專利名稱：制造顯示設備的方法
技術領域：
本發(fā)明涉及制造具有使用塑料基板形成的光學薄膜的顯示設備的方法。
背景技術：
近年來，使用在基板上用絕緣表面形成的半導體薄膜(厚度為約若干納米到幾百納米)形成薄膜晶體管(TFT)的技術已經引起了注意。薄膜晶體管已廣泛應用于諸如IC和電子裝置的各種電子設備。特別地，涉及作為用于液晶顯示屏或發(fā)光顯示屏的開關元件的薄膜晶體管的開發(fā)已在快速進行。
在液晶顯示屏中，液晶顯示材料夾在元件基板(elementsubstrate)和放置在元件基板對面的具有相反電極的相對基板(opposingsubstrate)。在元件基板上，使用非晶硅或多晶硅作為其半導體的TFT排列成陣列，并且分別形成與每個TFT相連的像素電極、源極接線以及柵極接線。用于執(zhí)行色彩顯示的濾色片在元件基板或相對基板上形成。偏振片分別在元件基板和相對基板上排列為光閘，以顯示彩色圖像。
液晶顯示屏的濾色片包括由R(紅)、G(綠)、B(藍)組成的著色層、用于覆蓋像素之間間隙的光屏蔽掩模(黑底)，并通過發(fā)射光線穿過其中來提取紅、綠、藍光。濾色片的光屏蔽掩模通常由包含炭黑的金屬膜或有機薄膜制成。濾色片排列在與像素對應的位置上，從而能夠改變要為每個像素提取的光線的色彩。注意，與像素對應的位置表示與像素電極一致的部分。
在發(fā)光顯示設備中，有一種通過將分別發(fā)射紅、綠和藍光的發(fā)光元件排列成矩陣的著色方法；通過利用使用發(fā)射白光的發(fā)光元件的濾色片的著色方法等。通過利用使用發(fā)射白光的發(fā)光元件的濾色片的著色方法與使用濾色片的液晶顯示設備的著色方法在原理(參見專利文檔1)上相似。專利文檔1日本專利申請公開No.2001-217072。

發(fā)明內容
通常，用于液晶顯示設備的濾色片已形成在玻璃基板上。因此，有這樣的問題形成在玻璃基板上的濾色片和使用該濾色片的液晶顯示設備的耐沖擊性差。此外，當減小玻璃基板的厚度以減小液晶顯示設備的厚度時，基板可能會破裂從而導致產量下降。
此外，因為玻璃基板并不具有柔性，所以難以在具有曲面的顯示設備上形成彩色薄膜。
著色樹脂和顏料分散樹脂通常用作濾色片的原始材料。然而，為了固化這些樹脂，需要在常溫下加熱的步驟。因此，在熱塑性基板上形成濾色片是困難的。
根據上述問題，本發(fā)明的目的是提供高產量地制造具有較佳耐沖擊屬性的顯示設備的方法，即制造具有使用塑料基板形成的光學薄膜的顯示設備的方法。
根據本發(fā)明的一方面，提供了制造顯示設備的方法，包括第一步驟，在第一基板上層壓金屬膜、氧化物膜、和濾光片；第二步驟，將第二基板貼到濾光片上；第三步驟，將第一基板從濾光片剝離；以及第四步驟，第一到第三步驟之后在第三基板的表面上形成包括像素的層，并將濾光片貼至包括像素的層的另一面上。
根據本發(fā)明的另一方面，提供了一種制造顯示設備的方法，包括第一步驟，在第一基板上層壓第一金屬膜、第一氧化物膜、和濾光片；第二步驟，將濾光片從第一基板剝離；第三步驟，將第二基板貼到濾光片上；第四步驟，第一到第三步驟之后在第三基板上層壓第二金屬膜和第二氧化物膜、在氧化物膜的表面上形成包括像素的層，并包括像素的層貼至濾光片上；以及第五步驟，將第二金屬膜從第二氧化物膜剝離，并將第四基板貼至已剝離第二氧化物膜的另一個表面上。
注意，可在執(zhí)行第一和第二步驟之后執(zhí)行第三步驟。也可以在執(zhí)行第一和第三步驟之后執(zhí)行第二步驟。
諸如液晶顯示設備、發(fā)光顯示設備、DMD(數(shù)字微鏡設備)、PDP(等離子體顯示屏)、FED(場發(fā)射顯示器)、電泳顯示設備(電子紙)的顯示設備可被列舉為顯示設備的代表性示例。
在使用液晶顯示設備的情形中，液晶顯示材料填充在像素電極和濾光片之間。像素電極可設置在濾光片上。當像素電極僅在液晶材料的一側形成時，液晶顯示設備是可執(zhí)行IPS模式顯示的設備。當提供將液晶材料夾入其間的兩個像素電極時，液晶顯示設備是可執(zhí)行TN(扭轉向列)模式顯示、STN(超扭轉向列)模式顯示、以及VA(豎向定線)模式顯示。
在使用發(fā)光顯示設備的情形中，發(fā)光元件包括第一電極、第二電極、以及在電極之間提供的包含發(fā)光物質的層，其中第一電極設置在第三基板上，第二電極設置在與第三基板相對的基板(即第二基板或第四基板)上。具有這種結構的發(fā)光元件執(zhí)行無源矩陣驅動顯示?；蛘撸诎l(fā)光元件包括第一像素電極、包含發(fā)光物質的層、以及設置在第三基板上的第二像素電極的情形中，具有這種結構的發(fā)光元件執(zhí)行有源矩陣驅動顯示。
濾光片是濾色片、色彩轉換濾光片、或全息濾色片。
第二基板用塑料基板制成。在該情形中，包括第二基板和濾光片的光學薄膜是具有濾色片、色彩轉換濾光片、或全息濾色片的薄膜。
光學薄膜可用作第二基板。對于光學薄膜，可采用偏振片、由相位推延板和偏振片組成的圓形偏振片或橢圓偏振片、抗反射膜、視角改進膜、保護膜、亮度改進膜、棱鏡板等。包括濾光片和第四基板的光學薄膜展現(xiàn)多種光學屬性。
本發(fā)明還包括以下方面。
根據本發(fā)明一方面，提供了一種制造顯示設備的方法，包括第一步驟，在第一基板上按序層壓第一金屬膜、第一氧化物膜和濾光片，通過使用第一可剝離粘接劑將第一支承介質貼至濾光片的表面上使第一支承介質通過濾光片面向第一基板，并通過物理手段將第一金屬膜從第一氧化物膜剝離；第二步驟，在第二基板上形成包括像素的層；以及第三步驟，在第一和第二步驟之后將第一氧化物膜貼至包括第二基板的像素的層的表面上，并去除第一可剝離粘接劑和第一支承介質。
在第三步驟之后，第三基板可通過使用第二粘性材料貼至濾光片的表面上。
在該情形中，第一和第二基板是石英基板、陶瓷基板、硅基板、金屬基板以及不銹鋼基板的任一種，而第三基板是塑料、偏振片、具有相位推延板的偏振片(橢圓偏振片或圓形偏振片)、抗反射膜、視角改進膜、保護膜、亮度改進膜、棱鏡板等。
在第二步驟或第三步驟中，第二基板的表面可貼上塑料、偏振片、具有相位推延板的偏振片(橢圓偏振片或圓形偏振片)、抗反射膜、視角改進膜、保護膜、亮度改進膜、棱鏡板等。
此外，根據本發(fā)明的另一方面，提供了一種制造顯示設備的方法，包括第一步驟，在第一基板上按序層壓第一金屬膜、第一氧化物膜和濾光片，通過使用第一粘性材料將第二基板貼至濾光片的表面上使第二基板通過濾光片面向第一基板，通過使用第一可剝離粘接劑將第一支承介質貼至第二基板的表面上，并通過物理手段將第一金屬膜從第一氧化物膜剝離以便于形成光學薄膜；第二步驟，在第三基板上形成包括像素的層；以及第三步驟，在第一和第二步驟之后將第一氧化物膜貼至包括第三基板的像素的層的表面上，并去除第一可剝離粘接劑和第一支承介質。
此外，根據本發(fā)明的另一方面，提供了一種制造顯示設備的方法，包括第一步驟，在第一基板上按序層壓第一金屬膜、第一氧化物膜和濾光片，通過使用第一可剝離粘接劑將第一支承介質貼至濾光片的表面上使第一支承介質通過濾光片面向第一基板，通過物理手段將第一金屬膜從第一氧化物膜剝離，通過使用第一粘性材料將第二基板貼至第一氧化物膜的表面上，并去除第一支承介質和第一可剝離粘接劑以便于形成光學薄膜；第二步驟，在第三基板上形成包括像素的層；以及第三步驟，在第一和第二步驟之后通過使用第二粘性材料將濾光片貼至包括第三基板的像素的層的表面上。
第一和第三基板是石英基板、陶瓷基板、硅基板、金屬基板以及不銹鋼基板的任一種，而第二基板是塑料、偏振片、具有相位推延板的偏振片(橢圓偏振片或圓形偏振片)、抗反射膜、視角改進膜、保護膜、亮度改進膜、棱鏡板等中的任一種。
在第二步驟和第三步驟之后，第三基板的表面可貼上塑料、偏振片、具有相位推延板的偏振片(橢圓偏振片或圓形偏振片)、抗反射膜、視角改進膜、保護膜、亮度改進膜、棱鏡板等。
此外，根據本發(fā)明的又一方面，提供了一種制造顯示設備的方法，包括第一步驟，在第一基板上按序層壓第一金屬膜、第一氧化物膜和濾光片，通過使用第一可剝離粘接劑將第一支承介質貼至濾光片的表面上使第一支承介質通過濾光片面向第一基板，通過物理手段將第一金屬膜從第一氧化物膜剝離；第二步驟，在第二基板上按序層壓第二金屬膜和第二氧化物膜，并在第二氧化物膜上形成像素電極；以及第三步驟，在第一和第二步驟之后通過使用第一粘性材料將第一氧化物膜貼至包括第二基板的像素的層的表面上，通過使用物理手段將第二金屬膜從第二氧化物膜剝離，通過使用第二粘性材料將第三基板貼至第二氧化物膜的表面上，并去除第一可剝離粘接劑和第一支承介質。
在第三步驟之后，通過使用第三粘性材料可將第四基板貼至濾光器的表面上。
在該情形中，第一和第二基板是石英基板、陶瓷基板、硅基板、金屬基板以及不銹鋼基板的任一種，而第三和第四基板是塑料、偏振片、具有相位推延板的偏振片(橢圓偏振片或圓形偏振片)、抗反射膜、視角改進膜、保護膜、亮度改進膜、棱鏡板等的任一種。
此外，根據本發(fā)明的另一方面，提供了一種制造顯示設備的方法，包括第一步驟，在第一基板上按序層壓第一金屬膜、第一氧化物膜和濾光片，通過使用第一粘性材料將第二基板貼至濾光片的表面上使第二基板通過濾光片面向第一基板，通過使用第一可剝離粘接劑將第一支承介質貼至第二基板的表面上，并通過物理手段將第一金屬膜從第一氧化物膜剝離以便于形成光學薄膜；第二步驟，在第三基板上按序層壓第二金屬膜和第二氧化物膜，并在第二氧化物膜上形成包括像素的層；以及第三步驟，在第一和第二步驟之后通過使用第二粘性材料將第一氧化物膜貼至包括第三基板的像素的層的表面上，通過物理手段將第二金屬膜從第二氧化物膜剝離，通過使用第三粘性材料將第四基板貼至第二氧化物膜的表面上，并去除第一可剝離粘接劑和第一支承介質。
此外，根據本方面的又一方面，提供了一種制造顯示設備的方法，包括第一步驟，在第一基板上按序層壓第一金屬膜、第一氧化物膜和濾光片，通過使用第一可剝離粘接劑將第一支承介質貼至濾光片的表面上使第一支承基板通過濾光片面向第一基板，并通過物理手段將第一金屬膜從第一氧化物膜剝離；第二步驟，通過使用第一粘性材料將第二基板貼至第一氧化物膜的表面上，并去除第一支承介質和第一可剝離粘接劑以便于形成光學薄膜；第三步驟，在第三基板上按序層壓第二金屬膜和第二氧化物膜，并在第二氧化物膜上形成包括像素的層；以及第四步驟，在第一到第三步驟之后通過使用第二粘性材料將濾光片貼至包括像素的層的表面上，通過物理手段將第二金屬膜從第二氧化物膜剝離，通過使用第三粘性材料將第四基板貼至第二氧化物膜的表面上。
與形成第一金屬膜和第一氧化物膜同時地，第一金屬氧化物膜可在第一金屬膜和第一氧化物膜之間形成。此外，與形成第二金屬膜和第二氧化物膜同時地，第二金屬氧化物膜可在第二金屬膜和第二氧化物膜之間形成。
第一氧化物膜可在氧化第一金屬膜的表面以形成第一金屬氧化物膜之后形成。類似地，第二氧化物膜可在氧化第二金屬膜的表面以形成第二金屬氧化物膜之后形成。
此外，半導體元件與像素電極電連接。對于半導體元件，使用TFT、有機半導體晶體管、二極管、MIM元件等。
第一基板最好是耐熱基板。通常，玻璃基板、石英基板、陶瓷基板、硅基板、金屬基板和不銹鋼基板可用作第一基板。
第一和第二金屬膜可用從鈦(Ti)、鋁(Al)、鉭(Ta)、鎢(W)、鉬(Mo)、銅(Cu)、鉻(Cr)、釹(Nd)、鐵(Fe)、鎳(Ne)、鈷(Co)、釕(Ru)、銠(Rh)、鈀(Pd)、鋨(Os)、銥(Ir)中選擇的元素制成；可用包含上述元素作為其主要成份的合金材料或化合物材料的單一層制成；可用其層壓層制成；或用其氮化物制成。
此外，在包括像素的層的表面上形成隔離條之后，它可貼到第二或第三基板上。
根據本發(fā)明，顯示設備指使用顯示元件的設備，即圖像顯示設備。此外，顯示設備包括以下全部模塊用接頭與液晶元件相連的模塊，例如柔性印刷電路(FPC)、TAB(柔性帶自動連接)帶或TCP(芯片帶載封裝)；具有在TAB帶或TCP的端部提供的印刷接線板的模塊；以及通過COG(玻璃上芯片)技術將顯示元件直接與IC(集成電路)或CPU安裝在一起的模塊。
根據本發(fā)明，可形成具有包括塑料基板的光學薄膜的顯示設備。結果，可形成具有較佳耐沖擊屬性的輕質、薄形顯示設備。此外，可制造具有曲面的顯示設備或形狀可變的顯示設備。
在使用根據本發(fā)明的光學薄膜的顯示設備中，包括像素的層和光學薄膜通過不同步驟單獨形成，在完成之后再彼此貼合。通過使用該結構，可單獨控制顯示元件或半導體元件的產量和光學薄膜的產量，從而抑制整個顯示設備產量的下降。
此外，制造有源矩陣基板的步驟和制造光學薄膜的步驟可同時運行，從而縮短顯示設備的制造交付周期。


圖1A～1E是說明制造根據本發(fā)明的顯示設備的步驟的橫截面示圖；圖2A～2F是說明制造根據本發(fā)明的顯示設備的步驟的橫截面示圖；圖3A～3F是說明制造根據本發(fā)明的顯示設備的步驟的橫截面示圖；圖4A～4E是說明制造根據本發(fā)明的顯示設備的步驟的橫截面示圖；圖5A～5D是說明制造根據本發(fā)明的顯示設備的步驟的橫截面示圖；圖6A和6B是說明制造根據本發(fā)明的顯示設備的步驟的橫截面示圖；圖7A和7B是說明制造根據本發(fā)明的顯示設備的步驟的橫截面示圖；圖8A和8B是說明制造根據本發(fā)明的顯示設備的步驟的橫截面示圖；圖9A～9C是說明制造根據本發(fā)明的顯示設備的步驟的橫截面示圖；圖10A和10B是說明制造根據本發(fā)明的顯示設備的步驟的橫截面示圖；圖11A和11B是說明制造根據本發(fā)明的顯示設備的步驟的橫截面示圖；圖12A是示出根據本發(fā)明制造的顯示屏的俯視圖，圖12B是橫截面示圖；圖13A是示出根據本發(fā)明制造的顯示屏的俯視圖，圖13B是橫截面示圖；
圖14A和14B是示出發(fā)光元件結構的示圖；圖15A～15C是發(fā)光元件的像素的電路圖；圖16A是示出根據本發(fā)明制造的顯示屏的俯視圖，圖16B是橫截面示圖；圖17A是示出根據本發(fā)明制造的顯示屏的俯視圖，圖17B是橫截面示圖；圖18是說明一電子設備結構的示圖；圖19是說明一電子設備示例的示圖；圖20A和20B是說明一電子設備示例的示圖。
具體實施例方式
實施方式1制造具有使用塑料基板形成的光學薄膜的顯示設備的方法將參照圖1A～1E用本實施方式進行描述。
如圖1A所示，第一金屬膜102在第一基板101上形成。作為第一基板，可使用耐熱材料，即可承受后續(xù)制造濾光片和剝離步驟中熱處理的材料，通常為玻璃基板、石英基板、陶瓷基板、硅基板、金屬基板、或不銹鋼基板。
第一金屬膜102可用從鈦(Ti)、鋁(Al)、鉭(Ta)、鎢(W)、鉬(Mo)、銅(Cu)、鉻(Cr)、釹(Nd)、鐵(Fe)、鎳(Ne)、鈷(Co)、釕(Ru)、銠(Rh)、鈀(Pd)、鋨(Os)、銥(Ir)中選擇的元素制成；用包含上述元素作為其主要組分的合金材料或化合物材料制成的單一層；或其層壓層。第一金屬膜還可用上述元素的氮化物或其層壓層制成。注意，后續(xù)剝離步驟的條件通過適當調整第一金屬膜的合金中金屬的成分比率、或其中所包含氧或氮的成分比率而改變。因此，剝離步驟可適用于各類處理。第一金屬膜102通過諸如噴鍍、CVD、氣相沉積(VaporDeposition)的已知制造方法制成，以具有10～200納米、最好50～75納米的厚度。
接著第一氧化物膜103在第一金屬膜102上形成。在該情形中，第一金屬氧化物膜在第一金屬膜102和第一氧化物膜103之間形成。當執(zhí)行后續(xù)步驟中的剝離步驟時，剝離可在第一金屬氧化物膜內、第一金屬氧化物膜和第一氧化物膜之間的界面、或第一金屬氧化物膜和第一金屬膜之間的界面中進行。對于第一金屬氧化物膜103，層可通過噴鍍或等離子體CVD由二氧化硅、氧氮化硅、或金屬氧化物制成。第一氧化物膜103的厚度較佳地比第一金屬膜102厚至少兩倍，更佳地比第一金屬膜102厚四倍。第一氧化物膜103的厚度在此設置為200～800納米，較佳地設置為200～300納米。
接著濾光片104在第一氧化物膜103上形成。作為代表性示例，可列舉濾光片、濾色片、色彩轉換濾光片、全息濾色片等。
隨后第二基板112通過使用第一粘性材料111粘貼到濾光片104的表面上。各類固化粘性材料可用作粘性材料，包括反應固化粘性材料、熱固化粘性材料、諸如紫外線固化粘性材料的光固化粘性材料、以及厭氧性固化粘性材料。作為這些材料的代表性示例，可列舉環(huán)氧樹脂、丙烯酸樹脂、硅樹脂的有機樹脂。
塑料基板(高分子材料或樹脂制成的薄膜)被用作第二基板112。作為塑料基板的代表性示例，可使用諸如聚碳酸酯(PC)、由JSR公司制造的具有極性基的降莰烷樹脂制成的ARTON、聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚醚砜(PES)、聚萘甲酸乙二醇酯(PEN)、尼龍、聚醚醚酮(PEEK)、聚砜(PSF)、聚醚酰亞胺(PEI)、多芳基化合物(PAR)、聚對苯二甲酸丁二醇酯(PBT)、以及聚酰亞胺。此外，諸如偏振片、具有相位推延板的偏振片(橢圓偏振片或圓形偏振片)、抗反射膜、視角改進膜、保護膜、亮度改進膜、棱鏡板等的光學薄膜可用作第二基板。
然后，第一支承介質121用第一可剝離粘接劑貼到第二基板112的表面。此時，當氣泡侵入第二基板112和第一可剝離粘接劑122之間時，濾光片在后續(xù)剝離步驟中將容易破裂。為了防止破裂，貼上第一支承介質以不在其間產生氣泡。通過使用裝帶設備等，可在短時間內貼加第一支承介質而不在其間混入氣泡。
較佳地，比第一基板101和第二基板112具有更高剛性的基板被用作第一支承介質121，通常為石英基板、金屬基板或陶瓷基板。
對于第一可剝離粘貼劑122，可使用由有機樹脂制成的粘性材料。代表性地，可例示如下各類可剝離粘性材料，包括電抗可剝離粘性材料、熱可剝離粘性材料、諸如紫外線可剝離粘性材料的光可剝離粘性材料、以及厭氧性可剝離粘性材料；以及在其兩個表面(通常為雙面帶、雙面膜)上都具有由以上可剝離粘性材料制成的粘性層的元件。
在圖1A中，第一基板101和形成于其上的第一金屬膜102被稱為第一剝離體123。此外，從第一氧化物膜103到第二基板112的多個層(即夾在第一金屬膜102和第一可剝離粘貼劑之間的多個層)被稱為第一被剝離體124。
支承介質通常最好通過使用可剝離粘貼劑貼到第一基板101上，以便于防止每個基板的破裂。通過粘合上支承介質，將在后來執(zhí)行的剝離步驟可用較小力執(zhí)行。比第一基板具有更高剛性的基板被用作支承介質，通常為石英基板、金屬基板和陶瓷基板。
如圖1B所示，第一剝離體123接著通過物理手段從第一被剝離體124剝離。該物理力指例如相對較小的力，諸如手力、通過噴嘴施加的氣壓、超聲波、和使用楔形元件的負載。
結果，剝離在第一金屬膜102內、第一金屬氧化物膜內、第一金屬氧化物膜和第一氧化物膜之間的界面、或第一金屬氧化物膜和第一金屬膜之間的界面中進行，從而第一剝離體123可通過較小的力從第一被剝離體124剝離。
為了便于使剝離體剝離，最好在剝離步驟之前作為前一步驟而執(zhí)行預處理。通常，執(zhí)行用于部分地降低第一金屬膜102和第一氧化物膜103之間粘性的處理。用于部分地降低其間粘性的處理通過沿要剝離區(qū)域的邊緣向第一金屬膜102部分地照射激光光束來執(zhí)行，或通過從外部沿要剝離區(qū)域的邊緣局部地施加壓力來部分地損壞第一金屬膜102的內部或界面。特別地，諸如金剛筆的硬針可在向其施加負載的同時垂直施壓并移動。劃線器最好在施加壓力時移動硬針0.1～2毫米。因此，重要的是在執(zhí)行剝離步驟之前形成易于導致剝離現(xiàn)象的部分，即剝離現(xiàn)象的觸發(fā)器。通過事先有選擇(部分)地執(zhí)行降低粘性的預處理，可防止剝離不良從而提高產量。
根據上述步驟，可形成在設置于塑料基板上的光學薄膜。塑料基板和其上形成的濾光片(即第一被剝離體124)在此被稱為光學薄膜。
在根據本實施方式的光學薄膜中，作為粘性材料111的有機樹脂置于濾光片和第二基板112之間，而第一氧化物膜103設置在濾光片與接觸有機樹脂的表面相反的表面上。
第二基板112可由諸如偏振片、相位推延板和光漫射膜的光學薄膜制成。眾所周知的抗反射膜可進一步設置在第二基板或氧化物膜的表面上。通過使用該結構，可形成具有多個光學屬性的光學薄膜。
如圖1C所示，第二金屬膜132和第二氧化物膜133按序在第三基板131上形成。由與第一基板相同的材料制成的基板可被用作第三基板。此外，第二金屬膜132可使用與第一金屬膜102相同的制造步驟、材料和結構制成。類似地，第二氧化物膜133可使用與第一氧化物膜103相同的制造步驟、材料和結構制成。
包括像素的層134在第二氧化物膜133上形成。該包括像素的層表示的是顯示設備中在其上配置具有像素功能的元件或電極的層，該元件或電極通常為液晶元件、發(fā)光元件、像素電極、微鏡陣列、電子發(fā)射體等。此外，在其上也可配置驅動像素的元件，通常為TFT、有機半導體晶體管、二極管、MIM元件等。
第一被剝離體124，即在圖1B中形成的光學薄膜，貼至包括像素的層134的表面上。具體地，第一被剝離體124的氧化物膜103通過使用第二粘性材料(未示出)貼到包括像素的層134的表面上。與第一粘性材料111相同的材料可用作第二粘性材料。
如圖1D所示，第二氧化物膜133通過以與圖1B所示步驟相同的方式使用物理手段來從第二金屬膜132剝離。根據該步驟，第三基板131和第二金屬膜132從第二氧化物膜133剝離。
如圖1E所示，第四基板141用第三粘性材料142貼到第二氧化物膜133或第二金屬氧化物膜的表面上。對于第四基板141以及第二基板112，可采用塑料基板。第一可剝離粘接劑122和第一支承介質121從第二基板112中剝離。
根據上述步驟，可制造包括用塑料基板制成的光學薄膜的顯示設備。結果，可形成具有較佳耐沖擊屬性的輕質、薄形顯示設備。此外，可制造具有曲面的顯示設備或形狀可變的顯示設備。
實施方式2在本實施方式中，制造光學薄膜的方法和使用它來制造顯示設備的方法將參照圖2A～2F進行描述。注意，本實施方式的光學薄膜包括在濾光片和第二基板的結合面方面與實施方式1不同的結構。
如圖2A所示，第一金屬膜102和第一氧化物膜103按序在第一基板101上形成，且濾光片104以與實施方式1相同的方式在第一氧化物膜103上形成。注意第一金屬氧化物膜在第一金屬膜和第一氧化物膜之間形成。
第一支承介質121用第一可剝離粘接劑122貼到濾光片104的表面。第一基板101和其上形成的第一金屬膜102在此稱為第一剝離體123。同時，第一氧化物膜103和濾光片104(即夾在第一金屬膜102和第一可剝離粘接劑122之間的層)被稱為被剝離體224。
支承介質最好用可剝離粘接劑貼到第一基板101上以防止每個基板的破裂。通過粘合支承介質，將在后來執(zhí)行的剝離步驟可用較小力執(zhí)行。較佳地，比第一基板具有更高剛性的基板被用作支承介質，通常為石英基板、金屬基板和陶瓷基板。
在濾光片104的表面不平的情形中，平整層可在濾光片的表面上提供。通過提供起平整層，可防止氣泡侵入濾光片104和第一可剝離粘接劑122之間，從而改進后續(xù)剝離步驟的可靠性。平整層可由通過涂布法形成諸如涂布絕緣薄膜和有機樹脂的材料來制成。當使用通常為粘性材料的可剝離材料形成平整層時，該層可在后來去除。
如圖2B所示，第一剝離體123使用物理手段從第一被剝離體224剝離。為了便于使剝離體剝離，最好在剝離步驟之前執(zhí)行作為前一步驟的如實施方式1所述的預處理。通過執(zhí)行該預處理，剝離在第一金屬氧化物膜內、第一金屬氧化物膜和第一氧化物膜之間的界面、或第一金屬氧化物膜和第一金屬膜之間的界面中進行，從而第一剝離體123可通過相對較小的力從第一被剝離體224中剝離。如實施方式1所述的物理手段可適當采用。
如圖2C所示，第一氧化物膜103和第二基板112通過使用第一粘性材料111來彼此貼合。接著第二支承介質221使用第二可剝離粘接劑222貼到第二基板的表面上。然后，第一可剝離粘接劑122和第一支承介質121從濾光片104去除。與第一可剝離粘接劑122和第一支承介質121相同的材料和結構可分別用作第一可剝離粘接劑222和第一支承介質221。
根據上述步驟，可形成光學薄膜。即在第二基板112上可設置濾光片104。
在該實施例中，有機樹脂是粘性材料111，且第一氧化物膜103置于第二基板112和濾光片104之間。
或者，如圖2A和2B中所示的剝離步驟可在形成作為濾光片104薄膜上的像素電極的導電膜之后執(zhí)行。根據該步驟，可形成具有像素電極的光學薄膜。
作為第二基板112，使用偏振片、具有相位推延板的偏振片(橢圓偏振片或圓形偏振片)、抗反射膜、視角改進膜、保護膜、亮度改進膜、棱鏡板等。此外，眾所周知的抗反射膜可形成在第二基板的表面上。通過使用該結構，可形成具有多個光學屬性的光學薄膜。
然后，如圖2D所示，第二金屬膜132和第二氧化物膜133用與實施方式1相同的方式按序層壓在第三基板131上。
包括像素的層134在第二氧化物膜133上形成。
隨后，圖2C中制造的光學薄膜，即設置第二基板上的濾光片貼到包括像素的層134的表面上。光學薄膜的濾光片104用第二粘性材料(未示出)貼至包括像素的層134的表面上。與第一粘性材料相同的材料可用作第二粘性材料。
如圖2E所示，第二氧化物膜133通過以與圖2B所示步驟相同的方式使用物理手段來從第二金屬膜132剝離。根據該步驟，第三基板131和第二金屬膜132從包括像素的層134剝離。
如圖2F所示，第四基板141通過使用第三粘性材料142貼到第二氧化物膜133的表面上。對于第四基板141以及第二基板112，可采用塑料基板。第二可剝離粘接劑222和第二支承介質221從第二基板112中剝離。
根據上述步驟，可制造包括塑料基板的顯示設備。即，可制造將在塑料基板上形成的光學薄膜用作相對基板的顯示設備。結果，可形成具有較佳耐沖擊屬性的輕質、薄形顯示設備。此外，可制造具有曲面的顯示設備或形狀可變的顯示設備。
實施方式3本實施方式參照圖3A～3F說明以下步驟光學薄膜被轉移到包括像素的層的表面上，且塑料基板被貼至其上以制造顯示設備的相對基板。
如圖3A所示，第一金屬膜102和第一氧化物膜103按序在第一基板101上形成，且濾光片104以與實施方式1相同的方式在第一氧化物膜103上形成。注意第一金屬氧化物膜在第一金屬膜和第一氧化物膜之間形成。
第一支承介質121使用第一可剝離粘接劑122貼到濾光片104的表面。其上形成的第一基板101和第一金屬膜102在此稱為第一剝離體123。同時，第一氧化物膜103和濾光片104(即夾在第一金屬膜102和第一可剝離粘接劑122之間的層)被稱為第一被剝離體224。
支承介質最好用可剝離粘接劑貼到第一基板101上以防止每個基板的破裂。當濾光片104的表面不平時，平整層可在其上提供。
如圖3B所示，第一剝離體123使用物理手段從第一被剝離體224中剝離。為了便于使剝離體剝離，最好在剝離步驟之前執(zhí)行作為前一步驟的如實施方式1所述的預處理。通過執(zhí)行該預處理，剝離在第一金屬氧化物膜內、第一金屬氧化物膜和第一氧化物膜之間的界面、或第一金屬氧化物膜和第一金屬膜之間的界面中進行，從而第一剝離體123可通過相對較小的力從第一被剝離體224中剝離。
如圖3C所示，第二金屬膜132和第二氧化物膜133用與實施方式1相同的方式按序層壓在第三基板131上。與實施方式1中采用的第三基板131相同的基板可用作第二基板331。
接著包括像素的層134在氧化物膜133上形成。
圖3B中制造的被剝離體224，即濾光片貼至包括像素的層134的表面上。具體地，被剝離體224的第一氧化物膜103通過使用第一粘性材料(未示出)貼至包括像素的層134的表面上。與實施方式1所示的第一粘性材料111相同的材料可用作第一粘性材料。
如圖3D所示，第二氧化物膜133以與圖3B所示步驟相同的方式通過物理手段從第二金屬膜132中剝離。根據該步驟，第二基板331和第二金屬膜132從包括像素的層134剝離。
如圖3E所示，第三基板341使用第二粘性材料342貼到第一氧化物膜133的表面上。第三基板341和第二粘性材料342可使用分別與實施方式1的第四基板141和第一粘性材料111相同的材料。接著第一可剝離粘接劑122和第一支承介質121從濾光片104中剝離。
第四基板343使用第三粘性材料344貼到濾光片104的表面上。第四基板343和第三粘性材料344可使用分別與實施方式1的第四基板141和第一粘性材料111相同的材料。
如實施方式2所示，濾色片可貼到包括像素的層的表面上，以替代實施方式1。
當在濾光片104的表面上形成保護膜時，可制造不在其上提供第四基板的顯示設備。
根據上述步驟，可制造包括塑料基板的顯示設備。即，本實施方式使得制造將在塑料基板上形成的光學薄膜用作相對基板的顯示設備成為可能。結果，可形成具有較佳耐沖擊屬性的輕質、薄形顯示設備。此外，可制造具有曲面的顯示設備或形狀可變的顯示設備。
實施方式4在本實施方式中，將參照圖4A～4E描述制造兩面都具有根據實施方式1到實施方式3的任一方式形成的光學薄膜的顯示設備的方法。注意本實施方式使用實施方式1作為示例。
如圖4A所示，第一金屬膜102和第一氧化物膜103按序在第一基板101上形成，且濾光片104以與實施方式1相同的方式在第一氧化物膜103上形成。注意第一金屬氧化物膜在第一金屬膜102和第一氧化物膜103之間形成。
第二基板112使用第一粘性材料111貼到濾光片104的表面上，且第一支承介質121通過使用第一可剝離粘接劑122貼到第二基板的表面。其上形成的第一基板101和第一金屬膜102在此稱為第一剝離體123。同時，第一氧化物膜103和濾光片104(即夾在第一金屬膜102和第一可剝離粘接劑122之間的層)被稱為第一被剝離體124。
隨后，如圖4B所示，剝離體123通過與實施方式1一樣的物理手段從被剝離體124中剝離。為了便于使剝離體剝離，最好在剝離步驟之前執(zhí)行作為前一步驟的預處理。通過執(zhí)行該預處理，剝離在第一金屬氧化物膜內、第一金屬氧化物膜和第一氧化物膜之間的界面、或第一金屬氧化物膜和第一金屬膜之間的界面中進行，從而第一剝離體123可通過相對較小的力從第一被剝離體224中剝離。
根據上述步驟，可形成光學薄膜。即，在第二基板112上提供濾光片104。
如圖4C所示，第二金屬膜132和第二氧化物膜133用與實施方式1相同的方式按序層壓在第三基板131上。
包括像素的層134在第二氧化物膜133上形成。
圖4B中制造的被剝離體124，即光學薄膜貼至包括像素的層134的表面上。具體地，被剝離體124的第一氧化物膜103通過使用第二粘性材料(未示出)貼至包括像素的層134的表面上。與第一粘性材料111相同的材料可用作第二粘性材料。
如圖4D所示，第二氧化物膜133以與圖4B所示步驟相同的方式通過物理手段從第二金屬膜132中剝離。根據該步驟，第三基板131和第二金屬膜132從包括像素的層134剝離。
根據圖4A和4B所示步驟制造的第二被剝離體224通過使用第四粘性材料425貼到第二氧化物膜133的表面上。第二被剝離體424通過層壓第三氧化物膜403、第二濾光片404、第三粘性材料411、第四基板412、第二可剝離粘結劑421、第二支承介質422、以及第一被剝離體124組成。用于第一被剝離體124的各層的材料可用作第二被剝離體的相應層。然后，第二可剝離粘結劑421和第二支承介質422從第四基板412中剝離。此外，第一可剝離粘結劑122和第一支承介質121從第二基板112中剝離。
盡管顯示設備通過使用根據實施方式1制造的光學薄膜制造，本實施方式并非特別受限于此。該顯示設備可通過將根據實施方式2或實施方式3制造的光學薄膜適當轉移為相對基板來制造。
根據本發(fā)明，可制造包括塑料基板的顯示設備。結果，可形成具有較佳耐沖擊屬性的輕質、薄形顯示設備。此外，可制造具有曲面的顯示設備或形狀可變的顯示設備。
另外，可根據本實施方式制造兩面都具有光學薄膜的顯示設備，這使得該顯示設備在兩面都能顯示圖像。
實施方式5在本實施方式中，將參照圖5A～5D描述通過使用不同類型基板制造顯示設備的方法。
如圖5A所示，第一金屬膜102和第一氧化物膜103按序在第一基板101上形成，且濾光片104以與實施方式1相同的方式在其上形成。注意第一金屬氧化物膜在第一金屬膜102和第一氧化物膜103之間形成。
第二基板112使用第一粘性材料111貼到濾光片104的表面上，且第一支承介質121通過使用第一可剝離粘接劑122貼上。其上形成的第一基板101和第一金屬膜102在此稱為第一剝離體123。同時，第一氧化物膜103、濾光片104、第一粘性材料111、和第二基板112(即夾在第一金屬膜102和第一可剝離粘接劑122之間的層)被稱為第一被剝離體124。
隨后，如圖5B所示，剝離體123通過與實施方式1一樣的物理手段從被剝離體124中剝離。為了便于使剝離體剝離，最好在剝離步驟之前執(zhí)行作為前一步驟的如實施方式1所述的預處理。通過執(zhí)行該預處理，剝離便于在第一金屬氧化物膜內、第一金屬氧化物膜和第一氧化物膜之間的界面、或第一金屬氧化物膜和第一金屬膜之間的界面中進行，從而第一剝離體123可通過相對較小的力從第一被剝離體224中剝離。
根據上述步驟，可形成光學薄膜。即，在第二基板112上提供濾光片104。
接著包括像素的層134在第三基板131上形成，如圖5C所示。實施方式1的第三基板131可用作本實施方式的第三基板131。最好拋光基板被用作第三基板，使后來形成的顯示設備可制造成薄形。此外，第四基板可貼至第三基板的表面上。在該情形中，當塑料基板用作實施方式1的第四基板以及第二基板112時，可進一步改進耐沖擊屬性。
如實施方式1所示的第三基板是耐熱基板，且通常玻璃基板、石英基板、陶瓷基板、硅基板、金屬基板等可用作第三基板。
隨后，圖5B中制造的第一被剝離體124，即光學薄膜貼至包括像素的層134的表面上。具體地，第一被剝離體124的第一氧化物膜103通過使用第二粘性材料(未示出)貼到包括像素的層134的表面上。與第一粘性材料111相同的材料可用作第二粘性材料。
如圖5D所示，第一可剝離粘結劑122和第一支承介質121被剝離。
根據上述步驟，可制造具有多類基板的顯示設備。
盡管在此光學薄膜根據實施方式1形成，但它可根據代替實施方式1的實施方式2或實施方式3制造。
根據本發(fā)明，可制造包括使用塑料基板形成的光學薄膜的顯示設備。因此，可形成具有較佳耐沖擊屬性的輕質、薄形顯示設備。
由于在本實施方式中顯示設備使用多類基板制造，所以有可能取決于處理條件選擇適當基板。此外，因為使用塑料基板，可制造具有超耐沖擊屬性的顯示設備。
實施方式6關于實施方式1到實施方式3的任一方式，使剝離體和被剝離體之間更簡便地剝離的步驟將用本實施方式描述。為便于說明，本實施方式參照圖1A～1E使用實施方式1。注意，本實施方式可應用于代替實施方式1的實施方式2到實施方式5的任一方式。
在第一基板101上形成第一金屬膜102和第一氧化物膜103之后，加熱基板。然后，光學薄膜104在其上形成。通過進行熱處理，第一金屬膜102可便于用較小的物理力從第一氧化物膜103中剝離。在該情形中，熱處理可在第一基板可承受的溫度范圍中執(zhí)行，通常為100～600℃的范圍，最好為150～500℃的范圍。
作為熱處理的替代，激光光束可從第一基板101的一側照射。此外，可執(zhí)行熱處理和激光光束照射處理的組合處理。
在此可使用連續(xù)波固態(tài)激光器或脈沖固態(tài)激光器。作為連續(xù)波固態(tài)激光器或脈沖固態(tài)激光器，通常可使用以下各類激光器的一種或多種YAG激光器、YVO4激光器、YLF激光器、YAlO3激光器、玻璃激光器、紅寶石激光器、變石激光器以及鈦蘭寶石激光器。在使用固態(tài)激光器的情形中，最好通過基波的四次諧波使用二次諧波。此外，作為其它的連續(xù)波激光器或脈沖激光器，還有受激準分子激光器、氬激光器和氪激光器。
激光光束可從基板的一側、第一氧化物膜103的一側、或從基板和氧化物膜的兩側照射到第一金屬膜102。
此外，激光光束的光束形狀可以是圓形、三角形、正方形、多邊形、橢圓形或直線形。激光光束的大小并不受特別限制，可從若干微米到若干米(也可具有點狀或平面狀)。此外，在上述氧化步驟中，要用激光光束照射的部分可與該部分之前緊鄰的激光光束已照射的區(qū)域交迭，或可不與之交迭。此外，較佳地使用具有10納米到1毫米波長、更佳地從10納米到10微米的波長的激光光束。
因此，用本實施方式制造的光學薄膜可用較小的物理力從第一基板中剝離，從而改進具有光學薄膜的顯示設備的生產和可靠性。
實施方式7關于實施方式1到實施方式5的任一方式，使剝離體和被剝離體之間更簡便地剝離的步驟將用本實施方式描述。注意，本實施方式可應用于除實施方式1之外的實施方式2到實施方式5的任一方式。
在本實施方式中，在形成濾光片之后執(zhí)行熱處理。
在第一基板上形成第一金屬膜102、第一氧化物膜103、和濾光片104之后，加熱結果的第一基板。然后，第二基板112使用實施方式1的第一執(zhí)行材料111貼到濾光片104上。同時，第一支承介質121通過使用實施方式2中的第一可剝離粘結劑122貼到濾光片104上。
通過進行熱處理，第一金屬膜102可通過較小物理力從第一氧化物膜103中剝離。此時，熱處理可在第一基板或濾光片可承受的溫度范圍中執(zhí)行，通常為150～300℃的范圍，最好為200～250℃的范圍。
作為熱處理的替代，激光光束可從與實施方式6一樣的第一基板101的一側照射。此外，可執(zhí)行熱處理和激光光束照射處理的組合處理。
用本實施方式制造的光學薄膜可用較小的物理力從第一基板中剝離，從而改進使用光學薄膜的顯示設備的生產和可靠性。
實施方式8本實施方式將描述形成光學薄膜的方法，它與實施方式1～7相比在形成金屬氧化物膜的步驟中不同。為便于說明，本實施方式使用實施方式1。
金屬膜102用與實施方式1相同的方式在第一基板101上形成。隨后，金屬氧化物膜在金屬膜102的表面上形成。作為在其上形成金屬氧化物膜的方法，可列舉如下熱氧化處理、氧等離子體處理、使用諸如臭氧水的強氧化溶液的處理等。通過利用任一種氧化方法，金屬膜102的表面被氧化成形成厚度為從1～10納米，最好為從2～5納米的金屬氧化物膜。
然后氧化物膜103和濾光片104以與實施方式1相同的方式在金屬氧化物膜上形成。然后，光學薄膜可根據每個實施方式實現(xiàn)。
因此，作為剝離體一部分的金屬氧化物膜可用本實施方式形成，從而形成高產量的光學薄膜。
實施方式9本實施方式將參照圖14A和圖14B描述可應用于實施方式1到實施方式8的任一方式的發(fā)光元件的結構。
發(fā)光元件包括一對電極(陽極和陰極)，以及夾在陽極和陰極之間的包含熒光物質的層。在下文中，第一電極分別表示設置在實施方式1、2、4中第二基板一側、實施方式3中第四基板一側、以及實施方式5第三基板一側的電極，而第二電極分別表示實施方式1到實施方式5中設置在與上述基板相對的基板上的電極。
包含熒光物質的層包括至少一個發(fā)光層，并通過層壓一個或多個具有不同載流子的層形成，諸如空穴注入層、空穴傳輸層、阻擋層、電子傳輸層、電子注入層、以及發(fā)光層。
圖14A和14B示出發(fā)光元件的橫截面結構的示例。
在圖14A中，包含熒光物質的層1403通過在第一電極(陽極)1401上按序層壓空穴注入層1404、空穴傳輸層1405、發(fā)光層1406、電子傳輸層1407、和電子注入層1408組成。在電子注入層1408上提供第二電極(陰極)1402，以完成一發(fā)光元件。在用于驅動發(fā)光元件的TFT在第一電極(陽極)中提供的情形中，p溝道TFT被用作TFT。
同時，在圖14B中，包含熒光物質的層1413通過在第一電極(陰極)1411上按序層壓電子注入層1418、電子傳輸層1417、發(fā)光層1416、空穴傳輸層1415、和空穴注入層1414組成。在空穴注入層1414上提供第二電極(陽極)1412，以完成一發(fā)光元件。在用于驅動發(fā)光元件的TFT在第一電極(陰極)中提供的情形中，n溝道TFT被用作TFT。
注意，該實施方式并非受限于此。例如，各類結構可用作發(fā)光元件，如下所示陽極/空穴注入層/發(fā)光層/電子傳輸層/和陰極的結構、陽極/空穴注入層/空穴傳輸層/發(fā)光層/電子傳輸層/電子注入層/和陰極的結構、陽極/空穴注入層/空穴傳輸層/發(fā)光層/空穴阻擋層/電子傳輸層/和陰極的結構、陽極/空穴注入層/空穴傳輸層/發(fā)光層/空穴阻擋層/電子傳輸層/電子注入層/和陰極的結構等。注意，作為發(fā)光區(qū)域即像素電極的排列的形式，可列舉條狀排列、三角形排列、馬賽克排列等。
第一電極1401和1411由具有光屏蔽屬性的導電薄膜制成。在圖14A中，第一電極1401用作陽極，且因此可由氮化錫(TiN)、氮化鋯(ZrN)、錫(Ti)、鎢(W)、鎳(Ni)、鉑(Pt)、鉻(Cr)、鋁(Al)等的單一層、與氮化鈦薄膜和鋁基薄膜結合的層壓層、或氮化鈦薄膜、鋁基薄膜和另一氮化鈦薄膜的三層結構形成。
在圖14B中，第一電極1401用作陰極，因此可用諸如鋰(Li)和銫(Cs)的堿金屬，諸如鎂(Mg)、鈣(Ca)和鍶(Sr)的堿土金屬，包含堿金屬和堿土金屬的合金(諸如鎂:銀和鋁:鋰)、以及諸如鐿(Yb)和鉺(Er)的稀土金屬制成。在使用由氟化鋰(LiF)、氟化銫(CsF)、氟化鈣(CaF2)、氧化鋰(Li2O)等制成的電子注入層的情形中，諸如鋁的常規(guī)導電薄膜可用作第一電極。
包含熒光物質的層1403和1413可由低分子量材料、高分子量材料和以低聚物(oligomer)、樹枝狀聚體(dendrimer)等為代表的中分子量材料的已知有機化合物制成。此外，可使用通過單態(tài)(singlet)激發(fā)發(fā)光(熒光)的發(fā)光材料(單態(tài)化合物)或通過三態(tài)激發(fā)發(fā)光(磷光)的發(fā)光材料(三態(tài)化合物)。
然后，以下示出用于構成包含熒光物質的層1403和1413的材料的特定示例。
在有機化合物的情形中，卟啉化合物作為用于形成空穴注入層1404和1414的空穴注入材料是有效的，并且可使用例如酞花青(下文中稱為H2-Pc)、銅酞青(下文中稱為Cu-Pc)等。對于空穴注入材料還有這樣的材料，其中導電聚合物配混料進行了化學摻雜，諸如摻雜有聚苯乙烯磺酸酯(下文中稱為PSS)、聚苯胺(下文中稱為PAni)、以及聚乙烯咔唑(下文中稱為PVK)的聚二氧乙基噻吩(下文中稱為PEDOT)。使用由諸如五氧化二釩的無機半導體制成的薄膜、或由諸如氧化鋁的無機絕緣體制成的超薄薄膜也是有效的。
作為用于形成空穴傳輸層1405和1415的空穴傳輸材料，推薦基于芳族胺化合物(即具有苯環(huán)-氮鍵的物質)。作為廣泛使用的材料，有例如N，N’-二(3-甲基苯基)-N，N’-聯(lián)苯基-1，1’-聯(lián)苯基-4，4’-二胺(縮寫TPD)；其衍生物，諸如4，4’-二-[N-(1-萘基)-N-苯基-氨基]-聯(lián)苯(縮寫α-NPD)等。此外，還可列舉星爆式(StarBurst)芳胺化合物，諸如4，4’，4”-三(N，N-二苯基-氨基)-三苯胺(縮寫TDATA)、以及4，4’，4”-三(3-(3-甲基苯基)-N-苯基-氨基)-三苯胺(縮寫MTDATA)。
用于形成發(fā)光層1406和1416的發(fā)光材料的特定示例包括金屬絡合物，諸如三(8-喹啉醇)鋁(縮寫Alq3)、三(4-甲基-8-喹啉醇)鋁(縮寫Almq3)、二(10-羥基苯并喹啉酸)鈹(縮寫B(tài)eBq2)、二(2-甲基-8-喹啉醇)-(4-羥基-聯(lián)苯基)-鋁(縮寫B(tài)Alq)、二[2-(2-羥基苯基)-苯并噁唑]鋅(縮寫Zn(BOX)2)、以及二[2-(2-羥基苯基)-苯并噻唑]鋅(縮寫Zn(BTZ)2)。此外，各類熒光染料對發(fā)光層材料是有效的。使用以鉑或銥作為絡合物中心金屬的三態(tài)熒光材料也是可以的。例如，以下為眾所周知的三態(tài)熒光材料三(2-苯基吡啶)銥(縮寫Ir(ppy)3)、2，3，7，8，12，13，17，18-八乙基-21H，23H-卟啉-鉑(縮寫PtOEP)等。
作為用于形成電子傳輸層1407和1417的電子傳輸材料，可列舉以下金屬絡合物三(8-喹啉醇)鋁(縮寫Alq3)、三(4-甲基-8-喹啉醇)鋁(縮寫Almq3)、二(10-羥基苯并〔h〕喹啉酸)鈹(縮寫B(tài)eBq2)、二(2-甲基-8-喹啉醇)-(4-羥基-聯(lián)苯基)-鋁(縮寫B(tài)Alq)、二[2-(2-羥基苯基)-苯并噁唑]鋅(縮寫Zn(BOX)2)、以及二[2-(2-羥基苯基)-苯并噻唑]鋅(縮寫Zn(BTZ)2)等。除金屬絡合物之外，電子傳輸層使用以下材料噁二唑衍生物，諸如2-(4-聯(lián)苯基)-5-(4-叔丁基苯基)-1，3，4-噁二唑(縮寫PBD)、以及1，3-二[5-(對叔丁基苯基)-1，3，4-噁二唑-2基]苯(縮寫OXD-7)；三唑衍生物，諸如3-(4-叔丁基苯基)-4-苯基-5-(4-聯(lián)苯基)-1，2，4-三唑(縮寫TAZ)、以及3-(4-叔丁基苯基)-4-(4-乙基苯基)-5-(4-聯(lián)苯基)-1，2，4-三唑(縮寫p-EtTAZ)；咪唑衍生物，諸如2，2’，2”-(1，3，5-苯三基)三[1-苯基-1H-苯并咪唑](縮寫TPBI)；以及菲咯啉衍生物，諸如紅菲繞啉(縮寫B(tài)Phen)以及浴銅靈(縮寫B(tài)CP)。
作為用于形成電子注入層1408和1418的電子注入材料，可使用上述電子傳輸材料。此外，常常使用由諸如堿金屬鹵化物(例如LiF和CsF)、堿土金屬鹵化物(例如CaF2)、和堿金屬氧化物(例如Li2O)的絕緣體制成的超薄薄膜。此外，也可有效使用堿金屬絡合物，諸如乙酰丙酮根合鋰(縮寫Li(acac))、以及8-喹啉酚根合-鋰(縮寫Liq)。
在形成根據本實施方式的發(fā)光顯示設備的情形中，可通過使包含熒光物質的層發(fā)射白光、同時再形成濾色片來執(zhí)行全彩顯示。或者，可通過使包含熒光物質的層發(fā)出藍光，同時再提供色彩轉換層等來執(zhí)行全彩顯示。
此外，分別發(fā)射紅、綠、藍光的著色層在包含熒光物質的層1403和1413中形成、同時使用濾色片以便于執(zhí)行全彩顯示。具有該結構的發(fā)光顯示設備展現(xiàn)相應R、G和B的高色彩純度，從而可執(zhí)行高清晰度顯示。
第二電極具有對應于第一電極1401和1411的極性，并由透明導電薄膜制成。
在圖14A中，第二電極1402用作陰極，因此可通過層壓包含諸如鋰Li和銫Cs的堿金屬和諸如鎂Mg、鈣Ca和鍶Sr的堿土金屬的超薄薄膜、以及透明導電薄膜(例如ITO、IZO、ZnO等)?；蛘撸帢O可通過形成由用堿金屬或堿土金屬共沉積電子傳輸材料形成的電子傳輸層、并在其上層壓透明導電薄膜(例如ITO、IZO、ZnO等)而形成。
在圖14B中，第二電極1412用作陽極，因此由透明導電薄膜制成。在圖14A中，第一電極用作陽極，因此使用諸如銦錫氧化物(ITO)、和銦鋅氧化物(IZO)的透明導電薄膜制成。
在圖14A中，當?shù)谝浑姌O1411(陽極)由諸如銦錫氧化物(ITO)、銦鋅氧化物(IZO)、和包含二氧化硅的銦錫氧化物(ITSO)的透明導電薄膜制成時，光線可向第一電極和第二電極發(fā)射。
在圖14B中，光線可通過使用如下結構向第一電極和第二電極發(fā)射。第一電極1401(陰極)由透明導電薄膜制成，該薄膜通常為通過層壓包含諸如鋰Li和銫Cs的堿金屬和諸如鎂Mg、鈣Ca和鍶Sr的堿土金屬的超薄薄膜、以及透明導電薄膜(例如ITO、IZO、ZnO等)而形成的層。或者，電子注入層通過用堿金屬或堿土金屬共沉積電子傳輸材料而形成，且透明導電薄膜(例如ITO、IZO、ZnO等)層壓其上。
在本實施方式中示出的發(fā)光元件分別向第二電極1402和1412發(fā)射光線(在附圖箭頭標示的方向上)。
實施例1將參照圖6A和6B、圖7A和7B、以及圖8A和8B說明制造對應于根據本發(fā)明的一顯示設備實施例的發(fā)光顯示設備的步驟。濾色片被用作本實施例中濾光片的代表性示例。注意，色彩轉換濾光片、全息濾色片等可代替濾色片使用。
如圖6A所示，剝離層在玻璃基板(第一基板601)上形成。在本實施例中，AN100被用作玻璃基板。例如鉬薄膜(厚度為10～200納米，較佳地為50～75納米)的第一金屬膜602通過噴鍍在玻璃基板上形成。隨后，第一氧化物膜603即二氧化硅膜(厚度為10～400納米，較佳地為75～150納米)層壓其上。在層壓之后，第一金屬氧化物膜(即氧化鉬膜)在第一金屬膜602和第一氧化物膜603之間形成。在隨后的剝離步驟中，剝離可在第一氧化鉬膜內、第一氧化鉬膜和第一二氧化硅膜之間的界面、或第一氧化鉬膜和第一鉬膜之間的界面中進行。
如圖6B所示，濾色片609隨后在第一氧化物膜603上形成。作為制造濾色片的方法，可采用以下眾所周知的方法使用著色樹脂的蝕刻法；使用色彩保護層的色彩保護法；染色法；電沉積法；膠束電解法；電沉積轉移法；薄膜擴散法；噴墨法(飛沫放電法)；銀鹽著色法等。
在本實施例中，濾色片通過蝕刻法使用其中散布顏料的感光樹脂形成。首先，其中散布黑色顏料的感光丙烯酸樹脂敷貼至第一氧化物膜603上。丙烯酸樹脂經干燥、臨時烘烤，隨后曝光并顯影。然后，感光樹脂在220℃的溫度上加熱以固化，從而形成0.5～1.5μm厚的黑底604。隨后，其中散布紅色顏料的感光丙烯酸樹脂、其中散布綠色顏料的感光丙烯酸樹脂、以及其中散布藍色顏料的感光丙烯酸樹脂分別敷貼至基板上。每種感光丙烯酸樹脂都進行形成黑底的相同步驟，從而分別形成厚度為1.0～205μm的紅色著色層605(下文中稱為著色層R)、綠色著色層606(下文中稱為著色層G)、藍色著色層607(下文中稱為著色層B)。然后，有機樹脂被敷貼到結果基板上形成保護膜(平整層)608，從而獲得濾色片609。
在本說明書中，著色層R表示其中傳輸紅光(在650納米附近具有峰值波長)的著色層。著色層G表示其中傳輸綠光(在550納米附近具有峰值波長)的著色層。著色層B表示其中傳輸藍光(在450納米附近具有峰值波長)的著色層。
第二基板(塑料基板)611通過使用第一粘性材料610貼至保護膜(平整層)608上。對于第一粘性材料610，采用是光固化粘性材料的環(huán)氧樹脂。聚碳酸酯薄膜被用作第二基板611。在濾色片的表面上形成的環(huán)氧膜、濾色片、有機樹脂層、以及塑料基板在此被稱為具有濾色片的基板614。
隨后，執(zhí)行預處理以簡便地進行剝離處理，盡管并未在附圖中示出。通過使用劃線器，硬針在施加壓力的同時移動0.1～2毫米，以便于在本實施例中去除基板的邊緣。在該情形中，第一金屬膜602從第一氧化物膜603中剝離。通過事先有選擇(部分)地執(zhí)行降低粘性的預處理，可防止剝離不良從而提高產量。
第一支承介質613通過使用第一可剝離粘結劑612貼到第二基板611的表面上。雙面膠帶用作第一可剝離粘結劑612，而石英基板用作第一支承介質613。
然后，如圖6B所示，第二支承介質622使用第二可剝離粘結劑621貼到第一基板601上。雙面膠帶用作第二可剝離粘結劑，而石英基板用作第二支承介質以及第一支承介質。
如圖7A所示，第一基板601隨后從具有濾色片的基板614剝離。具體地，第一金屬膜602通過物理手段從第一氧化物膜603中剝離。該剝離步驟可通過相對較小的力來執(zhí)行(例如，使用元件的負載、手力、通過噴嘴施加的氣壓、超聲波等)。在本實施例中，具有諸如楔形的尖銳端部的元件的一部分被插入第一602金屬膜和第一氧化物膜603之間以剝離這兩個層。因而，具有在第一氧化物膜603上形成的濾色片的基板614可從第一基板601和第一金屬膜602中剝離。如果粘結劑保留在第一氧化物膜603的表面上，則可導致分離不良。因此，第一氧化物膜603的表面最好用氧等離子體照射、紫外線照射、臭氧清洗等沖洗。
根據以上步驟，濾色片609通過作為第一粘性材料610的有機樹脂在塑料基板上形成。注意，第一氧化物膜603在濾色片的表面上形成。
如圖7B所示，第二金屬膜632和第二氧化物膜633在第三基板631上形成。第二金屬膜632和第二氧化物膜633可分別使用與第一金屬膜602和第一氧化物膜603相同的材料和結構。在本實施例中，鎢薄膜通過噴鍍形成為第二金屬膜632，厚度為10～200納米，較佳地為50～75納米。二氧化硅膜通過噴鍍形成為第二氧化物膜633，厚度為20～800納米，較佳地為200～300納米。
接著發(fā)光元件通過已知方法在第二氧化物膜633上形成。在此提供了用于驅動發(fā)光元件的半導體元件。作為半導體元件，形成一種包括通過已知方法(例如固相生長法、激光結晶法、使用催化金屬的結晶法等)形成的晶體半導體膜的TFT634。TFT 634形成如下形成非晶硅薄膜，并摻雜以諸如鎳、鐵、鈷、鉑、鈦、鈀、銅和銥的金屬元素。所得非晶體半導體薄膜通過加熱進行結晶化，以形成晶體半導體薄膜。晶體半導體薄膜圖案化以形成具有預定形狀的半導體區(qū)域，從而獲得具有作為活性區(qū)域的半導體區(qū)域的TFT。TFT 634的結構并無特別限制，并且它可以是上部柵極TFT(典型的為平面TFT)或下部柵極TFT(典型的為反接交錯型TFT)?；蛘?，可使用非晶體半導體薄膜或微晶體半導體薄膜，而不使用晶體半導體薄膜。此外，有機半導體晶體管、二極管、MIM元件等可代替TFT用作半導體元件。
形成與TFT 634相連的導電薄膜并蝕刻成像素大小，從而形成第一電極635。第一電極635使用透明的導電薄膜形成，在此作為示例使用TiN。用于覆蓋第一電極635的邊緣(和接線)的絕緣體640(也稱為岸、間壁、阻檔層、堤壩等)通過諸如CVD、PVD和涂布法之類的已知方法形成。絕緣體640可由無機材料(例如二氧化硅、氮化硅、氮氧化硅等)、感光性或非感光性有機材料(例如聚酰亞胺、丙烯酸、聚酰胺、氨基聚酰亞胺、抗蝕劑、苯并環(huán)丁烯等)或其層壓物制成。
包含熒光物質的層636然后通過氣相沉積、敷貼、噴墨等形成。包含熒光物質的層636由空穴注入層、空穴傳輸層、電子注入層、電子傳輸層以及發(fā)光層組合形成。還可采用任何已知結構。用于發(fā)光層的材料可以是有機材料或無機材料。在使用有機材料的情形中，可采用高分子量材料或低分子量材料。在形成包含熒光物質的層636之前最好通過真空加熱進行脫氣處理。在使用氣相沉積時可在薄膜形成室中執(zhí)行氣相沉積，該室被抽空為5×10-3托(0.665Pa)，最好為10-4～10-6Pa范圍內。
然后第二電極637在包含熒光物質的層636上形成。第二電極由透明的導電薄膜制成，且在本實施例中使用例如鋁鋰合金的超薄薄膜。
第一電極635、包含熒光物質的層636、以及第二電極637統(tǒng)稱為發(fā)光元件638。
如圖7B所示，具有濾色片的基板614和第二電極637使用密封材料互相貼合。在本實施例中密封材料639使用紫外線固化樹脂。
如圖8A所示，第二金屬膜632和第三基板631從第二氧化物膜633上移除，如圖8A所示的。此外，第一可剝離粘結劑612和第一支承介質613從第三基板631上移除。
如圖8B所示，第四基板645用第三粘性材料643貼至第二氧化物膜633上。
實施方式2～9的任一方式可替代實施方式1應用于本實施例。
根據本實施例，濾色片可在塑料基板上形成。此外，當諸如偏振片、相位推延板、和光漫射薄膜的光學薄膜使用濾色片形成時，可獲得結合有多個屬性的光學薄膜。
此外，可制造具有包括塑料基板的光學薄膜的顯示設備，因此可形成具有較佳耐沖擊屬性的輕質薄形發(fā)光顯示設備。而且，可制造具有曲面的發(fā)光顯示設備或形狀可變的發(fā)光顯示設備。
在本實施例中制造的發(fā)光顯示設備包括以下結構包括發(fā)光元件或半導體元件的層和具有濾色片的基板通過不同步驟單獨形成，在完成之后再彼此貼合。通過使用該結構，可單獨控制顯示元件或半導體元件的產量和光學薄膜的產量，從而抑制整個顯示設備產量的下降。
此外，制造有源矩陣基板的步驟和制造基板的步驟可同時運行，從而縮短顯示設備的制造交付周期。
實施例2將參照圖9A～9C、圖10A和10B、以及圖11A和11B描述制造對應于根據本發(fā)明的一顯示設備實施例的液晶顯示設備的步驟。在本實施例中，濾色片被用作濾光片的代表性示例。注意，色彩轉換濾光片、全息濾色片等可代替濾色片使用。
如圖9A所示，剝離層用與實施例1相同的方式在玻璃基板(第一基板901)上形成。在此AN100被用作玻璃基板。例如鉬薄膜(厚度為10～200納米，較佳地為50～75納米)的第一金屬膜902通過噴鍍在玻璃基板上形成，例如二氧化硅膜的第一氧化物膜903(厚度為20～800納米，較佳地為200～300納米)層壓其上。在層壓第一氧化物膜之后，第一金屬氧化物膜(即氧化鉬膜)在第一金屬膜902和第一二氧化硅膜903之間形成。在隨后的剝離步驟中，剝離可在第一氧化鉬膜內、第一氧化鉬膜和第一二氧化硅膜之間的界面、或第一氧化鉬膜和第一鉬膜之間的界面中進行。
如圖9B所示，濾色片909隨后在第一氧化物膜903上形成。在本實施例中，黑底904通過使用其中散布顏料的感光樹脂的蝕刻形成，厚度為0.5～1.5μm。隨后，通過使用其中散布相應顏料的感光樹脂的蝕刻，分別形成厚度為1.0～2.5μm的紅色著色層905(下文中稱為著色層R)、綠色著色層906(下文中稱為著色層G)、藍色著色層907(下文中稱為著色層B)。然后，通過敷貼有機樹脂形成保護膜(平整層)908，從而完成濾色片909。
將用作像素電極(下文中稱為第一像素電極)的導電薄膜911在濾色片909上形成。在此第一像素電極由透明導電薄膜(通常為ITO)制成。
用與實施例1相同的方式執(zhí)行為簡便地進行剝離處理的預處理，盡管并未在附圖中示出。
第一支承介質913使用第一可剝離粘結劑912貼到第一像素電極911的表面上。雙面膠帶在此用作第一可剝離粘結劑912，而石英基板用作第一支承介質913。
如圖9B所示，第二支承介質922使用第二可剝離粘結劑921貼到第一基板901上。雙面膠帶用作第二可剝離粘結劑，而石英基板用作第二支承介質以及第一支承介質。
如圖9C所示，濾色片909用與實施例1相同的方式從第一基板901中剝離。
如圖10A所示，第二基板924使用第一粘性材料923貼到第一氧化物膜903的表面上。第一粘性材料923使用光固化粘性材料，而第二基板924使用PEN基板。根據以上步驟，可形成包括作為塑料基板的PEN基板上所提供的濾色片的光學薄膜914。
隨后，第三支承介質926使用第三可剝離粘結劑925貼到第二基板924的表面上。雙面膠帶用作第三可剝離粘結劑925，而石英基板在本實施例中用作第三支承介質926。
第一支承介質913和第一可剝離粘結劑912可從第一導電薄膜911中剝離。如果粘結劑保留在第一導電薄膜911的表面上，則可導致較差的剝離。因此，其表面最好用氧等離子體照射、紫外線照射、臭氧清洗等沖洗，以便于去除殘余物。為了去除整個塑料基板中吸收的水分，可進行真空加熱。在該情形中，真空加熱應在塑料的容許溫度限制內執(zhí)行。
根據以上步驟，濾色片909通過作為第一粘性材料923的有機樹脂在塑料基板(第二基板)上形成。第一氧化物膜903置于濾色片和有機樹脂之間。濾色片、在濾色片的表面上形成的氧化物膜、有機樹脂層、以及塑料基板在此統(tǒng)稱為具有濾色片的基板914。
如圖10B所示，第一定向膜938在第一像素電極911的表面上形成。在本實施例中，該定向膜使用通過摩擦聚酰亞胺形成的定向膜。或者，可使用由使用二氧化硅或光子定向膜傾斜淀積形成的定向膜。
然后第二金屬膜932和第二氧化物膜933在第三基板931上形成。對于第三金屬膜932，鎢薄膜通過噴鍍形成，厚度為10～200納米，較佳地為50～75納米。對于第二氧化物膜933，二氧化硅膜通過噴鍍形成，厚度為150～200納米。
液晶元件通過已知方法在第二氧化物膜933上形成。在本實施例中提供了用于驅動液晶元件的半導體元件。使用如實施例1中所述的晶體半導體薄膜的TFT934被用作半導體元件。
用作第二像素電極935的由ITO制成的導電薄膜與TFT 934相連。液晶元件939包括第一像素電極911、第二像素電極935、以及后來填充到電極之間的液晶材料。
然后，隔離條936在提供有TFT 934的層上形成。隔離條形成如下有機樹脂被涂布并蝕刻成預定形狀，通常是柱形或筒形。
第二定向膜940在TFT 934、第二像素電極935和隔離條936的表面上形成。通過摩擦聚酰亞胺形成的定向膜被用作第二定向膜以及第一定向膜。
然后，具有濾色片的基板914以及具有在其上形成的TFT和第二像素電極使用第一密封材料(未示出)互相貼合。具體地，第一定向膜938和第二定向膜940用第一密封材料互相貼合。
如圖11A所示，第二金屬膜932和第三基板931從第二氧化物膜933中移除。隨后，第四基板942貼到第二氧化物膜上。此外，第三可剝離粘結劑925和第三支承介質926從第二基板924中移除。
如圖11B所示，液晶材料941填充到兩個基板之間，即第一和第二定向膜938、940之間。通過使用第二密封材料(未示出)，兩個基板被完全密封。
根據以上步驟，可制造使用塑料基板和如圖11B所示在塑料基板上形成的濾色片的液晶顯示設備950。
盡管本發(fā)明僅示出投射式液晶顯示設備，但也可使用反射式液晶顯示設備或半導體投射式液晶顯示設備。
本實施例可應用于實施例1和實施方式3～6的任一個，而非實施方式2。
根據本發(fā)明，濾色片可在塑料基板上形成。此外，當諸如偏振片、相位推延板、和光漫射薄膜的光學薄膜使用濾色片形成時，可獲得結合有多個屬性的光學薄膜。
根據本實施例制造的液晶顯示設備包括以下結構包括液晶元件或半導體元件的層和具有濾色片的基板通過不同步驟單獨制造，在完成之后再彼此貼合。通過使用該結構，可單獨控制液晶元件或半導體元件的產量和光學薄膜的產量，從而抑制整個液晶顯示設備產量的下降。
此外，制造有源矩陣基板的步驟和制造具有濾色片的基板的步驟可同時運行，從而縮短液晶顯示設備的制造交付周期。
實施例3在本實施例中，將參照圖12A和12B說明對應于根據本發(fā)明的一顯示設備實施例的發(fā)光顯示屏的外觀。圖12A示出顯示屏的俯視圖，其中具有在其上形成的半導體元件的第一基板和具有濾色片的第二基板用第一密封材料1205和第二密封材料1206密封，而圖12B示出沿圖12A的A’-A’線取得的橫截面視圖。
在圖12A中，由虛線標示的標號1201表示信號線驅動電路；1202，像素部分；以及1203，掃描線驅動電路。在本實施例中，信號線驅動電路1201、像素部分1202和掃描線驅動電路1203放置在用第一和第二密封材料密封的區(qū)域內。作為第一密封材料，最好使用具有高粘性的環(huán)氧樹脂。此外，期望第一和第二密封材料1205、1206是盡可能不傳送水分和氧氣的材料。
標號1240標示用于傳送信號線驅動電路1201和掃描線驅動電路1203內輸入的信號的連線，并通過連線1208接收來自FPC(柔性印刷電路)1209的視頻信號和時鐘信號，該FPC 1209變成外部輸入端。
然后，參照圖12B描述橫截面結構。與TFT所代表的多個半導體元件一起，第一基板1200配備有驅動電路和像素部分。在第二基板1204的表面上提供濾色片1223。在此可使用根據實施例1形成的具有濾色片的基板614(即第二基板1204和其上所提供的濾色片1223)。對于驅動電路，示出信號線驅動電路1201和像素部分1202。n溝道TFT 1221和p溝道TFT 1222組合形成的CMOS電路被提供為信號線驅動電路1201。
由于在本實施例中信號線驅動電路、掃描線驅動電路和像素部分分別在同一基板上形成，可減小發(fā)光顯示設備的體積。
像素部分1202包括具有開關TFT 1211、驅動TFT 1212、以及由具有光屏蔽屬性的導電薄膜制成的第一電極(陽極)1213的多個像素，其中第一電極1213與驅動TFT 1212的漏極電連接。
這些TFT 1211、1212、1221和1222的層間絕緣薄膜可由包含無機材料(諸如二氧化硅、氮化硅和氮氧化硅)、或有機材料(例如聚酰亞胺、聚酰胺、氨基聚酰亞胺、苯并環(huán)丁烯、和硅氧烷聚合物)作為其主要組分的材料制成。當層間絕緣薄膜由硅氧烷聚合物制成時，它變成具有由硅和氧的鍵形成的構架，并在側鏈中包括氫或/和烷基組。
絕緣體(也稱為岸、間壁、阻檔層、堤壩等)1214在第一電極(陽極)1213的每一端上形成。為了改進在絕緣體1214上所形成薄膜的覆蓋率，絕緣體1214的上邊緣部分或下邊緣部分形成為具有曲率半徑的曲面。絕緣體1214可由包含無機材料(諸如二氧化硅、氮化硅和氮氧化硅)、或有機材料(例如聚酰亞胺、聚酰胺、氨基聚酰亞胺、苯并環(huán)丁烯、和硅氧烷聚合物)作為其主要組分的材料制成。當該絕緣體由硅氧烷聚合物制成時，它變成具有由硅和氧的鍵形成的構架，并在側鏈中包括氫或/和烷基組。此外，絕緣體1214可用由氮化鋁膜、氮氧化鋁膜、包含碳作為其主要組分的薄膜、或制成的保護膜(平整層)覆蓋。
有機化合物材料氣相沉積在第一電極(陽極)1213上，以選擇性地形成包含熒光物質的層1215。
為了在執(zhí)行用于包含熒光物質的層的材料的氣相沉積之前去除基板中所包含的氣體，200～300℃溫度上的熱處理最好在降壓空氣或惰性空氣下進行。
為了使包含熒光物質的層1215發(fā)射白光，白光發(fā)射可使用氣相沉積通過按序層壓Alq3、摻雜有部分作為發(fā)射紅光顏料的尼羅河紅的Alq3、Alq3、p-EtTAZ以及TPD(芳族二胺)獲取。
包含熒光物質的層1215可形成為具有單個層。在該情形中，具有電子傳輸屬性的1，3，4-噁二唑衍生物(PBD)可在具有空穴傳輸屬性的聚乙烯咔唑(PVK)中散布。此外，白光發(fā)射還可通過散布30％重量的PBD作為電子傳輸溶劑、并散布適當量的四類顏料(TPB、香豆素6、DCM1和尼羅河紅)。除上述發(fā)射白光的發(fā)光元件以外，發(fā)射紅光、綠光或藍光的發(fā)光元件可通過適當選擇包含熒光物質的層1215的材料來制造。
注意，包括金屬絡化物等的三態(tài)激發(fā)熒光材料可用于包含熒光物質的層1215，而不是上述單態(tài)激發(fā)熒光材料。
作為用于第二電極(陰極)1216的材料，可使用透明導電薄膜。
因而，可形成包括第一電極(陽極)1213的發(fā)光元件1217、包含熒光物質的層1215、以及第二電極(陰極)1216。發(fā)光元件1217向第二基板1204發(fā)射光線。發(fā)光元件1217是發(fā)射白光的發(fā)光元件的一個示例。全彩顯示可通過使從發(fā)光元件1217發(fā)射的光通過濾色片傳輸來執(zhí)行。
或者，在發(fā)光元件1217是分別發(fā)射單色光R、G和B的發(fā)光元件之一的情形中，全彩顯示可通過選擇性地使用具有包含發(fā)射相應紅、綠、藍光的有機化合物的層的三種發(fā)光元件來執(zhí)行。在該情形中，具有高色彩純度的發(fā)光顯示設備可通過使用于濾色片的相應紅、綠和藍著色層與發(fā)射相應色彩的發(fā)光元件對齊來獲得。
保護性層壓層1218被構成為封裝發(fā)光元件1217。該保護性層壓層通過層壓第一無機絕緣薄膜、應力釋放薄膜、以及第二無機絕緣薄膜來形成。保護性層壓層1218和具有濾色片的基板614(即第二基板1204和濾色片1223)用第一密封材料1205和第二密封材料1206互相貼合。第二基板1204的表面使用粘性材料1224用偏振片1225固定。偏振片1225的表面配備具有1/2λ或1/4λ的相位推延板1229和抗反射膜1226。
接線1208和FPC 1209用各向異性導電薄膜或各向異性導電樹脂1227彼此電連接。
如前所述，根據本實施例的發(fā)光顯示設備的一個特征是具有元件的層和濾色片通過不同步驟單獨形成，在完成之后再彼此貼合。根據該結構，可單獨控制具有元件，即TFT和液晶元件的層的產量和濾色片的產量，從而抑制整個顯示設備產量的下降。
此外，制造有源矩陣基板的步驟和制造濾色片的步驟可同時運行，從而縮短發(fā)光顯示設備的制造交付周期。
另外，由于使用了塑料基板，可制造具有經改進的耐沖擊屬性的輕質發(fā)光顯示設備。
實施例4在本實施例中，將參照圖13A和13B說明對應于根據本發(fā)明的一顯示設備實施例的發(fā)光顯示屏的外觀。圖13A示出顯示屏的俯視圖，其中具有在其上形成的半導體元件的第一基板和具有濾色片的第二基板通過使用第一密封材料1205和第二密封材料1206相互貼合。圖13B對應于沿圖13A的A’-A’線取得的橫截面視圖。在本實施例中，示出使用IC芯片的信號線驅動電路安裝在發(fā)光顯示設備上的示例。
在圖13A中，標號1230表示信號線驅動電路；1202，像素部分；以及1203，掃描線驅動電路。此外，標號1200標示第一基板；標號1204標示第二基板；而標號1205、1206分別標示包含用于保持封閉空間間隙的間隙材料的第一和第二密封材料。
像素部分1202和掃描線驅動電路1203放置在用第一和第二密封材料密封的區(qū)域內，而信號線驅動電路1230放置在用第一和第二密封材料密封的區(qū)域之外。
然后，參照圖13B描述橫截面結構。驅動電路和像素部分在第一基板1200上形成，包括由TFT代表的多個半導體元件。作為驅動電路之一的信號線驅動電路1230與其中形成有半導體元件層1210上的端子相連。像素部分1202在第一基板上提供。信號線驅動電路1230使用單晶硅基板由IC芯片制成。作為使用單晶硅基板的IC芯片的替代，可使用由TFT形成的集成電路芯片。像素部分1202和掃描線驅動電路(未在圖13B中示出)由TFT形成。在本實施例中，像素驅動TFT和掃描線驅動電路由反接交錯型TFT形成。用于反接交錯型TFT的部分或全部相應組件可通過噴墨方法、飛沫放電法、CVD方法和PVD方法等形成。
微晶體半導體薄膜通過用硅化物氣體的輝光放電分解(等離子體CVD)形成。對于硅化物氣體，可使用SiH4、Si2H6、SiH2Cl2、SiHCl3、SiCl4、SiF4等。硅化物氣體還可用H2、或H2和從由He、Ar、Kr和Ne組成的組中選擇的一種或多種稀有氣體元素的混合物稀釋。最好稀釋比例在1∶2～1∶1,000的范圍內。壓力約可在0.1～133帕的范圍內。電源頻率在1MHz～120MHz，較佳地在13MHz～60MHz的范圍內?；寮訜釡囟瓤稍O置為300℃或以下，較佳地為100℃～250℃。對于薄膜中所包含的雜質元素，對于諸如氧氣、氮氣和碳的空氣組分的各雜質濃度最好設置成1×1020/cm3或以下。特別地，氧氣濃度較佳地設置成5×1019/cm3或以下，更佳地設置成1×1019/cm3或以下。TFT電特征的波動可通過使用微晶體半導體薄膜減小。
發(fā)光元件1237包括第一電極1233、包含熒光物質的層1235、以及第二電極1236。電極和層使用與實施例3相同的材料和制造方法形成。發(fā)光元件通過接線1232與TFT 1231電連接。施加到信號線驅動電路1203和像素部分1202的各類信號和電勢通過接線1208從FPC 1209提供。接線1208和FPC 1209用各向異性導電薄膜或各向異性導電樹脂1227互相電連接。
與實施例3一樣，偏振片1225在第二基板1204的表面上提供。1/2λ或1/4λ的相位推延板1229和抗反射膜1226在偏振片1225的表面上提供。
如上所述，根據本實施例的發(fā)光顯示設備的一個特征是具有元件的層和濾色片通過不同步驟單獨形成，在完成之后再彼此貼合。根據該結構，可單獨控制具有元件，即TFT和液晶元件的層的產量和濾色片的產量，從而抑制整個顯示設備產量的下降。
此外，制造有源矩陣基板的步驟和制造濾色片的步驟可同時運行，從而縮短發(fā)光顯示設備的制造交付周期。
另外，由于使用了塑料基板，可制造具有經改進的耐沖擊屬性的輕質發(fā)光顯示設備。
實施例5將參照圖15A～15C描述對應于根據本發(fā)明一實施例的發(fā)光顯示設備的電路圖。圖15A示出像素的等效電路圖，包括信號線1514、電源線1515、1517、掃描線1516、發(fā)光元件1513、用于控制向像素輸入視頻信號的TFT 1510、用于控制在電極之間流動的電流量的TFT 1511、以及用于保持柵極-源極電壓的電容器元件1512。盡管電容器元件1512在圖15A中示出，但在柵極電容或其它寄生電容可用作用于保持柵極-源極電壓的電容器的情形中可不提供該元件。
圖15B示出具有TFT 1518和掃描線1519另外提供給圖15A所示像素的結構的像素電路。電流的提供可因為TFT 1518的排列而強迫中斷，從而可與寫周期在信號寫入所有像素之前開始同時地、或之后立即開始發(fā)光周期。因此，占空比增大，且特別地，活動圖像可較佳地顯示。
圖15C示出其中TFT 1525和接線1526另外提供給圖15B所示像素的像素電路。在該結構中，TFT 1525的柵極電極與保持固定電勢的接線1526相連，從而柵極電極的電勢固定。此外，TFT 1525在飽和區(qū)域中運行。TFT 1511與TFT 1525串聯(lián)，并在線性區(qū)域中操作。TFT 1511的柵極電極被輸入以視頻信號，用于通過TFT 1510傳送有關像素發(fā)光或不發(fā)光的信息。由于在線性區(qū)域中運行的TFT 1511的源極-漏極電壓較低，TFT 1511的柵極-源極電壓中的細微變化不會不利地影響流經發(fā)光元件1513的電流的量。因此，流經發(fā)光元件1513的電流的量由在飽和區(qū)域中運行的TFT 1525確定。根據具有上述結構的本發(fā)明，因TFT 1525特征中的變化導致的發(fā)光元件1513的亮度變化可被改進，從而改進了圖像質量。最好TFT 1525的溝道長度L1和溝道寬度W1、以及TFT 1511的溝道長度L2和溝道寬度W2可被設置成滿足關系L1/W1∶L2/W2＝5～6,000∶1。從制造步驟的角度看，TFT 1525和1511還包括相同的導電型。TFT 1525可以是增強型TFT或耗盡型TFT。
在本發(fā)明的發(fā)光顯示設備中，驅動屏幕顯示器的方法并未受到特別限制?？墒褂美琰c順序驅動方法、線順序驅動方法、面順序驅動方法等。通常采用線順序驅動方法，也可適當采用時分灰度驅動方法或表面區(qū)域灰度驅動方法。此外，發(fā)光顯示設備的源極線可被輸入以模擬信號或數(shù)字信號。驅動電路等可根據圖像信號來適當?shù)卦O計。
使用數(shù)字視頻信號的發(fā)光顯示設備被分成視頻信號在恒定電壓上被輸入像素的一種發(fā)光顯示設備(CV)、以及視頻信號在恒定電流上被輸入像素的另一種發(fā)光顯示設備(CC)。視頻信號在恒定電壓上被輸入像素的發(fā)光顯示設備(CV)被進一步分成固定電壓施加給發(fā)光元件的發(fā)光顯示設備(CVCV)、以及固定電流提供給發(fā)光元件的發(fā)光顯示設備(CVCC)。視頻信號在恒定電流上被輸入像素的發(fā)光顯示設備(CC)還被分成固定電壓施加給發(fā)光元件的發(fā)光顯示設備(CCCV)、以及固定電流提供給發(fā)光元件的發(fā)光顯示設備(CCCC)。
在根據本發(fā)明的發(fā)光顯示設備中，為了防止靜電放電損壞，可向驅動電路或像素部分提供保護電路(例如保護二極管等)。
實施例6在本實施例中，將參照圖16A和16B說明對應于根據本發(fā)明的一顯示設備實施例的液晶顯示屏的外觀。圖16A示出顯示屏的俯視圖，其中具有在其上形成的半導體元件的第一基板和具有濾色片的第二基板通過使用第一密封材料1605和第二密封材料1606相互貼合。圖16B對應于沿圖16A的A’-A’線取得的橫截面視圖。
在圖16A中，由虛線標示的標號1601表示信號線驅動電路；1602，像素部分；以及1603，掃描線驅動電路。在本實施例中，信號線驅動電路1601、像素部分1602和掃描線驅動電路1603在用第一和第二密封材料密封的區(qū)域內提供。
此外，標號1600表示第一基板；1604，第二基板。標號1605和1606分別表示包含用于保持封閉空間間隙的間隙材料的第一和第二密封材料。第一基板1600和第二基板1604用第一和第二密封材料1605、1606彼此貼合，且液晶材料填充在其間。
參照圖16B描述橫截面結構。與TFT所代表的多個半導體元件一起，驅動電路和像素部分在第一基板1600上形成。濾色片1621在第二基板1604的表面上提供?？墒褂酶鶕嵤├?形成的具有濾色片的基板914(即在其上提供的第二基板1604和濾色片1621)。信號線驅動電路1601和像素部分1602被示為驅動電路。信號線驅動電路1601由結合n溝道TFT 1612和p溝道TFT 1613的CMOS電路構成。
信號線驅動電路、掃描線驅動電路和像素部分的TFT在本實施例中在同一基板上形成，從而可減小顯示屏的體積。
多個像素在像素部分1602中形成，且液晶元件1615在每個像素中形成。液晶元件1615表示第一電極1616、第二電極1618以及填充在第一和第二電極之間的液晶材料1619互相交迭的區(qū)域。液晶元件1615的第一電極1616通過接線1617與TFT 1611電連接。液晶元件1615的第二電極1618在第二基板1604的一側上，即濾色片1621上形成。注意，定向膜在各個像素電極的每個表面上形成，盡管并未在附圖上示出。
標號1622表示提供用以在第一電極1616和第二電極1618之間保持距離(單元間隙)的柱形隔離條。該隔離條通過將絕緣薄膜蝕刻成預定形狀來形成?；蛘撸刹捎们蛐胃綦x條。施加到信號線驅動電路1601和像素部分1602的各類信號和電勢通過接線1623從FPC 1609提供。接線1623和FPC用各向異性導電薄膜或各向異性導電樹脂1627互相電連接。注意，諸如焊料的導電膏可代替各向異性導電薄膜或各向異性導電樹脂使用。
偏振片1625用粘性材料1624固定在第二基板1604的表面上。配備有相位推延板的圓形偏振片和橢圓形偏振片可用作偏振片1625。1/2λ或1/4λ的相位推延板和抗反射膜1626在偏振片1625的表面上提供。類似地，第一基板1600的表面用粘性材料配備偏振片(未示出)。
根據本實施例，可制造包括具有塑料基板的光學薄膜的液晶顯示設備。結果，可制造具有較佳耐沖擊屬性的輕質、薄形液晶顯示設備。此外，可制造具有曲面的顯示設備或形狀可變的液晶顯示設備。
實施例7在本實施例中，將參照圖17A和17B說明對應于根據本發(fā)明的一顯示設備實施例的顯示屏的外觀。圖17A示出顯示屏的俯視圖，其中具有在其上形成的半導體元件的第一基板和具有濾色片的第二基板通過使用第一密封材料1605和第二密封材料1606相互貼合。圖17B對應于沿圖17A的A’-A’線取得的橫截面視圖。在此示出其中使用IC芯片的信號線驅動電路安裝在顯示屏上的示例。
在圖17A中，標號1630表示信號線驅動電路；1602，像素部分；以及1603，掃描線驅動電路。此外，標號1600表示第一基板；1604，第二基板。標號1605和1606分別表示包含用于保持封閉空間的間隙材料的第一和第二密封材料。
像素部分1602和掃描線驅動電路1603在用第一和第二密封材料密封的區(qū)域內提供，而信號線驅動電路1630在用第一和第二密封材料密封的區(qū)域外提供。第一和第二基板1600、1604用第一和第二密封材料1605、1606彼此貼合，且液晶材料填充在其間。
然后，參照圖17B描述橫截面結構。驅動電路和像素部分在第一基板1600上形成，包括TFT所代表的多個半導體元件。作為驅動電路之一的信號線驅動電路1630與其中形成有半導體元件的層1610上的端子相連。像素部分1602在第一基板上提供。信號線驅動電路1630使用單晶硅基板由IC芯片制成。作為使用單晶硅基板的IC芯片的替代，可使用由TFT形成的集成電路芯片。像素部分1602和掃描線驅動電路(未在圖17B中示出)由TFT形成。在本實施例中，像素驅動TFT和掃描線驅動電路由反接交錯型TFT形成，該反接交錯型TFT由非晶體半導體薄膜或微晶體半導體薄膜制成。
液晶元件1615的第一電極1616用與實施例6相同的方式通過接線1632與TFT 1631電連接。液晶元件1615的第二電極1618在第二基板1604上，即濾色片1621上形成。標號1622表示提供用以在第一電極1616和第二電極1618之間保持距離(單元間隙)的柱形隔離條。施加到信號線驅動電路1603和像素部分1602的各類信號和電勢通過接線1623從FPC 1609提供。接線1623和FPC用各向異性導電薄膜或各向異性導電樹脂1627互相電連接。
偏振片1625以與實施例6相同的方式用粘性材料1624固定在第二基板1604的表面上。1/2λ或1/4λ的相位推延板和抗反射膜1626在偏振片1625的表面上提供。
根據本實施例，可制造包括具有塑料基板的光學薄膜的液晶顯示設備。結果，可制造具有較佳耐沖擊屬性的輕質、薄形液晶顯示設備。此外，可制造具有曲面的顯示設備或形狀可變的液晶顯示設備。
此外，因為使用塑料基板，可制造具有超耐沖擊屬性的顯示設備。
實施例8各種類型的電氣設備都可通過結合根據本發(fā)明形成的顯示設備制造。電氣設備的示例包括電視機、攝影機、數(shù)碼相機、護目鏡型顯示器(戴在頭上的顯示器)、導航系統(tǒng)、音頻重現(xiàn)設備(諸如汽車音響和混響系統(tǒng))、個人膝上型設備、游戲機、便攜式信息終端(諸如移動計算機、手機、便攜式游戲機、以及電子書籍)、配備有記錄介質的圖像重現(xiàn)設備(通常是可重現(xiàn)諸如數(shù)字多功能盤(DVD)并顯示其圖像的設備)等。作為這些電氣設備的代表性示例，電視機的框圖和立體圖分別在圖18和圖19中示出，而數(shù)碼相機的立體圖在圖20A和20B中示出。
圖18示出接收模擬電視廣播的電視的一般結構。在圖18中，由天線1101接收的電視廣播的廣播頻率被輸入到調諧器1102中。通過混合由天線1101輸入的高頻電視信號和根據預定接收頻率控制的本機振蕩頻率信號，調諧器1102產生并輸出之間頻率(IF)信號。
從調諧器1102輸出的IF信號通過之間頻率放大器(IF放大器)1103放大到所需電壓量。然后，所放大的IF信號由圖像檢測電路1104和音頻檢測電路1105檢測。從圖像檢測電路1104輸出的信號由圖像處理電路1106分成亮度信號和色彩信號。此外，亮度信號和色彩信號進行預定圖像信號處理而變成圖像信號，使圖像信號被輸出到諸如CRT、LCD、EL顯示器的圖像輸出單元。
從音頻檢測電路1105輸出的信號在音頻處理電路1107中進行諸如FM解調的處理，變成音頻信號。然后音頻信號被任意放大以便于向諸如揚聲器的音頻輸出單元1109輸出。
根據本發(fā)明的電視機可應用于數(shù)字廣播，諸如數(shù)字地面廣播、電纜數(shù)字廣播、以及BS數(shù)字廣播；以及模擬廣播，諸如VHF波段、UHF波段等的常規(guī)廣播、電纜廣播、以及BS廣播。
顯示部分1152是圖18中圖像輸出單元1158的一個示例，并顯示圖像。
揚聲器單元1153是圖18中音頻輸出單元的示例，并從中輸出聲音。
操作部分1154配備有電源開關、音量開關、頻道選擇開關、調諧開關、選擇開關等，以便于分別開關電視機、選擇圖像、控制聲音、選擇調諧器等。注意上述選擇可通過使用遙控器(盡管并未在附圖中示出)的操作單元來進行。
視頻輸入端1155從諸如VTR、DVD和游戲機的外部將圖像信號輸入到電視機。
在壁掛式電視機的情形中，壁掛式部分在其機身的后部提供。
通過將本發(fā)明的顯示設備用于電視機的顯示部分，可制造薄形、輕質、具有較佳抗沖擊性能的電視機因此，這種電視機可廣泛應用于壁掛式電視機中，特別可應用于大尺寸顯示介質，諸如在火車站、機場等使用的信息顯示屏、以及街道上的廣告顯示屏。
接著，參照圖20A和20B描述根據本發(fā)明的顯示設備應用于數(shù)碼相機的一個示例。
圖20A和20B是示出數(shù)碼相機的一個示例的示圖。圖20A示出從數(shù)碼相機前面看到的立體圖，而圖20B示出從其后面看到的立體圖。在圖20A中，標號1301表示釋放按鈕；1302，主開關；1303，取景窗口；1304，閃光燈；1305，鏡頭；1306，鏡頭鏡筒；以及1307，外殼。
在圖20B中，標號1311表示取景目鏡；1312，監(jiān)視器；以及1313，操作按鈕。
在按下釋放按鈕1301一半時，操作焦距調節(jié)機制和曝光調節(jié)機制。隨后，將釋放按鈕按到底釋放快門。
數(shù)碼相機通過按壓或旋轉主開關1302開關。
在數(shù)碼相機的正面，取景窗口1303位于鏡頭1305上方，而取景范圍和焦點通過圖20B中所示的取景目鏡1311和取景窗口檢查。
閃光燈1304位于數(shù)碼相機機身正面的頂部。在攝影低亮度水平物體的情形中，按下釋放按鈕后，釋放快門以與閃光的同時拍攝圖片。
鏡頭1305附于數(shù)碼相機的前部。鏡頭由聚焦透鏡、變焦透鏡等組成。光學攝影系統(tǒng)包括鏡頭、以及快門和光圈(未在附圖中示出)。
鏡頭鏡筒1306用于移動鏡頭位置以便于使聚焦透鏡、變焦透鏡等聚焦在物體上。為了拍攝圖片，鏡頭鏡筒從機身中伸出，使鏡頭1305向物體移動。在攜帶數(shù)碼相機時，鏡頭1305儲藏在機身內以減少尺寸。盡管在本實施例中鏡頭可通過移動鏡頭鏡筒拉近以放大物體，但本發(fā)明并不限于該結構。本發(fā)明可應用于由于外殼1307內的光學攝影系統(tǒng)的結構無需拉動鏡頭就可拍攝特寫鏡頭的數(shù)碼相機。
取景目鏡1311在數(shù)碼相機后面的頂部提供，通過它可用視力來檢查拍攝范圍和焦點。
操作按鈕1313表示具有各類功能的按鈕，并在數(shù)碼相機的后面提供。操作按鈕包括設置按鈕、菜單按鈕、顯示按鈕、功能按鈕、選擇按鈕等。
通過將本發(fā)明的顯示設備用于數(shù)碼相機的監(jiān)視器，可制造更薄形的便攜式數(shù)碼相機。
本發(fā)明已參照附圖通過各實施方式和實施例進行了全面的描述。注意，本領域技術人員應當理解，本發(fā)明可用若干形式體現(xiàn)，且各模式及其細節(jié)可改變和更改而不背離本發(fā)明的目的和范圍。因此，本發(fā)明的解釋不應受限于前面實施方式和實施例中提及的描述。注意，為了簡便，彼此相同的部分在附圖中由相同標號標示。
權利要求
1.一種制造顯示設備的方法，包括第一步驟，在第一基板上按序層壓第一金屬膜、第一氧化物膜和濾光片，通過使用第一可剝離粘接劑將第一支承介質貼至濾光片的表面上使第一支承介質通過濾光片面向第一基板，并通過物理手段將第一金屬膜從第一氧化物膜剝離；第二步驟，在第二基板上形成一包括像素的層；以及第三步驟，在第一和第二步驟之后通過使用第一粘性材料將第一氧化物膜貼至第二基板的包括像素的層的表面上，并去除第一可剝離粘接劑和第一支承介質。
2.如權利要求1所述的制造顯示設備的方法，還包括第四步驟在第三步驟之后，通過使用第二粘性材料將第三基板貼至所述濾光片的表面上。
3.如權利要求1所述的制造顯示設備的方法，其特征在于，第一和第二基板是石英基板、陶瓷基板、硅基板、金屬基板以及不銹鋼基板中的任一種，而第三基板是塑料片、偏振片、或具有相位推延板的偏振片。
4.如權利要求1或權利要求2所述的制造顯示設備的方法，其特征在于，在第二步驟或第三步驟之后，第二基板的表面可貼上塑料片、偏振片、或具有相位推延板的偏振片。
5.一種制造顯示設備的方法，包括第一步驟，在第一基板上按序層壓第一金屬膜、第一氧化物膜和濾光片，通過使用第一粘性材料將第二基板貼至濾光片的表面上使第二基板通過濾光片面向第一基板，通過使用第一可剝離粘接劑將第一支承介質貼至第二基板的表面上，并通過物理手段將第一金屬膜從第一氧化物膜剝離以便于形成濾光片；第二步驟，在第三基板上形成包括像素的層；以及第三步驟，在第一和第二步驟之后通過使用第二粘性材料將第一氧化物膜貼至第三基板的包括像素的層的表面上，并去除第一可剝離粘接劑和第一支承介質。
6.一種制造顯示設備的方法，包括第一步驟，在第一基板上按序層壓第一金屬膜、第一氧化物膜和濾光片，通過使用第一可剝離粘接劑將第一支承介質貼至濾光片的表面上使第一支承介質通過濾光片面向第一基板，通過物理手段將第一金屬膜從第一氧化物膜剝離，通過使用第一粘性材料將第二基板貼至第一氧化物膜的表面上，并去除第一支承介質和第一可剝離粘接劑以形成一光學薄膜；第二步驟，在第三基板上形成包括像素的層；以及第三步驟，在第一和第二步驟之后通過使用第二粘性材料將濾光片貼至第三基板的包括像素的層的表面上。
7.如權利要求5或權利要求6所述的制造顯示設備的方法，其特征在于，第一和第三基板是石英基板、陶瓷基板、硅基板、金屬基板以及不銹鋼基板的任一種，而第二基板是塑料片、偏振片、或具有相位推延板的偏振片。
8.如權利要求5或權利要求6所述的制造顯示設備的方法，其特征在于，在第二步驟和第三步驟中，第三基板的表面可貼上塑料片、偏振片、或具有相位推延板的偏振片。
9.一種制造顯示設備的方法，包括第一步驟，在第一基板上按序層壓第一金屬膜、第一氧化物膜和濾光片，通過使用第一可剝離粘接劑將第一支承介質貼至濾光片的表面上使第一支承介質通過濾光片面向第一基板，通過物理手段將第一金屬膜從第一氧化物膜剝離；第二步驟，在第二基板上按序層壓第二金屬膜和第二氧化物膜，并在第二氧化物膜上形成包括像素的層；以及第三步驟，在第一和第二步驟之后通過使用第一粘性材料將第一氧化物膜貼至第二基板的包括像素的層的表面上，通過使用物理手段將第二金屬膜從第二氧化物膜剝離，通過使用第二粘性材料將第三基板貼至第二氧化物膜的表面上，并去除第一可剝離粘接劑和第一支承介質。
10.如權利要求9所述的制造顯示設備的方法，還包括第四步驟在第三步驟之后，通過使用第二粘性材料將第三基板貼至濾光片的表面上。
11.如權利要求9所述的制造顯示設備的方法，其特征在于，第一和第二基板是石英基板、陶瓷基板、硅基板、金屬基板以及不銹鋼基板中的任一種，而第三和第四基板是塑料片、偏振片、或具有相位推延板的偏振片。
12.一種制造顯示設備的方法，包括第一步驟，在第一基板上按序層壓第一金屬膜、第一氧化物膜和濾光片，通過使用第一粘性材料將第二基板貼至濾光片的表面上使第二基板通過濾光片面向第一基板，通過使用第一可剝離粘接劑將第一支承介質貼至第二基板的表面上，并通過物理手段將第一金屬膜從第一氧化物膜剝離以便于形成光學薄膜；第二步驟，在第三基板上按序層壓第二金屬膜和第二氧化物膜，并在第二氧化物膜上形成包括像素的層；以及第三步驟，在第一和第二步驟之后通過使用第二粘性材料將第一氧化物膜貼至第三基板的包括像素的層的表面上，通過物理手段將第二金屬膜從第二氧化物膜剝離，通過使用第三粘性材料將第四基板貼至第二氧化物膜的表面上，并去除第一可剝離粘接劑和第一支承介質。
13.一種制造顯示設備的方法，包括第一步驟，在第一基板上按序層壓第一金屬膜、第一氧化物膜和濾光片，通過使用第一可剝離粘接劑將第一支承介質貼至濾光片的表面上使第一支承基板通過濾光片面向第一基板，并通過物理手段將第一金屬膜從第一氧化物膜剝離；第二步驟，通過使用第一粘性材料將第二基板貼至第一氧化物膜的表面上，并去除第一支承介質和第一可剝離粘接劑以便于形成光學薄膜；第三步驟，在第三基板上按序層壓第二金屬膜和第二氧化物膜，并在第二氧化物膜上形成包括像素的層；以及第四步驟，在第一到第三步驟之后通過使用第二粘性材料將濾光片貼至第三基板的包括像素的層的表面上，通過物理手段將第二金屬膜從第二氧化物膜剝離，通過使用第三粘性材料將第四基板貼至第二氧化物膜的表面上。
14.如權利要求9所述的制造顯示設備的方法，其特征在于，第一和第三基板是石英基板、陶瓷基板、硅基板、金屬基板以及不銹鋼基板中的任一種，而第二和第四基板是塑料片、偏振片、或具有相位推延板的偏振片。
15.如權利要求9、12和13中的任一項所述的制造顯示設備的方法，其特征在于，在形成第二金屬膜和第二氧化物膜的同時，在第二金屬膜和第二氧化物膜之間形成第二金屬氧化物膜。
16.如權利要求9、12和13中的任一項所述的制造顯示設備的方法，其特征在于，第二氧化物膜是在氧化第二金屬膜的表面以形成第二金屬氧化物膜之后形成。
17.如權利要求1、5、6、9、12和13中的任一項所述的制造顯示設備的方法，其特征在于，在形成第一金屬膜和第一氧化物膜的同時，在第一金屬膜和第一氧化物膜之間形成第一金屬氧化物膜。
18.如權利要求1、5、6、9、12和13中的任一項所述的制造顯示設備的方法，其特征在于，第一氧化物膜是在氧化第一金屬膜的表面以形成第一金屬氧化物膜之后形成。
19.如權利要求5、6、12和13中的任一項所述的制造顯示設備的方法，其特征在于，所述光學薄膜包括所述第二基板和濾光片。
20.如權利要求1、5、6、9、12和13中的任一項所述的制造顯示設備的方法，其特征在于，在包括像素的層和濾光片之間填充液晶材料。
21.如權利要求1、5、6、9、12和13中的任一項所述的制造顯示設備的方法，其特征在于，第二像素電極在濾光片上形成。
22.如權利要求1、5、6、9、12和13中的任一項所述的制造顯示設備的方法，其特征在于，在所述第二氧化物膜上形成半導體元件和與所述半導體元件相連的像素電極。
23.如權利要求1、5、6、9、12和13中的任一項所述的制造顯示設備的方法，其特征在于，所述半導體元件為TFT、有機半導體晶體管、二極管、或MIM元件。
24.如權利要求1、5、6、9、12和13中的任一項所述的制造顯示設備的方法，其特征在于，所述濾光片是濾色片或色彩轉換濾光片。
25.如權利要求1、5、6、9、12和13中的任一項所述的制造顯示設備的方法，其特征在于，所述第一金屬膜或第二金屬膜用選自鈦、鋁、鉭、鎢、鉬、銅、鉻、釹、鐵、鎳、鈷、釕、銠、鈀、鋨、銥的元素制成；由包含上述元素作為其主要組分的合金材料或化合物材料的單一層制成；或由其層壓層制成。
26.如權利要求1、5、6、9、12和13的任一項所述的制造顯示設備的方法，其特征在于，所述第一氧化物膜或第二氧化物膜由二氧化硅、氮氧化硅或金屬氧化物制成。
27.如權利要求1、5、6、9、12和13的任一項所述的制造顯示設備的方法，其特征在于，所述支承介質是玻璃基板、石英基板、金屬基板或陶瓷基板。
28.如權利要求1、5、6、9、12和13的任一項所述的制造顯示設備的方法，其特征在于，所述第一可剝離粘結劑是反應可剝離粘性材料、熱可剝離粘性材料、光可剝離粘性材料、厭氧性可剝離粘性材料，或者是其兩面都具有用一種或多種以上粘性材料制成的粘性層的元件。
29.如權利要求1、5、6、9、12和13的任一項所述的制造顯示設備的方法，其特征在于，第一金屬氧化物膜在第一金屬膜和第一氧化物膜之間形成。
30.如權利要求9、12和13的任一項所述的制造顯示設備的方法，其特征在于，第二金屬氧化物膜在第二金屬膜和第二氧化物膜之間形成。
31.如權利要求1、5、6、9、12和13的任一項所述的制造顯示設備的方法，其特征在于，在包括像素的層的表面上形成隔離條之后，所述包括像素的層被貼至所述第二基板或第三基板上。
32.如權利要求1、5、6、9、12和13的任一項所述的制造顯示設備的方法，其特征在于，所述顯示設備是液晶顯示設備、發(fā)光顯示設備、數(shù)字微鏡設備、等離子體顯示屏、場發(fā)射顯示器、電泳顯示設備。
33.一種通過如權利要求1、5、6、9、12和13的任一項所述的制造顯示設備的方法制造的電氣設備。
34.一種通過如權利要求1、5、6、9、12和13的任一項所述的制造顯示設備的方法制造的電視機。
全文摘要
提供一種高產量地制造具有較佳抗沖擊屬性的顯示設備的方法，特別是提供一種制造具有使用塑料基板形成的光學薄膜的顯示設備的方法。制造顯示設備的這種方法包括以下步驟在第一基板上層壓金屬膜、氧化物膜、以及濾光片；從第一基板中剝離濾光片；將濾光片貼到第二基板上；在第三基板上形成包括像素的層；以及將包括像素的層貼到濾光片上。
文檔編號H05B33/14GK1886769SQ20048003519
公開日2006年12月27日 申請日期2004年11月18日 優(yōu)先權日2003年11月28日
發(fā)明者山下晃央, 福本由美子, 后藤裕吾 申請人:株式會社半導體能源研究所