專利名稱：生產(chǎn)微結(jié)構(gòu)化產(chǎn)品的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及微結(jié)構(gòu)化產(chǎn)品，本發(fā)明具體地涉及一種生產(chǎn)兩面微結(jié)構(gòu)化產(chǎn)品的方法 和用于生產(chǎn)這樣的產(chǎn)品的布置。
背景技術(shù)：
在許多產(chǎn)品分節(jié)中，產(chǎn)品特征的恰當配準或者對準至關(guān)重要。這樣的產(chǎn)品的例子 是合成圖像器件、全息器件、亮度增強器件、回射器件、電子電路器件、微流體器件、不同類 型的顯示器件及其組合。其他例子可以有更多化學性質(zhì)，比如電化學器件、電致變色器件、 生物測定器件等。產(chǎn)品特征的對準常常與在襯底的表面中或者表面上提供產(chǎn)品特征的后續(xù) 步驟有關(guān)，其中一個步驟的產(chǎn)品特征應(yīng)當與后續(xù)步驟的產(chǎn)品特征相互作用(或者被阻止與 其相互作用)。一些產(chǎn)品可以包括襯底的第一面上的主要產(chǎn)品特征和襯底的反面上的次要 產(chǎn)品特征，而其他產(chǎn)品包括三個或者更多對準的產(chǎn)品特征集。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的一個目的在于提供襯底的相應(yīng)面上的產(chǎn)品特征之間對準程度高的雙面 微結(jié)構(gòu)化產(chǎn)品。上述目的在本發(fā)明的第一方面中由如第一獨立權(quán)利要求限定的一種生產(chǎn)雙面微 結(jié)構(gòu)化產(chǎn)品的方法實現(xiàn)，在本發(fā)明的第二方面中由如第二獨立權(quán)利要求限定的一種配準 結(jié)構(gòu)實現(xiàn)，在本發(fā)明的第三方面中由如第三獨立權(quán)利要求限定的一種雙面微結(jié)構(gòu)化產(chǎn)品實 現(xiàn)，并且在本發(fā)明的第四方面中由根據(jù)最后一個獨立權(quán)利要求所述的一種用于生產(chǎn)這樣的 產(chǎn)品的布置實現(xiàn)。配準結(jié)構(gòu)的一個優(yōu)點在于它允許使用純可視手段來增強平面內(nèi)對準的配準準確度。另一優(yōu)點在于它提供平移和旋轉(zhuǎn)偏離二者的直觀指示。又一優(yōu)點在于它實現(xiàn)偏離的手動可視和自動評估二者。在權(quán)利要求書中限定本發(fā)明的實施例。本發(fā)明的其他目的、優(yōu)點和新穎特征從結(jié) 合附圖和權(quán)利要求書考慮時的對本發(fā)明的下列具體描述將變得清楚。


現(xiàn)在將參照附圖描述本發(fā)明的優(yōu)選實施例，附圖中圖1和圖2示意地示出了波紋型的全息呈現(xiàn)的原理；圖2b示意地圖示了全息呈現(xiàn)中的可變完整度；圖3a和圖3b示意地示出了用于提供根據(jù)圖1的全息呈現(xiàn)的兩個替代實施例；圖4a和圖4b示出了根據(jù)圖1的圖像對象的波紋型全息呈現(xiàn)的示意例子，但是其 中圖像對象陣列未參照聚焦元件陣列對準；圖5a至圖5d示意地示出了包括配準陣列的配準結(jié)構(gòu)的一個實施例；
圖6a至圖6c示出了包括參考對象互補子陣列的配準結(jié)構(gòu)的一個示意實施例；圖7a至圖7c示出了配準結(jié)構(gòu)的一個示意實施例，該配準結(jié)構(gòu)包括其中具有可區(qū) 分標志的參考對象互補子陣列；圖8a至圖8c示出了配準結(jié)構(gòu)的一個示意實施例，該配準結(jié)構(gòu)包括相鄰成對參考 對象互補子陣列之間的中間間隔；圖9a和圖9b示出了宏配準結(jié)構(gòu)的一個示意實施例；圖10是根據(jù)本發(fā)明的生產(chǎn)產(chǎn)品的方法的方案；圖Ila和圖lib示出了根據(jù)本發(fā)明的雙面微結(jié)構(gòu)化產(chǎn)品的示意例子；圖12a至圖12c示意地圖示了根據(jù)本發(fā)明的參考對象的不同橫截面形狀；圖13示意地圖示了根據(jù)本發(fā)明的階梯式參考對象；圖14示意地圖示了根據(jù)本發(fā)明的可以用于確定厚度的一個實施例；圖15示意地圖示了根據(jù)本發(fā)明的形成為套管的壓花板；圖16示出了根據(jù)本發(fā)明的用于生產(chǎn)產(chǎn)品的示意布置；圖17示出了根據(jù)本發(fā)明的用于生產(chǎn)產(chǎn)品的示意布置；圖18示出了根據(jù)本發(fā)明的用于生產(chǎn)產(chǎn)品的示意布置；以及圖19示意地圖示了根據(jù)本發(fā)明的卷到卷布置。
具體實施例方式圖1和圖2a示意地圖示了微透鏡20的陣列和關(guān)聯(lián)的圖像對象30的陣列。在圖1 中，出于示例目的將各透鏡示為圓圈20而將各圖像對象示為方形30。如圖所示，各微透鏡 20被布置成放大關(guān)聯(lián)圖像對象30的小部分40，從而當在與微透鏡20的陣列相距某一距離 處查看時感知合成整體三維圖像。在本技術(shù)領(lǐng)域中，這一放大效果常稱為波紋放大并且它 使用于全息攝影中。因此出于本申請的目的，合成整體三維圖像出于本申請的目的稱為全 息呈現(xiàn)10，并且圖1和圖2a示意地示出了波紋型全息呈現(xiàn)10背后的原理。圖2a更詳細地 示出了如何構(gòu)造圖像對象沿著圖1的線C-C的全息呈現(xiàn)10。微透鏡20布置于與圖像對象 30相距如下距離處，該距離基本上等于如圖2a中的虛線所示的微透鏡焦距。然而，如本領(lǐng) 域中眾所周知，可以選擇從焦距的有意偏離以及適應(yīng)該偏離的結(jié)構(gòu)。通過在適當厚度的基 本上透明襯底片50的第一表面布置微透鏡20而在反表面布置圖像對象30，可以在陣列之 上提供正確距離。如圖所示，在C-C方向上在兩個相繼微透鏡20之間的重復(fù)周期為&，并 且在相同方向上在兩個相繼圖像對象之間的重復(fù)周期為仏=PfΔ。為了實現(xiàn)恰當整體呈 現(xiàn)，選擇圖像對象的移位Δ使得通過兩個相鄰微透鏡查看的圖像對象的部分基本上相鄰， 因此產(chǎn)生放大的圖像對象的所感知的呈現(xiàn)。在圖2a中，將圖像對象30公開為形成于襯底 片50的反表面中，但是圖像對象也可以形成于反表面上，或者襯底片50可以包括第一箔和 第二箔，其中微透鏡20布置于第一箔的表面，而圖像對象布置于第二箔的表面，并且第一 箔和第二箔例如層壓在一起以形成襯底片50。根據(jù)本發(fā)明，圖像對象無需在與襯底片的表 面正交的方向、即“厚度”方向上延伸。這一類波紋放大所實現(xiàn)的放大因子m由以下表達式給出
m = Pl/ (Pl-P0) = Pl/ Δ(1) 此后，放大率對于移位Δ的更小值而言更大。根據(jù)希望的呈現(xiàn)效果，透鏡重復(fù)周期的典型值為10 μ m或者更少和直至200 μ m或者更多，并且移位Δ的典型值為0. 1 μ m 或者更少和直至5μπι或者更多。因此，可以實現(xiàn)的放大效果可以從數(shù)倍直至數(shù)千倍。參照圖2b，圖像對象30的小部分的寬度W依賴于與微透鏡20相距這一距離處的 聚焦。寬度W取決于微透鏡20與圖像對象30之間的距離和微透鏡20的性質(zhì)。像差(球 面、像散、色差)可能引起寬度W的增加，并且通過選擇與焦點接近的距離可以使寬度W最 小化。如果寬度W等于Δ，則將在放大的整體圖像中完整地呈現(xiàn)圖像對象30。如果W少于 Δ，則將不完整地呈現(xiàn)圖像對象30，即在全息呈現(xiàn)10中將缺乏信息，并且與此相反，如果W 大于Δ，則圖像對象的一部分將由兩個相鄰微透鏡成像，即在全息呈現(xiàn)中有重疊信息。圖3a和圖3b示意地示出了用于提供根據(jù)圖1的全息呈現(xiàn)的兩個替代實施例。在 圖3a中，微透鏡陣列為微孔60的陣列所取代，并且各微孔60約束關(guān)聯(lián)圖像對象30的視 圖，從而通過微孔60的陣列感知整體視圖10。在圖3b中，圖像對象30的陣列為至少部分 地透明，并且微透鏡陣列為聚焦微鏡75的陣列所取代。當從圖像對象這一側(cè)查看時，各鏡 75提供關(guān)聯(lián)圖像對象30的預(yù)定部分的聚焦視圖，并且整體視圖被感知為圖像對象30的全 息呈現(xiàn)10。這里，如上所示能夠聚焦于關(guān)聯(lián)圖像對象的部分和/或約束關(guān)聯(lián)圖像對象的視圖 的任何元件將稱為聚焦元件20。這樣的聚焦元件20的例子是各種類型的微透鏡、孔、鏡等。圖4a和圖4b示出了根據(jù)圖1的圖像對象30的波紋型全息呈現(xiàn)10的示意例子， 但是其中圖像對象30的陣列未參照聚焦元件20(微鏡)的陣列對準。在圖4a中，圖像對 象30的陣列以聚焦元件20的陣列為參照分別在χ和y方向上移位dx和dy。由于放大效 果，移位dx和dy造成波紋型全息呈現(xiàn)10平移Dx和Dy，其中Dx m*dx和Dy m*dy。因此， 純平移性質(zhì)的移位造成全息呈現(xiàn)的放大平移。在圖4b中，圖像對象30的陣列以聚焦元件20的陣列為參照被移位旋轉(zhuǎn)α。如圖 中可見，在相鄰聚焦元件20與它們的關(guān)聯(lián)圖像對象30之間的指定關(guān)系現(xiàn)在失真，這導(dǎo)致全 息呈現(xiàn)10的不合邏輯的移動。所得全息呈現(xiàn)10被旋轉(zhuǎn)β (β表示通過放大效果來實現(xiàn)的 旋轉(zhuǎn)放大)，但是圖像對象的全息呈現(xiàn)10的尺寸與在對準狀態(tài)中時相比減少。對旋轉(zhuǎn)移位 的波紋放大根據(jù)以下近似依賴于旋轉(zhuǎn)角度m ( α ) = Pl/ (Pl_P。cos (α ))(2)對于少量旋轉(zhuǎn)未對準，即當α 0時，有可能按照等式(1)來估計角度放大，因為 cos(O) =1。因此在三個自由度上適當?shù)夭鸱侄S平面中的未對準移位在χ和y方向上 的平移以及旋轉(zhuǎn)α。圖像對象的全息呈現(xiàn)10的由于在平面中的任意移位(X(l，y0, α0)而 產(chǎn)生的移位因此可以近似為(m*X(1，m*y0, m* α J。因此圖4b中的旋轉(zhuǎn)移位β可以近似為
m氺α 0根據(jù)圖5a至圖5d中示意地公開的本發(fā)明一個實施例，引入波紋型全息呈現(xiàn)IOA 和IOB的放大效果，以提高可以在生產(chǎn)如下產(chǎn)品時使用的或者用于檢查如下產(chǎn)品的配準結(jié) 構(gòu)70的準確度，這些產(chǎn)品在襯底片50的第一表面具有主要產(chǎn)品特征80而在襯底片50的 反表面具有次要產(chǎn)品特征90。配準結(jié)構(gòu)70包括在襯底片50的透明部分的第一表面處的 聚焦元件20的配準陣列和在襯底片50的透明部分的反表面處的參考對象30的配準陣列。 聚焦元件20的配準陣列在襯底片50的第一表面與主要產(chǎn)品特征80對準，并且參考對象30 的配準陣列在襯底片50的反表面與次要產(chǎn)品特征90對準。
根據(jù)圖5e中示意地公開的本發(fā)明一個實施例，引入波紋型全息呈現(xiàn)IOA和IOB以 提高如下配準結(jié)構(gòu)70的準確度，該配準結(jié)構(gòu)可以用來在第一箔51布置于第二箔52上時對 準在第一箔52的第一表面處的主要產(chǎn)品特征80和在第二箔52的反表面處的次要產(chǎn)品特 征90。配準結(jié)構(gòu)70包括在第一箔51的透明部分的第一表面處的聚焦元件20的配準陣列 和在第二箔52的透明部分的反表面處的參考對象30的配準陣列。聚焦元件20的配準陣 列在第一箔51的第一表面與主要產(chǎn)品特征80對準，并且參考對象30的配準陣列在第二箔 52的反表面與次要產(chǎn)品特征90對準。通過布置箔相互有預(yù)定距離，例如相互接觸(其中 箔的厚度確定預(yù)定距離)，可以提供聚焦元件20的配準陣列與參考對象30的配準陣列之 間的正確距離，即各聚焦元件20布置于與關(guān)聯(lián)參考對象30相距與它的焦距基本上相等的 距離處。不同箔上的主要和次要產(chǎn)品特征80、90的對準是為了與襯底片50的主要和次要 產(chǎn)品特征80、90的對準類似地考慮的本申請的目的。另外，在生產(chǎn)在襯底片50的第一表面 有主要產(chǎn)品特征80而在襯底片50的反表面有次要產(chǎn)品特征90的產(chǎn)品時，襯底片常稱為幅 (web)，因而在本申請的說明書全文中可互換地使用術(shù)語襯底片、箔和幅。如上文討論的那樣，聚焦元件20的配準陣列可以是微透鏡陣列、聚焦微鏡陣列、 微孔陣列或者能夠提供所需聚焦效果的任何其他元件的陣列。根據(jù)所用聚焦元件20的類 型，如根據(jù)圖1至圖3b清楚的那樣，必須從襯底片50的適當面查看所得全息呈現(xiàn)(即在具 有聚焦微鏡的實施例中，必須從“反”面查看全息呈現(xiàn))。另外如上文提到的那樣，聚焦元件 20的焦距基本上等于襯底片50的厚度。通過布置聚焦元件20的配準陣列和參考對象30的配準陣列以提供參考對象30 的波紋型全息呈現(xiàn)10，將在全息呈現(xiàn)10中放大陣列之間的任何相對未對準。為了實現(xiàn)提高 的可讀性并且甚至進一步增強準確度，參考對象30的配準陣列分別包括一對或者多對參 考對象30A和30B的相鄰互補子陣列。術(shù)語參考對象30A和30B的相鄰互補子陣列是指如 下參考對象陣列，這些參考對象陣列在聚焦元件配準陣列給定時響應(yīng)于在一個或者多個平 移或者旋轉(zhuǎn)方向上的未對準移位而引起參考對象30A和30B的偏離全息呈現(xiàn)效果，從而未 對準變得更易于檢測。例如在參考對象30A和30B的互補子陣列在至少一個方向上具有不 同重復(fù)周期時實現(xiàn)這樣的偏離全息呈現(xiàn)效果。根據(jù)一個實施例，聚焦元件20的配準陣列在第一方向a上具有重復(fù)周期I\a，在a 方向上參考對象30A的第一子陣列具有重復(fù)周期P。+ Δ并且參考對象30Β的第二子陣列具 有重復(fù)周期I\a-Δ。為了進一步有助于可讀性等，在參考對象30Α和30Β的第一與第二子 陣列之間的界面基本上在a方向上延伸。圖5a至圖5d示意地示出了配準結(jié)構(gòu)70的一個例子，該配準結(jié)構(gòu)具有在第一方向 a上的重復(fù)周期為P^形式為微透鏡等的聚焦元件20的配準陣列。條形參考對象30A的第 一子陣列具有重復(fù)周期PlJ Δ，這產(chǎn)生全息呈現(xiàn)10Α，并且參考對象30Β的第二子陣列在a 方向上具有重復(fù)周期PLa- Δ，這產(chǎn)生全息呈現(xiàn)10Β，基于等式(1)可以推斷重復(fù)周期為P。+Δ的參考對象30Α的第一子陣列的全息 呈現(xiàn)將被放大_m，而第二子陣列30B將被放大+m。因此對于參考對象30A和30B的兩個子 陣列的放大程度相等，但是第一子陣列30A的全息呈現(xiàn)將反向。因此，未對準移位(X(l，y0, α ο)將造成針對第一子陣列30Α的全息呈現(xiàn)的移位(_mX(l，-my0, -ma0)和針對第二子陣列 30B的全息呈現(xiàn)的移位OiD^mytl,ma J。換而言之，兩個子陣列30A和30B的全息呈現(xiàn)中的動態(tài)將總是反向或者相反。圖5b示意地示出了根據(jù)圖5a的配準結(jié)構(gòu)，其中聚焦元件20和參考對象30的配 準陣列分別在方向a上未對準小段距離X00可見，兩個子陣列30A和30B的全息呈現(xiàn)IOA 和IOB的所得移位為2m*X(1。圖5c是相似示意圖，其中聚焦元件20和參考對象30的配準 陣列分別未對準少量旋轉(zhuǎn)α C1，這產(chǎn)生全息呈現(xiàn)IOA和IOB有2m* α ^的相對旋轉(zhuǎn)。按照表 達式⑴和(2)，旋轉(zhuǎn)α。給出子陣列30Α的全息呈現(xiàn)IOA的旋轉(zhuǎn)β，而子陣列30Β的反向 全息呈現(xiàn)IOB被旋轉(zhuǎn)-β，這顯著地提高旋轉(zhuǎn)未對準的可讀性。圖5d示出了圖5a的配準結(jié) 構(gòu)70的示意橫截面圖，該配準結(jié)構(gòu)具有在襯底片50的第一表面與聚焦元件20的配準陣列 對準的主要產(chǎn)品特征80以及在襯底片50的反表面與參考對象30的配準陣列對準的次要 產(chǎn)品特征90。具有主要和次要產(chǎn)品特征80和90的襯底部分形成使用與配準結(jié)構(gòu)的對準來 生產(chǎn)的產(chǎn)品100。如上例中公開的那樣，第一和第二子陣列的參考對象30可以是給出未對 準狀態(tài)直接指示的形狀，例如條形。通過使參考對象在a方向上對稱，易于識別理想對準。根據(jù)一個實施例，如圖5a至圖5d中所示，第一和第二子陣列的參考對象30是布 置成縱向橫切a方向的條形。為了在平面中的所有方向上配準該對準，參考對象30的配準 陣列可以包括兩對或者更多對參考對象30A和30B的互補子陣列，如圖6至圖8中所示，第 一對可以布置成顯示在第一方向、例如χ方向上的未對準，并且第二對可以布置成顯示在 與第一方向不同的第二方向、例如y方向上的未對準。根據(jù)一個實施例，第二方向橫切第一 方向，并且如果第一和第二方向正交，則對各方向上的對準的讀取相互獨立。圖6a至圖6c示出了配準結(jié)構(gòu)70的一個示意實施例，該配準結(jié)構(gòu)包括分別具有全 息呈現(xiàn)IOAX和IOBX的第一對參考對象互補子陣列以及分別具有全息呈現(xiàn)IOAY和IOBY的 第二對參考對象互補子陣列。全息呈現(xiàn)IOAX和IOBX給出在X方向上的對準的直接和直觀 指示，并且IOAY和IOBY給出在Y方向上的對準的直接和直觀指示。圖6a圖示了響應(yīng)于旋 轉(zhuǎn)未對準的所得配準，其中兩對互補配準對象10AX-10BX和10AY-10BY相對于彼此旋轉(zhuǎn)以 形成ν形狀。圖6b圖示了響應(yīng)于在X和Y方向上的純平移未對準的所得配準，其中兩對互 補配準對象10AX-10BX和10AY-10BY相對于彼此平移。圖6c圖示了響應(yīng)于恰當對準情形 的所得配準，其中兩對互補配準對象10AX-10BX和10AY-10BY相對于彼此對準。如上文提到的那樣，存在在襯底片的反面上具有多于兩組的次要產(chǎn)品特征90的 產(chǎn)品，并且在這樣的情況下，可以在襯底片50的透明部分的反表面提供參考對象30的一個 或者多個附加配準陣列，各附加配準陣列在襯底片50的反表面與關(guān)聯(lián)附加產(chǎn)品特征(圖中 未示出)對準?？梢蕴峁┋B加到先前配準陣列上或者與先前配準陣列相鄰的參考對象30 的附加配準陣列。根據(jù)一個實施例，布置全息配準結(jié)構(gòu)70用于饋送方向如X的連續(xù)生產(chǎn)工藝和直接 反饋型對準工藝，其中基本上連續(xù)地在饋送方向上重復(fù)配準結(jié)構(gòu)70。根據(jù)一個實施例，提供 配準結(jié)構(gòu)70作為沿著襯底片50的實際長度、例如沿著一個或者兩個縱向邊或者在中間位 置形成的半連續(xù)配準結(jié)構(gòu)70。如圖7a至圖8c中公開的那樣，第一對參考對象互補子陣列 布置成顯示橫切饋送方向的未對準，并且形成重復(fù)配準結(jié)構(gòu)使得在所述第一對中的參考對 象在饋送方向上相互可區(qū)分。也可以存在布置成顯示在饋送方向上的未對準的第二對參考 對象互補子陣列。為了使布置成顯示橫切饋送方向的未對準的參考對象在饋送方向上相互可區(qū)分，向圖7a至圖7c中的參考對象B的子陣列提供形式為方形的可區(qū)分標志。根據(jù)圖8a至圖 8c中公開的另一實施例，通過在相鄰對之間提供中間空間來區(qū)分布置成顯示橫切饋送方向 的未對準的參考對象。在又一實施例中，相鄰對或者相鄰組的參考對象由線分開。可以通 過布置在對或者組之間生成線的圖像對象來形成這樣的線。由于配準結(jié)構(gòu)70的周期性質(zhì)，沒有可能將配準結(jié)構(gòu)用于宏觀配準或者對準。因 此，如圖9a和圖9b中示意地公開的那樣，可以提供宏配準結(jié)構(gòu)以在配準結(jié)構(gòu)70用于高精 度對準之前保證宏對準。從以上圖1和圖2可以推斷在該結(jié)構(gòu)中沿著重復(fù)軸的純移位造成 全息呈現(xiàn)各自移位1/2的周期重復(fù)。因此，宏配準結(jié)構(gòu)110應(yīng)當設(shè)計成提供少于1/2的對 準準確度。根據(jù)一個實施例，基本上整個第一表面具有聚焦元件陣列，其中聚焦元件配準陣 列集成為大陣列的一個或者多個部分。根據(jù)一個實施例，襯底片在單獨工藝中、例如在生產(chǎn) 片時在其一面上裝設(shè)聚焦元件陣列，并且配準結(jié)構(gòu)用來對準在其反面上的產(chǎn)品特征。根據(jù)本發(fā)明的一個實施例，提供一種雙面微結(jié)構(gòu)化產(chǎn)品，該產(chǎn)品包括在襯底片的 第一面處提供的主要產(chǎn)品特征，與主要產(chǎn)品特征對準的在襯底的反面處提供的次要產(chǎn)品特 征，以及根據(jù)上述的全息配準結(jié)構(gòu)。舉例而言，全息配準結(jié)構(gòu)可以用來提供與主要和次要產(chǎn) 品特征的對準準確度有關(guān)的信息，以便在制造雙面微結(jié)構(gòu)化產(chǎn)品的工藝中給出反饋或者以 便為其他目的如質(zhì)量控制獲取所述信息。根據(jù)本發(fā)明的一個實施例，提供一種雙面微結(jié)構(gòu)化產(chǎn)品，該產(chǎn)品包括在第一箔的 第一表面處提供的主要產(chǎn)品特征，在第二箔的反表面處提供的適合于與主要產(chǎn)品特征對準 的次要產(chǎn)品特征，以及根據(jù)上述的全息配準結(jié)構(gòu)。在該產(chǎn)品的使用中，全息配準結(jié)構(gòu)可以用 來將主要和次要產(chǎn)品特征相互對準。所述兩面微結(jié)構(gòu)化產(chǎn)品可以是合成圖像器件、全息器件、亮度增強器件、回射器 件、電子電路器件、微流體器件、顯示器件、其組合或者在生產(chǎn)工藝中的中間產(chǎn)品。根據(jù)一個實施例，提供一種配準結(jié)構(gòu)，該配準結(jié)構(gòu)具有重復(fù)周期為P。= 67. OOym 的聚焦元件，重復(fù)周期為U Δ = 68. 34 μ m的參考對象30A的第一子陣列，以及重復(fù)周期 為= 65. 66 μ m的參考對象30B的第二子陣列。根據(jù)等式(1)，用于這一例子的放大 率則為m = 50倍。假設(shè)圖像場為10x10mm2，并且參考對象30A和30B的寬度近似為10 μ m, 那么在圖像場中分別提供參考對象30A和30B的約3個條形全息呈現(xiàn)IOA和10B。以聚焦 元件20的配準陣列為參照在參考對象30A和30B的配準陣列之間的1 μ m移位造成全息呈 現(xiàn)IOA和IOB的50 μ m移位。假設(shè)相機像素尺寸為10x10 μ m2，50 μ m移位對應(yīng)于5個相機 像素，這表示可清楚檢測的移位并且在具體情況下為0. 2μπι的理論分辨率。這一例子給 出本配準結(jié)構(gòu)可以獲得的配準準確度增強的一個例子，并且如根據(jù)上述一般公開清楚的那 樣，該配準頗為通用，并且可以適配所需準確度。為了進一步說明這一點，少于0. Ιμπι的Δ 是可行的，并且由于分辨率隨著尺寸而線性地縮放，所以數(shù)nm的配準分辨率是可行的。圖10示意地示出了一種生產(chǎn)兩面微結(jié)構(gòu)化產(chǎn)品的方法的一個實施例，該方法包 括以下步驟(圖1)-800在襯底片的第一表面提供主要產(chǎn)品特征，-810在襯底片的反表面提供次要產(chǎn)品特征，-820配準主要和次要產(chǎn)品特征的相 對準以估計對準參數(shù)，以及
-830通過按照對準參數(shù)的反饋控制提供產(chǎn)品特征的至少一個步驟來對準主要和 次要產(chǎn)品特征的提供。根據(jù)本發(fā)明方法的一個實施例，提供主要產(chǎn)品特征80和提供次要產(chǎn)品特征90的 步驟包括沿著襯底片50在連續(xù)工藝中重復(fù)提供主要產(chǎn)品特征80的集合和次要產(chǎn)品特征90 的集合的步驟。在本申請全文中，術(shù)語微結(jié)構(gòu)化產(chǎn)品是指具有功能微觀產(chǎn)品特征的產(chǎn)品。微結(jié)構(gòu) 化產(chǎn)品特征可以是2或者3維特征，并且可以通過下文列舉的多種技術(shù)來提供。兩面產(chǎn)品 定義為如下產(chǎn)品，其中在襯底片的第一面處的至少一個產(chǎn)品特征布置成與在襯底片的第二 表面處的至少一個產(chǎn)品特征相互作用，并且該相互作用依賴于所述產(chǎn)品特征在三個維度上 的相對對準。在圖Ila和圖lib中公開了兩面微結(jié)構(gòu)化產(chǎn)品IOOa和IOOb的示意例子。所 述產(chǎn)品IOOa和IOOb包括襯底50的第一面上的主要產(chǎn)品特征80和其第二面上的次要產(chǎn)品 特征90。圖Ila示出了波紋型全息器件100a，該器件具有形式為微透鏡的主要產(chǎn)品特征80 和形式為壓花特征的次要產(chǎn)品特征90。圖lib示出了具有對準的主要產(chǎn)品特征80a和80b 這兩個集合以及對準的次要產(chǎn)品特征90a和90b這兩個集合的組合器件。圖lib中的產(chǎn)品 特征可以通過這里公開的任何技術(shù)來提供并且布置成提供所需相互作用效果。襯底片50可以包括任何片材料。在生產(chǎn)中，襯底片也稱為幅。襯底片可以基 本上透明、半透明或者不透明，但是為了實現(xiàn)產(chǎn)品特征在其雙面上的對準，透明度減少 的襯底可以包括專用于光學配準步驟的一個或者多個基本上透明部分。襯底片可以包 括紙、膜式材料或者金屬如鋁。襯底片可以是一個或者多個片/箔或者幅的形式?？?以澆鑄、砑光、吹制、擠壓和/或雙軸地擠壓襯底片。襯底片可以包括聚合物。襯底 片可以包括從包括聚對苯二甲酸乙二醇酯(polythyleneter印hthalate)、聚甲基丙 烯酸甲酉旨(polymetylenemetacrylate)、聚丙烯雙向膜(polypropylenepropaf ilm)、 聚氯乙烯(polyvinylchloride)、硬pvc、纖維素、三乙酸酯(tri-acetate)、聚苯乙烯 乙酸酯(acetate polystyrene)、聚乙烯、尼龍、丙烯酸酯(acrylic)和聚醚酰亞胺 (polytherimide)板的組中選擇的任何一種或者多種。襯底片可以包括由木漿或者棉花或 者合成無木纖維制成的紙?？梢酝扛病㈨脊饣蛘邫C械拋光紙。提供產(chǎn)品特征的步驟800和810可以通過大量不同技術(shù)和工藝類型(比如不同類 型的印刷、壓花、連續(xù)澆鑄、表面涂覆、層壓或者其組合)來進行。印刷技術(shù)的例子包括網(wǎng) 印、膠印、苯胺印刷、噴墨印刷等。根據(jù)一個實施例，在襯底片提供產(chǎn)品特征的一個或者多個步驟800和810可以包 括在襯底片的至少部分上沉積可固化的化合物?？梢越柚障喟及婊蛘弑桨吠拱嬗∷⒒蛘?適當?shù)娜魏纹渌夹g(shù)來沉積可固化的化合物?？梢酝ㄟ^電磁輻射如紫外線(UV)光或者電 子束、熱輻射等來固化可固化的化合物。根據(jù)一個實施例，通過輥壓工藝如輥壓壓花或者印刷工藝來進行提供產(chǎn)品特征的 一個或者多個步驟800和810，其中在輥上提供負圖案并且通過輥壓工藝向襯底片轉(zhuǎn)印該 圖案。如上文討論的那樣，圖案可以直接壓花到襯底片的表面中或者襯底片的表面上提供 的化合物層中。進一步如上文討論的那樣，產(chǎn)品100可以是具有需要對準的微結(jié)構(gòu)化產(chǎn)品特征80 和90的兩個或者更多集合的任何產(chǎn)品。根據(jù)一個實施例，提供次要產(chǎn)品特征的步驟810、配準主要和次要產(chǎn)品特征的相互對準的步驟820以及對準主要和次要產(chǎn)品特征的步驟830重 復(fù)一次或者多次，以提供具有各自與主要產(chǎn)品特征對準的兩個或者更多次要產(chǎn)品特征的產(chǎn) 品100。應(yīng)當注意無需按指定順序進行提供主要產(chǎn)品特征的步驟800和提供次要產(chǎn)品特征 的步驟810，其中可以先提供產(chǎn)品特征中的任一種。然而，在當產(chǎn)品包括在單獨步驟中提供 的一個或者多個附加產(chǎn)品特征時的情況下，主要產(chǎn)品特征80必須先存在以便能夠?qū)崿F(xiàn)對 準附加產(chǎn)品特征90的步驟。可以與提供產(chǎn)品特征的第二(或者后續(xù))步驟整體地進行對 準步驟830。根據(jù)一個實施例，配準主要和次要產(chǎn)品特征的相互對準的步驟820包括識別主要 和次要產(chǎn)品特征的相對位置860。該識別可以基于各種檢測技術(shù)以及光學檢查和圖像分析 及其組合。在一個實施例中，形成主要和次要產(chǎn)品特征以互相作用以產(chǎn)生諸如全息呈現(xiàn)等 光學效果。波紋型全息呈現(xiàn)給出與兩個產(chǎn)品特征集合的未對準有關(guān)的直接信息。如圖4a中 公開的那樣，在平移或者橫切方向上的未對準造成全息呈現(xiàn)從所需位置的放大移位，而圖 4b的角度未對準造成全息呈現(xiàn)的減少放大以及該呈現(xiàn)從所需位置的放大角度未對準。這樣 的移位和角度偏離可以由如下圖像分析系統(tǒng)識別，該系統(tǒng)持續(xù)地配準和比較后續(xù)全息呈現(xiàn) 以檢測任何偏離并且估計對準參數(shù)。根據(jù)一個實施例，提供具有預(yù)定位置和尺寸的一個或 者多個非全息參考符號，這些參考符號可以用作參考對象以檢測產(chǎn)品特征的全息呈現(xiàn)中的 偏離。根據(jù)一個實施例，配準主要和次要產(chǎn)品特征的相互對準的步驟包括識別配準結(jié) 構(gòu)的主要和次要配準特征的相對位置890，其中在襯底片的第一表面提供與主要產(chǎn)品特征 對準的主要配準特征870并且在襯底片的反表面提供與次要產(chǎn)品特征對準的次要配準特 征880。這樣的主要和次要配準特征可以用許多方式來設(shè)計并且適合于許多方式的配準 以提供少于5(^111、2(^111、1(^111、5 4 111、優(yōu)選少于2 4 111、更優(yōu)選少于1 μ m、進一步優(yōu)選少于 0. 5μπι并且最優(yōu)選少于0. 2μπι的配準分辨率。如上文提到的那樣，配準分辨率可以甚至進 一步減少至數(shù)nm，然而，作為用于配準相互對準以在生產(chǎn)工藝中提供對準反饋的手段，出于 實際原因而常常限制配準分辨率。然而，少于0. 1 μ m、優(yōu)選少于0. 01 μ m的高配準分辨率的 可行性可以用作為用于配準相互對準以在生產(chǎn)工藝中提供對準反饋的手段，但是優(yōu)選用于 其他目的，比如對準單獨箔或者質(zhì)量控制。根據(jù)本發(fā)明的一個實施例，在襯底片的第一表面處的所有聚焦元件20提供相同 放大率，并且產(chǎn)品特征、配準特性、參考對象等適應(yīng)該放大率。根據(jù)本發(fā)明的另一個實施例，聚焦元件20具有分別用于參考對象配準陣列和次 要產(chǎn)品特征陣列的不同放大率，其中可以選擇配準陣列中的放大率以與產(chǎn)品特征的成像中 的放大率獨立地實現(xiàn)高分辨率配準。根據(jù)上文詳細公開的一個實施例，主要配準特征包括聚焦元件20的配準陣列，并 且次要配準特征包括參考對象30的配準陣列。另外，聚焦元件配準陣列和參考對象配準陣 列布置成提供參考對象的波紋型全息呈現(xiàn)，并且其中參考對象配準陣列包括一對或者多對 參考對象相鄰互補子陣列。這樣的配準可以設(shè)計成實現(xiàn)高度直觀的配準而仍然提供很好的 配準分辨率。識別和估計是否必須調(diào)節(jié)對準的操作者可以視覺上進行全息配準結(jié)構(gòu)的全息 呈現(xiàn)的配準。但是為了避免主觀配準并且實現(xiàn)更高生產(chǎn)速率，配準可以由諸如激光掃描儀、 相機等光學配準單元進行。識別全息呈現(xiàn)的相對位置和估計對準參數(shù)的步驟然后可以由圖像處理單元進行。如上文參照圖5至圖8討論的那樣，為了實現(xiàn)高生產(chǎn)速率，成對互補子陣 列中的參考對象應(yīng)當設(shè)計成實現(xiàn)快速識別和估計。另外，如下文進一步討論的那樣，也可以 使用傅里葉分析和3維參考對象。根據(jù)本發(fā)明的一個實施例，圖像配準單元配準的全息呈現(xiàn)的圖像可以用來基于捕 獲的圖像來估計產(chǎn)品質(zhì)量。這樣的質(zhì)量評估在產(chǎn)品為波紋型全息器件時尤為有用，因為配 準對象的全息呈現(xiàn)然后也可以用來評估與產(chǎn)品特征的對準無關(guān)的質(zhì)量參數(shù)，比如襯底片的 材料性質(zhì)、從預(yù)定周期性的偏離、襯底片張力、隔離的誤差、灰塵等。例如，可以通過監(jiān)視配 準對象的全息呈現(xiàn)在平移方向和/或橫切方向上的周期性來識別襯底片張力。類似于上文討論，可以通過從手動光學檢查(肉眼)到使用不同類型的光學視覺 系統(tǒng)(任何波長、單色光、可見光、IR、X射線等)的分析(有或者無自動化圖案識別)這些 各種技術(shù)來進行主要和次要產(chǎn)品特征的相互對準的配準以估計對準參數(shù)。另一例子是光學 信號測量系統(tǒng)，其中配準結(jié)構(gòu)可以設(shè)計成生成如下不同信號，這些信號告知何時進入或者 退出配準和多少配準而不是讀取圖像。又一例子是聲學阻抗測量系統(tǒng)，其中例如在橫切箔 襯底的方向上發(fā)送已知形狀的超聲波(機械波)。根據(jù)微結(jié)構(gòu)的配準，反射或者透射聲學阻 抗將看起來不同。特別對準結(jié)構(gòu)可以設(shè)計成在理想配準時生成反射或者透射阻抗的顯著峰 值。類似地，可以基于與上文針對超聲提到的原理相同的原理來使用磁場或者電場阻抗測 量系統(tǒng)。在待配準的箔內(nèi)施加已知場并且測量反射或者透射場。類似地，特別對準結(jié)構(gòu)可 以設(shè)計成在理想配準時生成反射或者透射阻抗的顯著峰值。對準參數(shù)的一個例子是在縱向 和橫切方向上的直接偏離參數(shù)以及角度偏離參數(shù)。根據(jù)本發(fā)明的一個實施例，在配準主要和次要產(chǎn)品特征的相互對準的步驟中使用 傅里葉分析。傅里葉分析例如可以在配準結(jié)構(gòu)的圖像分析中用來隔離與配準結(jié)構(gòu)對應(yīng)的信 息或者隔離與任何周期特征對應(yīng)的信息以跟蹤隔離的誤差。這由于參考對象30的配準陣 列的周期性而是可能的。來自傅里葉分析的數(shù)據(jù)的圖像呈現(xiàn)將示出與配準結(jié)構(gòu)和透鏡周期 對應(yīng)的峰值。由于透鏡周期是預(yù)定的，所以可以控制這一點以便獲得粗略對準或者監(jiān)視由 于任何調(diào)節(jié)所致的透鏡周期改變以便對準主要和次要產(chǎn)品特征的提供。如上文提到的那樣，圖像對象無需在“厚度”方向上延伸。然而，3維參考對象可以 用來改進主要和次要產(chǎn)品特征的相互對準的配準。圖12a至圖12c示意地圖示了參考對象 30的配準陣列的橫截面。在圖12a中，參考對象具有銳邊，并且成像基于臨界區(qū)120中的菲 涅耳反射/折射，其中存在從一級到另一級的突變臺階。參照圖12b至圖12c，通過讓參考 對象30有圓形形狀，即3維形狀，可以延伸臨界區(qū)120并且可以提高配準中的準確度。具 體而言，參考對象30的3維形狀可以與傅里葉分析一起使用。至此已經(jīng)針對襯底片的平面中的2D對準描述了包括全息呈現(xiàn)對準的主要和次要 產(chǎn)品特征相互對準(下文稱為x，y_配準)。另外，可以配準主要和次要產(chǎn)品特征在與襯底 片的表面正交的方向上的相互對準(下文稱為ζ-配準)。因此，主要和次要產(chǎn)品特征的相 互對準的配準可以是三維的。如當描述上述全息呈現(xiàn)的原理時提到的那樣，在聚焦元件與 圖像對象之間的距離確定圖像對象被呈現(xiàn)的程度。如果距離太大，例如襯底片太厚，則圖 像對象可能在全息呈現(xiàn)中反向，并且另一方面，如果距離太小，則將有如圖2b中所示那樣 呈現(xiàn)的重疊信息。這可能給出產(chǎn)品特征或者配準特征的模糊全息呈現(xiàn)，該全息呈現(xiàn)可以用 來估計與在與襯底片的表面正交的方向上的對準有關(guān)的對準參數(shù)，并且通過按照這些對準參數(shù)的反饋控制提供產(chǎn)品特征的至少一個步驟來對準主要和次要產(chǎn)品特征的提供。因而， ζ-配準可以用于厚度控制。根據(jù)本發(fā)明的一個實施例，配準結(jié)構(gòu)包括3維參考對象30，其中將表面劃分成多 級。優(yōu)選地，圖像對象在與襯底片的表面正交的方向、即“厚度方向”上延伸，以便允許識別 圖像對象中的級改變。更優(yōu)選地，圖像對象為“低”，即級改變小以便實現(xiàn)對從一級改變成另 一級的準確配準。對在與襯底片的表面正交的方向上的對準的配準可以基于各種檢測技術(shù)，比如光 學檢查和圖像分析。從主要與次要產(chǎn)品特征之間預(yù)定距離的偏離可以由圖像分析系統(tǒng)識別，該系統(tǒng)持 續(xù)地配準和比較后續(xù)全息呈現(xiàn)以檢測任何偏離和估計對準參數(shù)。如上文討論的那樣，這樣 的配準可以基于對產(chǎn)品特征或者參考對象的全息呈現(xiàn)的直觀配準，或者基于對圖像處理單 元從設(shè)計成實現(xiàn)快速識別和估計的參考對象收集的圖像的圖像處理。根據(jù)一個實施例，根據(jù)本發(fā)明方法的配準主要和次要產(chǎn)品特征的相互對準以估計 對準參數(shù)包括在3個維度上配準對準。對于連續(xù)工藝，這意味著優(yōu)選地在襯底片的平移方 向和/或橫切方向和厚度方向上進行配準對準。根據(jù)本發(fā)明的一個實施例，配準結(jié)構(gòu)包括布置成通過具有重復(fù)周期的關(guān)聯(lián)微透 鏡陣列來查看為合成三維整體圖像的具有重復(fù)周期仏的參考對象陣列。在這一實施例中， 參考對象具有3維形狀，該形狀具有限定參考對象的不同級的多個坪。圖13示意地圖示了 階梯式參考對象30的橫截面圖，該參考對象提供可以例如用于厚度控制的多級。如上文說 明的那樣，如果差值P^Ptj基本上等于成像的部分在與微透鏡相距預(yù)定距離處的寬度，則銳 利地呈現(xiàn)成像的對象。由于寬度隨著與微透鏡的距離而變化，所以感知的圖像變模糊。因 而，不同級的呈現(xiàn)銳度將不同，并且因此通過識別銳利呈現(xiàn)的級可以確定襯底片的厚度。雖 然已經(jīng)在參考對象方面描述這一實施例，但是應(yīng)當理解可以用與參考對象相同的方式使用 3維產(chǎn)品特征或者配準特征來產(chǎn)生該多級ζ-配準。圖14示意地圖示了配準結(jié)構(gòu)，該配準結(jié)構(gòu)包括聚焦元件20的配準陣列和參考對 象30的關(guān)聯(lián)配準陣列的部分。這些部分具有在兩個相繼參考對象30之間有不同重復(fù)周期 P0的參考對象30，該重復(fù)周期優(yōu)選地在標稱重復(fù)周期Ραη。ω周圍變化。優(yōu)選地，在兩個相繼 聚焦元件20之間的重復(fù)周期在所有部分中相同。舉例而言，圖14圖示了在九個部分中 感知的圖像，這些部分在兩個相繼參考對象30之間具有重復(fù)周期PQ,n。m士η* δ，其中PQ,n。m 為138 μ m并且δ為0.5 μ m。在這一例子中，Pl為138 μ m。如圖所示，銳利地呈現(xiàn)分別與 137 μ m ^P 139μπι的Pq對應(yīng)的兩個部分，盡管對于Pq= 139 μ m而言感知的圖像反向。對于 137. 5 μ m和138. 5 μ m的Ptj，全息呈現(xiàn)包括重疊信息，并且對于超過139 μ m或者低于137 μ m 的PQ，全息呈現(xiàn)缺乏信息。對于Pq = Pl,全息呈現(xiàn)出錯(fluff out)。應(yīng)當理解在一個替代 實施例中仏恒定并且可變。在一個實施例中，在襯底片的表面的第一面處的與在襯底片的反面處的參考對象 配準陣列關(guān)聯(lián)的微透鏡配準陣列包括具有不同焦距的微透鏡部分。這可以用來在與襯底片 的表面正交的方向上配準相互對準以估計對準參數(shù)。根據(jù)本發(fā)明的一個實施例，用于提供用于配準主要和次要產(chǎn)品特征相互對準的全 息呈現(xiàn)的透鏡是理想的，即基本上無像差，以便提高配準分辨率。當使用例如受球面像差困擾的非理想透鏡時，透鏡的實際焦點對于不同視角一般不出現(xiàn)在平坦表面，因而當通過透 鏡查看，成像的參考對象變?yōu)橛行┎讳J利。如果圖像用來通過使用在厚度方向上延伸的參 考對象來配準主要和次要產(chǎn)品特征在“厚度”方向上的對準，則難以確切地確定參考對象何 時“焦點對準”。雖然理想透鏡可以用于配準，但是具有不同種類的像差的透鏡可以用于其 他目的?？梢栽谔峁┧鍪滓痛我a(chǎn)品特征的步驟800和810之后進行配準主要和次要 產(chǎn)品特征的相互對準的步驟820，其中估計的對準參數(shù)用于控制提供產(chǎn)品特征的至少一個 步驟830。實現(xiàn)的反饋延遲程度依賴于在提供產(chǎn)品特征的最后步驟820與進行配準的位置 之間的距離。為了減少反饋延遲，配準主要和次要產(chǎn)品特征的相互對準的步驟820根據(jù)一 個實施例與提供所述首要或者次要產(chǎn)品特征的步驟800或者810同時進行。對于提供產(chǎn)品 特征的一些技術(shù)，然后實際上有可能在完成產(chǎn)品特征之前通過來自同時配準的對準參數(shù)的 直接反饋來進行該對準的少量校正830。根據(jù)一個實施例，通過如下連續(xù)澆鑄工藝來進行提供產(chǎn)品特征的最后步驟800或 者810，該工藝包括在襯底表面上涂敷UV固化漆、通過將漆壓花來生成產(chǎn)品特征，并且借助 UV光源來固化UV固化漆這些步驟。在這一實施例中，有可能在將漆壓花的步驟期間配準主 要和次要產(chǎn)品特征的相互對準820并且恰在固化之前給出關(guān)于配準的反饋以對準主要和 次要特征830。這一方法可以用來拾取和調(diào)節(jié)隨機和短暫的頻繁未配準。先提供的(主要 或者次要)產(chǎn)品特征結(jié)構(gòu)可以是可以用來結(jié)合后續(xù)提供的產(chǎn)品特征來創(chuàng)建配準結(jié)構(gòu)或者 圖像的聚焦元件，例如微透鏡。生成的配準結(jié)構(gòu)或者圖像然后可以用來測量或者判斷配準 的質(zhì)量。如果配準良好，則不控制對準并且簡單地讓產(chǎn)品特征固化。如果配準無法令人滿 意，則對準參數(shù)用來控制對準并且隨后固化第二圖案。根據(jù)用于提供產(chǎn)品特征的工藝類型，提供主要產(chǎn)品特征的步驟800和提供聚焦元 件配準陣列的步驟870可以作為單個步驟來進行，其中在所述產(chǎn)品特征與配準陣列之間的 對準將隨時間恒定。類似地，提供次要產(chǎn)品特征的步驟810和提供參考對象配準陣列的步 驟880可以作為單個步驟來進行。由于在生產(chǎn)工藝中涉及到極小容差并且工藝涉及到步驟的重復(fù)，所以在用于提供 產(chǎn)品特征等的手段中的少量偏離將隨時間重復(fù)以產(chǎn)生在配準中的重復(fù)未對準圖案和/或 漂移。根據(jù)一個實施例，提供以下步驟-910隨時間識別和分析所進行的對準以發(fā)現(xiàn)配準中的重復(fù)未對準圖案和/或漂 移，以及-920響應(yīng)于識別的在配準中的重復(fù)未對準圖案和/或漂移來進行對提供產(chǎn)品特 征的第二步驟的預(yù)防性控制?？梢葬槍σ粋€或者多個重復(fù)序列(例如壓花輥的預(yù)定旋轉(zhuǎn)次數(shù)等)識別這樣的重 復(fù)未對準圖案，以產(chǎn)生重復(fù)未對準圖案的“映射”。該映射隨后用來進行預(yù)防性控制，而又以 直接反饋方式補償隨機未對準或者故障。為了識別在配準中的漂移，隨時間分析對準參數(shù) 以發(fā)現(xiàn)由于磨損、機械變形等所致的漂移。根據(jù)一個實施例，襯底片是在卷到卷工藝中通過連續(xù)工藝饋送的襯底幅。如上文 提到的那樣，在這樣的工藝中提供產(chǎn)品特征和配準陣列的步驟可以基于允許高饋幅速率的 不同類型的輥壓技術(shù)。為了控制 卷到卷型等的連續(xù)工藝中提供產(chǎn)品特征的第二步驟，按照對準參數(shù)的反饋對提供產(chǎn)品特征的至少一個步驟進行控制的步驟可以包括控制工藝中 的一個或者多個參數(shù)。—個實施例包括在平移方向和/或橫切方向上控制幅張力。幅還可以在橫切方向 上平移。通過改變幅張力、伸展或收縮幅，可以例如增加或者減少首先生成的產(chǎn)品特征的周 期性，從而可以在配準中理想地生成次要產(chǎn)品特征。一個例子是當在主要產(chǎn)品特征與次要 產(chǎn)品特征之間有在幅方向上的周期性上的差異時控制對準。在其他應(yīng)用中，可能需要匹配 產(chǎn)品特征的尺寸。也存在影響尺寸的其他方式以便在幅和交叉幅方向上實現(xiàn)幅的受控變形 和生成的圖案的配準，比如改變幅的溫度。根據(jù)一個實施例，通過具有至少一個壓花輥的輥壓工藝來進行提供產(chǎn)品特征的一 個或者多個步驟，其中對提供產(chǎn)品特征的至少一個步驟進行控制的步驟可以包括控制用于 至少一個輥的以下參數(shù)中的一個或者多個參數(shù)輥位置、輥斜度、輥尺寸和輥旋轉(zhuǎn)速度。對兩個后續(xù)壓花輥的個別旋轉(zhuǎn)速度控制可以用來彌補在襯底或者幅方向上的少 量對準偏離。這可以用來補償當生成的產(chǎn)品特征圖案之一在幅方向上無相同尺寸時(例如 如果輥直徑略有不同或者如果圖案已經(jīng)以某一其他方式伸展)的情形。也可以進行輥的平移以便在幅方向和交叉幅方向上針對對準誤差進行調(diào)節(jié)。如果有在兩個生成的產(chǎn)品特征圖案之間的縮放偏離，從而它們在幅或者交叉幅方 向上無相同尺寸，則有可能例如通過溫度控制以便熱膨脹或者收縮輥之一和它攜帶的圖案 來在小范圍內(nèi)改變這些尺寸。這將在幅方向和交叉幅方向上引起可能在方向之一上并不需 要的尺寸改變。然而，使用熱在交叉幅方向上調(diào)節(jié)以求理想配準，可以例如使用輥上的不同 旋轉(zhuǎn)速度以補償在幅方向配準中生成的誤差。如上文提到的那樣，在用于生產(chǎn)兩面微結(jié)構(gòu)化產(chǎn)品的方法中，在襯底片提供產(chǎn)品 特征的一個或者多個步驟800和810可以包括在襯底片的至少部分上沉積可固化的化合 物。在這一種工藝中，按照對準參數(shù)的反饋對提供產(chǎn)品特征的至少一個步驟進行控制的步 驟可以包括控制對沉積的可固化的化合物的性質(zhì)有影響的一個或者多個參數(shù)，比如其厚 度。在輥到輥工藝中的輥旋轉(zhuǎn)速度的改變可以改變襯底片的最終厚度?？晒袒幕衔锏?粘度也可以用來控制厚度。如上文提到的那樣，一個或者多個輥的溫度也可以用于控制，并 且如果使用涂敷器輥，則可以控制對壓花輥施加的壓力或者相對位置。當控制其一以便對準主要和次要產(chǎn)品特征時，應(yīng)當注意例如輥的旋轉(zhuǎn)速度的改變 不僅給予對主要和/或次要特征在幅方向上的周期性的調(diào)節(jié)，而且可以給予幅的厚度改 變。因而可能必須調(diào)節(jié)兩個或者更多參數(shù)以便實現(xiàn)某種效果而無不合需要的副作用。根據(jù)一個實施例，用于提供產(chǎn)品特征等的手段包括制造母版結(jié)構(gòu)，該母版結(jié)構(gòu)又 用來提供在公開的布置中附著到輥表面的壓花板?？梢岳缡褂门錅蕼蚀_度比例如每米 0. 5 μ m更好的激光寫入機或者適當準確度的另一技術(shù)來制作母版結(jié)構(gòu)或者用于在例如玻 璃襯底上平板印刷制作母版結(jié)構(gòu)的掩模?？梢酝ㄟ^電鍍來拷貝包括微透鏡和/或其他微結(jié) 構(gòu)化特征的制作的母版結(jié)構(gòu)。生成的負拷貝或者附加拷貝可以例如是由鎳制成的薄板。板 可以用不同方法附著到輥并且用于通過壓花的復(fù)制。使用這一技術(shù)，可以從理想平坦母版 向圓形生產(chǎn)工具轉(zhuǎn)移圖案上的相對配準準確度。優(yōu)選地，壓花板附著到輥，從而在壓花板一 端的第一配準結(jié)構(gòu)70’布置于與在壓花板另一端的最后配準結(jié)構(gòu)70”相距預(yù)定距離處并且 優(yōu)選地保持就位。由此可以減少產(chǎn)品特征在襯底片上的位置的漂移。這在兩個或者更多圖案相互對準時特別地重要?？梢酝ㄟ^依次調(diào)節(jié)輥的旋轉(zhuǎn)速度來補償漂移。優(yōu)選地，第一配 準結(jié)構(gòu)70’和最后配準結(jié)構(gòu)70”的對準準確度少于5 μ m、更優(yōu)選地少于1 μ m,以便實現(xiàn)少 于1 μ m的配準準確度。根據(jù)本發(fā)明的一個實施例，壓花板在附著到輥之前形成為圓柱體，并且端部例如 通過焊接附著到彼此以便形成布置于輥上的套管130。圖15圖示了套管130，該套管包括 將在襯底片上壓花的產(chǎn)品特征和/或聚焦元件20和/或參考對象30的負拷貝。這一實施 例實現(xiàn)壓花板的末端之間的窄結(jié)(優(yōu)選為無縫)，并且因此實現(xiàn)第一配準結(jié)構(gòu)70’和最終配 準結(jié)構(gòu)70”的對準的高準確度。優(yōu)選地，在套管的切線和橫切方向上的對準準確度分別少 于5 μ m、更優(yōu)選地少于1 μ m,以便實現(xiàn)少于1 μ m的配準準確度。如圖所示，在切線方向上 的距離Ix和在橫切方向上的Iy可以適合于在將產(chǎn)品特征壓花時即使已經(jīng)經(jīng)過結(jié)、但是仍然 給出從周期圖案的僅少量偏離或者無偏離。在一個實施例中，套管130具有小于輥的直徑。這使套管130緊密配合到輥。因 而，套管130的基本形狀以及其他性質(zhì)如熱性質(zhì)由輥提供。由于輥的直徑小于輥的直徑，所 以套管在它布置于輥上之前必須伸展。這可以生成套管的對壓花的結(jié)構(gòu)的周期性有影響的 剩余張力。這可以例如通過調(diào)節(jié)輥的旋轉(zhuǎn)速度和/或加熱輥來補償，但是如果該布置中的 其他輥以相同方式具有套管，則這樣的補償可能是多余的。也有可能通過施加方向受控的大磁場來影響在形成于輥周圍的磁壓花板(例如 鎳)上的尺寸。施加的磁場將使材料中的磁疇定向成平行于場的方向，并且同時材料將在 相同方向上略微地收縮。材料也將在橫切場的方向上擴張。這一效果是持久的并且可以在 裝配板之前加以實現(xiàn)。磁場的強度確定這一效果有多大。也可以通過在任一方向上的機械伸展來改變壓花板的尺寸，由此產(chǎn)生配準可能 性。可以用引起永久效果的塑性變形或者通過如下彈性變形來進行伸展，該彈性變形引起 只要板保持于拉緊就會持續(xù)的效果。在釋放之后，彈性變形的板將收縮成它的原尺寸。圖16示意地示出了用于沿著伸長的襯底片50在連續(xù)工藝中生產(chǎn)兩面微結(jié)構(gòu)化產(chǎn) 品的布置490的一個實施例，該布置包括-用于在襯底片50的第一表面提供主要產(chǎn)品特征的裝置500，_用于在襯底片的反表面提供次要產(chǎn)品特征的裝置520，-配準檢測系統(tǒng)540，布置成配準主要和次要產(chǎn)品特征的相互對準并且估計對準 參數(shù)，以及_對準控制系統(tǒng)550，布置成通過按照對準參數(shù)的反饋控制用于提供產(chǎn)品特征的 至少一個裝置來對準主要和次要產(chǎn)品特征的提供。用于提供產(chǎn)品特征的裝置500和520包括基于大量不同技術(shù)和工藝類型的裝置， 這些類型比如是不同類型的印刷、壓花、連續(xù)澆鑄、表面涂覆、層壓或者其組合。印刷技術(shù)的 例子包括網(wǎng)印、膠印、苯胺印刷、噴墨印刷等。類似于上述內(nèi)容，布置490可以包括用于提供附加次要產(chǎn)品特征560的一個或者 多個附加裝置，其中關(guān)聯(lián)配準檢測系統(tǒng)580布置成配準主要產(chǎn)品特征和各附加次要產(chǎn)品特 征的相互對準并且估計關(guān)聯(lián)對準參數(shù)，并且對準控制系統(tǒng)550布置成通過按照關(guān)聯(lián)對準參 數(shù)的反饋控制用于提供附加次要產(chǎn)品特征的各附加裝置來對準附加次要產(chǎn)品特征的各后 續(xù)提供。根據(jù)一個實施例，提供用于提供配準結(jié)構(gòu)的主要和次要配準特征的裝置510、530和570。如上文討論的那樣，用于提供產(chǎn)品特征的裝置500、520和560可以與用于提供配準 結(jié)構(gòu)的配準特征的裝置510、530和570集成以在相同步驟中提供產(chǎn)品特征和配準特征。如上文討論的那樣，配準檢測系統(tǒng)540、580可以布置成在相對于用于提供所述首 要和次要產(chǎn)品特征的裝置的后續(xù)位置，或者在用于提供所述首要或者次要產(chǎn)品特征的裝置 之一處配準主要和次要產(chǎn)品特征的相互對準。配準檢測系統(tǒng)540、580可以是光學檢查系 統(tǒng)、光學視覺分析系統(tǒng)、光學信號測量系統(tǒng)、聲學阻抗測量系統(tǒng)、磁場或者電場阻抗測量系 統(tǒng)等。除了配準主要和次要特征的相互對準之外，配準檢測系統(tǒng)還可以用來評估與產(chǎn)品特 征的對準無關(guān)的質(zhì)量參數(shù)，比如襯底片的材料性質(zhì)、從預(yù)定周期性的偏離、襯底片張力、隔 離的誤差、灰塵等。另外如圖17和圖18中示意地公開的那樣，用于生產(chǎn)兩面微結(jié)構(gòu)化產(chǎn)品的布置可 以是一種卷到卷布置600，其中在襯底饋送輥610上以幅的形式提供襯底50，并且其中用于 提供產(chǎn)品特征的裝置500和520為輥型。根據(jù)一個實施例，對準控制系統(tǒng)布置成控制在平移方向和橫切方向上的襯底張力 以及襯底在橫切方向上的位置。在用于沿著伸長的襯底片50在連續(xù)重復(fù)工藝中生產(chǎn)雙面微結(jié)構(gòu)化產(chǎn)品的布置 490中，其中用于提供產(chǎn)品特征的一個或者多個裝置是具有至少一個壓花輥500、520的輥 壓布置，對準控制系統(tǒng)550可以布置成控制輥壓布置的例如從輥位置、輥斜度、輥尺寸和輥 旋轉(zhuǎn)速度中選擇的一個或者多個輥壓參數(shù)。如上文提到的那樣，可以通過控制輥500、520 的溫度來改變輥尺寸。另外，當壓花輥包括形成于輥周圍的壓花板并且壓花板包括磁材料 時，對準控制系統(tǒng)可以布置成通過控制其中磁疇的定向來控制輥尺寸。另外，可以通過機械 伸展壓花板來改變輥尺寸。根據(jù)一個實施例，圖16的卷到卷布置490布置成在連續(xù)卷到卷工藝中生產(chǎn)雙面微 結(jié)構(gòu)化產(chǎn)品，比如全息器件，其中透明箔襯底的第一表面由第一輥布置500例如通過將其 表面壓花來具有形式為微透鏡的一個或者多個聚焦元件陣列，該一個或者多個聚焦元件陣 列還包括一個或者多個聚焦元件配準陣列。透明箔襯底的第二表面由第二輥布置520例如 通過在透明箔襯底的第二表面印刷、壓花或者類似地提供第二參考裝置來具有一個或者多 個圖像對象陣列和與圖像對象陣列對準的一個或者多個配準對象配準陣列，光學裝置540 布置成對配準對象的全息呈現(xiàn)進行配準并且響應(yīng)于配準的未對準超過預(yù)定值來控制第二 輥布置520以針對器件的后續(xù)部分消除未對準。圖18的卷到卷布置600包括襯底箔源610、用于在箔襯底50的一面上涂敷輻射可 固化聚合物層的涂敷器620。主要產(chǎn)品特征壓花輥630布置成在可固化聚合物層中形成主 要產(chǎn)品特征，并且輻射源640布置成固化可固化聚合物層。涂敷器650布置成在箔襯底50 的反面上涂敷第二輻射可固化聚合物層，并且次要產(chǎn)品特征壓花輥660布置成在可固化聚 合物層中形成次要產(chǎn)品特征。配準檢測系統(tǒng)680布置成配準在襯底的第一面上形成于固化 聚合物中的主要產(chǎn)品特征和在第二面上形成于未固化聚合物中的次要產(chǎn)品特征的相互對 準以估計對準參數(shù)。對準控制系統(tǒng)550布置成通過響應(yīng)于配準的未對準超過預(yù)定值控制次 要產(chǎn)品特征壓花輥660的一個或者多個輥壓參數(shù)來在固化第二聚合物層之前對準次要產(chǎn) 品特征與主要產(chǎn)品特征。用于固化透明聚合物層的輻射源670布置于配準檢測系統(tǒng)680之 后。
根據(jù)一個實施例，圖18的卷到卷布置600布置成生產(chǎn)全息器件。卷到卷布置600 包括透明箔源610、用于在透明箔襯底50的一面上涂敷輻射可固化透明聚合物層的涂敷器 620、布置成在透明聚合物層中形成微透鏡陣列的透鏡輥630、用于固化透明聚合物層的輻 射源640、用于在透明箔襯底50的反面上涂敷輻射可固化透明聚合物層的涂敷器650、布置 成在透明聚合物層中形成圖像對象陣列以及與圖像對象陣列對準的一個或者多個配準對 象配準陣列的圖像對象輥660、布置成對配準對象的全息呈現(xiàn)進行配準并且響應(yīng)于配準的 未對準超過預(yù)定值來控制圖像對象輥660以針對器件的后續(xù)部分消除未對準的光學裝置 680以及用于在進行對準之后固化透明聚合物層的輻射源670。圖19的卷到卷布置600包括主要產(chǎn)品特征壓花輥630和壓力輥625，壓花輥630 和壓力輥625與在兩者間的從襯底箔源610饋送的襯底箔相接觸。涂敷器690布置成向主 要特征壓花輥630涂敷輻射可固化聚合物，其中主要特征壓花輥630布置成在壓力輥625 處在襯底箔610上的可固化聚合物層中形成主要產(chǎn)品特征。輻射源640布置成固化可固化 聚合物層。涂敷器650布置成在次要產(chǎn)品特征壓花輥660上涂敷第二輻射可固化聚合物層， 該次要產(chǎn)品特征壓花輥布置成在襯底箔上的可固化聚合物層中形成次要產(chǎn)品特征。配準 檢測系統(tǒng)680布置成配準在襯底的第一面上形成于固化聚合物中的主要產(chǎn)品特征和在第 二面上形成于未固化聚合物中的次要產(chǎn)品特征的相互對準以估計對準參數(shù)。對準控制系統(tǒng) 550布置成通過響應(yīng)于配準的未對準超過預(yù)定值控制次要產(chǎn)品特征壓花輥660的一個或者 多個輥壓參數(shù)在固化第二聚合物層之前對準次要產(chǎn)品特征與主要產(chǎn)品特征。另外，對準控 制系統(tǒng)550布置成通過調(diào)節(jié)以下參數(shù)中的一個或者多個參數(shù)在與箔的表面正交的方向(即 在涂敷輥625涂敷的可固化聚合物層的厚度方向)上對準次要產(chǎn)品特征與主要產(chǎn)品特征 壓力輥625的位置和/或壓力、主要特征壓花輥630的溫度、可固化聚合物的粘度等。用于 固化透明聚合物層的輻射源670布置于配準檢測系統(tǒng)680之后。根據(jù)一個實施例，圖19的卷到卷布置600布置成生產(chǎn)全息器件。卷到卷布置600 包括透明箔源610、用于在布置成在輻射可固化透明聚合物層中形成微透鏡陣列的透鏡輥 630上涂敷透明聚合物層的涂敷器690、用于固化透明聚合物層的輻射源640、用于在透明 箔襯底50的反面上涂敷輻射可固化透明聚合物層的涂敷器650、布置成在透明聚合物層中 形成圖像對象陣列以及與圖像對象陣列對準的一個或者多個配準對象配準陣列的圖像對 象輥660、布置成對配準對象的全息呈現(xiàn)進行配準并且響應(yīng)于配準的未對準超過預(yù)定值來 控制圖像對象輥660以針對器件的后續(xù)部分消除未對準的光學裝置680以及用于在進行對 準之后固化透明聚合物層的輻射源670。盡管已經(jīng)結(jié)合當前視為最實用和優(yōu)選實施例的內(nèi)容描述了本發(fā)明，但是將理解本 發(fā)明將不限于公開的實施例，恰好相反的是本發(fā)明旨在于在所附權(quán)利要求書內(nèi)覆蓋各種修 改和等效布置。
權(quán)利要求
一種生產(chǎn)兩面微結(jié)構(gòu)化產(chǎn)品的方法，包括以下步驟 (800)在襯底片(50)的第一表面提供主要產(chǎn)品特征(80)， (810)在所述襯底片(50)的反表面提供次要產(chǎn)品特征(90)， (820)配準所述主要和次要產(chǎn)品特征(80，90)的相互對準以估計對準參數(shù)，以及， (830)通過按照對準參數(shù)的反饋控制提供產(chǎn)品特征的至少一個步驟來對準主要和次要產(chǎn)品特征(80，90)的提供。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述提供主要產(chǎn)品特征(80)和提供次要產(chǎn)品特 征(90)的步驟包括沿著所述襯底片(50)在連續(xù)工藝中重復(fù)地提供主要產(chǎn)品特征(80)的 集合和次要產(chǎn)品特征(90)的集合的步驟。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或者2所述的方法，其中所述提供次要產(chǎn)品特征、配準所述主要和次 要產(chǎn)品特征的相互對準以及對準所述主要和次要產(chǎn)品特征的步驟重復(fù)一次或者多次，以提 供具有各自與所述主要產(chǎn)品特征對準的兩個或者更多次要產(chǎn)品特征的產(chǎn)品。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中的任一權(quán)利要求所述的方法，其中所述配準所述主要和次要 產(chǎn)品特征的相互對準的步驟包括(890)識別主要和次要產(chǎn)品特征的相對位置。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其中所述配準所述主要和次要產(chǎn)品特征的相互對準的 步驟包括配準全息呈現(xiàn)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，其中通過在所述襯底片(50)的所述第一面處的所述主 要產(chǎn)品特征(80)與在所述襯底片(50)的所述反表面處的所述次要產(chǎn)品特征(90)的相互 作用來提供所述全息呈現(xiàn)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至6中的任一權(quán)利要求所述的方法，還包括以下步驟-(870)在所述襯底片(50)的所述第一面上提供配準結(jié)構(gòu)(70)的主要配準特征；以及-(880)在所述襯底片(50)的所述反面上提供配準結(jié)構(gòu)(70)的次要配準特征，其中-所述主要配準特征在所述襯底片(50)的所述第一表面與所述主要產(chǎn)品特征對準，并 且所述次要配準特征在所述襯底片(50)的所述反表面與所述次要產(chǎn)品特征對準。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其中所述配準所述主要和次要產(chǎn)品特征的相互對準的 步驟包括(890)識別所述配準結(jié)構(gòu)的所述主要和次要配準特征的相對位置。
9.根據(jù)權(quán)利要求7或者8所述的方法，其中所述主要配準特征包括聚焦元件配準陣列， 所述次要配準特征包括參考對象配準陣列，其中所述聚焦元件配準陣列和所述參考對象配 準陣列布置成提供所述參考對象的全息呈現(xiàn)，并且其中所述參考對象配準陣列包括一對或 者多對參考對象相鄰互補子陣列。
10.根據(jù)權(quán)利要求1至9中的任一權(quán)利要求所述的方法，其中在所述提供所述首要和次 要產(chǎn)品特征的步驟之后進行所述配準所述主要和次要產(chǎn)品特征的相互對準的步驟。
11.根據(jù)權(quán)利要求1至9中的任一權(quán)利要求所述的方法，其中與提供所述首要產(chǎn)品特征 的步驟或者提供所述次要產(chǎn)品特征的步驟同時進行所述配準所述主要和次要產(chǎn)品特征的 相互對準的步驟。
12.根據(jù)權(quán)利要求1至11中的任一權(quán)利要求所述的方法，其中所述配準所述主要和次 要產(chǎn)品特征(80，90)的相互對準的步驟包括識別所述主要和次要產(chǎn)品特征 80，90)在與所 述襯底片(50)的表面正交的方向上的相對位置的步驟。
13.根據(jù)權(quán)利要求1至12中的任一權(quán)利要求所述的方法，其中所述配準所述主要和次要產(chǎn)品特征(80，90)的相互對準的步驟包括識別所述主要和次要產(chǎn)品特征(80，90)在三個 維度上的相對位置的步驟。
14.根據(jù)權(quán)利要求1至13中的任一權(quán)利要求所述的方法，其中所述對準步驟包括以下 步驟-(910)隨時間識別和分析所進行的對準以發(fā)現(xiàn)在配準中的重復(fù)未對準圖案和/或漂 移，以及-(920)響應(yīng)于識別的在配準中的重復(fù)未對準圖案和/或漂移來進行對提供產(chǎn)品特征 的一個或者多個步驟的預(yù)防性控制。
15.根據(jù)權(quán)利要求1至14中的任一權(quán)利要求所述的方法，其中通過印刷、壓花、連續(xù)澆 鑄、表面涂敷、層壓或者其組合來進行所述提供產(chǎn)品特征和可選配準陣列的步驟。
16.根據(jù)權(quán)利要求1至15中的任一權(quán)利要求所述的方法，其中通過具有至少一個壓花 輥的輥壓工藝來進行所述提供產(chǎn)品特征的步驟中的一個或者多個步驟。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的方法，其中所述控制所述提供產(chǎn)品特征的至少一個步驟 的步驟包括控制以下參數(shù)中的一個或者多個參數(shù)用于至少一個輥的輥溫度、輥位置、輥斜 度、輥尺寸和輥旋轉(zhuǎn)速度、所述襯底片在平移方向和/或橫切方向上的張力。
18.根據(jù)權(quán)利要求16或者17所述的方法，其中在布置于所述壓花輥處的壓力輥(625) 向所述襯底片涂敷可固化聚合物，并且所述控制所述提供產(chǎn)品特征的至少一個步驟的步驟 包括控制所述壓力輥(625)相對于所述壓花輥的壓力和/或位置。
19.根據(jù)權(quán)利要求16至18中的任一權(quán)利要求所述的方法，其中所述壓花輥包括在所述 輥周圍形成為套管(130)的壓花板。
20.一種配準結(jié)構(gòu)，包括在第一表面的聚焦元件(20)的配準陣列和在反表面的參考對 象(30)的配準陣列，其中所述聚焦元件(20)的配準陣列在所述第一表面與主要產(chǎn)品特征 (80)對準，并且所述參考對象(30)的配準陣列在所述反表面與次要產(chǎn)品特征(90)對準，其 中所述聚焦元件(20)的配準陣列和所述參考對象(30)的配準陣列布置成提供所述參考對 象(30)的全息呈現(xiàn)(10)。
21.根據(jù)權(quán)利要求20所述的配準結(jié)構(gòu)，其中所述參考對象的配準陣列包括一對或者多 對參考對象(30A，30B)的相鄰互補子陣列。
22.根據(jù)權(quán)利要求20至21中的任一權(quán)利要求所述的配準結(jié)構(gòu)，其中所述參考對象 (30)的互補子陣列在至少一個方向上具有不同重復(fù)周期。
23.根據(jù)權(quán)利要求20至22中的任一權(quán)利要求所述的配準結(jié)構(gòu)，包括兩對參考對象互補 子陣列，第一對參考對象互補子陣列布置成顯示在第一方向上的未對準，并且第二對參考 對象互補子陣列布置成顯示在與所述第一方向不同的第二方向上的未對準。
24.根據(jù)權(quán)利要求20至23中的任一權(quán)利要求所述的配準結(jié)構(gòu)，布置成用于具有饋送方 向的連續(xù)生產(chǎn)工藝和直接反饋型的對準工藝，其中在所述饋送方向上基本上連續(xù)地重復(fù)所 述配準結(jié)構(gòu)，其中第一對參考對象互補子陣列布置成顯示橫切所述饋送方向的未對準，并 且其中形成所述重復(fù)配準結(jié)構(gòu)使得所述第一對參考對象互補子陣列中的所述參考對象在 所述饋送方向上相互可區(qū)分。
25.一種兩面微結(jié)構(gòu)化產(chǎn)品，包括在第一表面提供的主要產(chǎn)品特征、與所述主要產(chǎn)品特 征對準的在反表面提供的次要產(chǎn)品特征以及根據(jù)權(quán)利要求20至24中的任一權(quán)利要求所述的配準結(jié)構(gòu)。
26. 一種用于沿著伸長的襯底片(50)在連續(xù)工藝中生產(chǎn)兩面微結(jié)構(gòu)化產(chǎn)品的布置，包括-用于在所述襯底片(50)的第一表面提供主要產(chǎn)品特征的裝置(500)； -用于在所述襯底片的反表面提供次要產(chǎn)品特征的裝置(520)， -配準檢測系統(tǒng)(540)，布置成配準所述主要和次要產(chǎn)品特征的相互對準以及估計對 準參數(shù)，以及-對準控制系統(tǒng)(550)，布置成通過按照對準參數(shù)的反饋控制所述用于提供產(chǎn)品特征 的裝置中的至少一個裝置來對準主要和次要產(chǎn)品特征的提供。
全文摘要
本發(fā)明提供一種生產(chǎn)兩面微結(jié)構(gòu)化產(chǎn)品的方法和一種可以用于該方法的配準結(jié)構(gòu)。該方法包括以下步驟(800)在襯底片(50)的第一表面提供主要產(chǎn)品特征(80)；(810)在反表面提供次要產(chǎn)品特征(90)；(820)配準主要和次要產(chǎn)品特征(80，90)的相互對準以估計對準參數(shù)；以及(830)對準主要和次要產(chǎn)品特征(80，90)的提供。該配準結(jié)構(gòu)包括與主要和次要產(chǎn)品特征(80，90)對準的、在第一表面的聚焦元件(20)的配準陣列和在反表面的參考對象(30)的配準陣列，其提供參考對象(30)的全息呈現(xiàn)(10)，以估計產(chǎn)品特征(80，90)的對準。
文檔編號H05K13/02GK101932976SQ200880126111
公開日2010年12月29日 申請日期2008年12月19日 優(yōu)先權(quán)日2007年12月28日
發(fā)明者A·露德瓦爾, F·古斯塔維森, F·尼科拉杰夫, R·?？寺兜?申請人:若鄰光學公司