給坩堝(2)，使坩堝(2)獲取較為均勻的溫度，坩堝(2)內(nèi)的晶體料(I)也獲取較為均勻 的加熱溫度。
全文摘要
一種加工晶體材料時(shí)對(duì)坩堝的均溫裝置及其方法，涉及一種坩堝的加熱方法，在坩堝(2)外部間隔設(shè)置有加熱套，加熱套的兩側(cè)分別連接有電極A(5)和電極B(7)，在所述坩堝(2)下部設(shè)置有支撐體(6)；在坩堝(2)與加熱套之間設(shè)有均勻溫度套，所述溫度套通過動(dòng)力機(jī)構(gòu)旋轉(zhuǎn)；本發(fā)明通過在坩堝與加熱套之間設(shè)置旋轉(zhuǎn)的均勻溫度套，均勻溫度套對(duì)坩堝加熱，所述坩堝內(nèi)的晶液便可保持一個(gè)平坦的固液交界面，拉制中克服了現(xiàn)有技術(shù)的晶震現(xiàn)象。
文檔編號(hào)C30B35/00GK103160933SQ20111044345
公開日2013年6月19日 申請(qǐng)日期2011年12月18日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月18日
發(fā)明者劉朝軒, 王晨光 申請(qǐng)人:洛陽金諾機(jī)械工程有限公司