專利名稱：蔭罩和用該蔭罩制造的平面顯示器及其制造方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種蔭罩(shadow mask)，尤其是一種用于改善平面顯示器孔徑的蔭罩，和使用該蔭罩制成的平面顯示器以及制造平面顯示器的方法。
背景技術：
通常，在全色有機場致發(fā)光(EL)顯示器的制造中，蔭罩用于形成具有好的色感(color senses)和發(fā)光效率的R、G、B像素。
一種現(xiàn)有的采用蔭罩制造全色有機EL顯示器的方法，將參考圖1A、1B和1C進行解釋。
首先，陽極條2形成于玻璃襯底1上，然后絕緣膜3和阻擋層(barrier)4以垂直于陽極條2的方向形成于陽極條2上。使用圖1C所示的蔭罩6，相應地在R、G、B像素上形成R、G、B有機EL層。最后，陰極條(未顯示)形成于每個阻擋層4之間，制成該全色有機EL顯示器。
然而，由于圖1C所示的該蔭罩中有條形開口(openings)，蔭罩在外力作用下易于變形，并且下垂。在全色有機EL顯示器的制造中，由于蔭罩的變形和下垂導致無法形成像素區(qū)域，有機EL層將形成于該像素區(qū)域上。

發(fā)明內容
因此，本發(fā)明涉及一種蔭罩、使用該蔭罩制造的平面顯示器以及制造該平面顯示器的方法，基本克服了由于現(xiàn)有技術的局限和缺陷引起的一種或多種問題。
本發(fā)明的一個目的是提供一種能防止由于受力引起的變形和下垂的蔭罩。
本發(fā)明的另一目的是提供一種采用該蔭罩的平面顯示器和制造該顯示器的方法，該平面顯示器具有好的孔徑和簡單的制造工藝。
隨后的描述將闡明本發(fā)明的更多的特征和優(yōu)點，部分的將在描述中顯現(xiàn)出來，或者可從本發(fā)明的實施中獲知。本發(fā)明的目的和另外一些優(yōu)點將在所寫的發(fā)明內容和權利要求以及附圖中特別指出的結構中實現(xiàn)和得到。
就象所實施和廣泛描述的，為實現(xiàn)這些和其它優(yōu)點以及符合本發(fā)明的目的，用于制造平面顯示器的蔭罩包括一襯底，在襯底中形成的排成多行的多個通孔(via holes)，包括在奇數(shù)行上的第一通孔，和在偶數(shù)行上的第二通孔，其中第一通孔被設置為跨騎(straddle)第二通孔，以及形成于第一通孔之間和第二通孔之間的橋(bridges)。
該通孔行方向上的長度大于列方向上的長度，并且通孔的尺寸與要制造的顯示器的兩個像素的尺寸的總和相同。
奇數(shù)行和相鄰偶數(shù)行之間的距離等于要制造的顯示器的兩個像素尺寸的總和，相鄰偶數(shù)行的間距等于要制造的顯示器的五個像素尺寸的總和，相鄰奇數(shù)行的間距等于要制造的顯示器的五個像素尺寸的總和。
橋防止襯底變形，其由金屬制成。
橋的厚度可以與襯底的厚度相同，并可與襯底形成在同一平面上，或者橋的厚度可以與襯底的厚度不同，并與襯底形成在不同的平面上。
該橋可包括一第一子橋(sub-bridge)，其厚度與襯底的厚度相同并與襯底形成在相同的平面上，以及一形成于第一子橋和襯底上的第二子橋。
橋的寬度和厚度在1～1000μm的范圍內。
本發(fā)明的另一方面還提供一種用蔭罩制造平面顯示器的方法，該蔭罩具有在奇數(shù)行上的第一通孔，和在偶數(shù)行上的第二通孔，其中，將第一通孔設置成跨騎第二通孔，以及形成于第一通孔之間和第二通孔之間的橋，該方法包括以下步驟提供一襯底，在襯底上形成平行的多個第一電極條(electrodestrips)，放置蔭罩，使第一和第二通孔正對襯底上的第一像素區(qū)域并位于其上，通過第一和第二通孔，在襯底上的第一像素區(qū)域中形成第一發(fā)光材料，移動并放置蔭罩，使第一通孔和第二通孔正對襯底上的第二像素區(qū)域并位于其上，通過第一和第二通孔，在襯底上的第二像素區(qū)域中形成第二發(fā)光材料，移動并放置蔭罩，使第一通孔和第二通孔正對襯底上的第三像素區(qū)域并位于其上，通過第一和第二通孔，在襯底上的第三像素區(qū)域中形成第三發(fā)光材料，在垂直于第一電極條的方向上，在第一、第二和第三發(fā)光材料上形成第二電極條。
當蔭罩被放置在像素區(qū)域上時，蔭罩的每個通孔正對兩個像素。
本發(fā)明的又一方面提供一種使用蔭罩制造的平面顯示器，該蔭罩具有在奇數(shù)行上的第一通孔，和在偶數(shù)行上的第二通孔，其中，第一通孔被設置為跨騎第二通孔，以及形成于第一通孔之間和第二通孔之間的橋，該平面顯示器包括一襯底，平行地形成于襯底上的多個第一電極條，在垂直于第一電極條方向上的多個第二電極條，和包括形成于第一電極條和第二電極條交叉區(qū)域中的發(fā)光材料的發(fā)光像素，其中，發(fā)光像素以不同的間隔(intervals)形成于第一電極條的方向上，發(fā)光像素以相同的間隔形成于第二電極條的方向上。
每個形成于第一電極條方向上的發(fā)光像素和相鄰一側的發(fā)光像素間的距離不同于該發(fā)光像素和相鄰另一側的發(fā)光像素間的距離。
在第一電極條方向上的發(fā)光像素和相鄰一側的發(fā)光像素間的距離是1～1000μm，在第一電極條方向上的發(fā)光像素和相鄰另一側的發(fā)光像素間的距離小于1μm。
前面一般性的描述和隨后詳細的描述可被理解為代表性和解釋性的，權利要求將對本發(fā)明作進一步解釋。


附圖被并入說明書并構成其一部分，用來提供對本發(fā)明的進一步理解和解釋本發(fā)明的實施例，并和說明書一起闡述本發(fā)明的原理。
在附圖中圖1A是一剖面圖，顯示使用現(xiàn)有技術的蔭罩形成全色有機EL顯示器的有機EL層的工藝；圖1B代表圖1A形成的全色有機EL顯示器的有機EL層的平面圖；圖1C代表圖1A中蔭罩的平面圖；圖2代表根據本發(fā)明一個優(yōu)選實施例的蔭罩的平面圖；圖3A-3C代表根據本發(fā)明優(yōu)選實施例的橋；圖4A-4G是平面圖，顯示用本發(fā)明優(yōu)選實施例的蔭罩制造全色有機EL顯示器方法的步驟；和圖5代表與蔭罩的開口相匹配的顯示器的像素。
具體實施例方式
現(xiàn)在將詳細涉及本發(fā)明優(yōu)選實施例，其例子在附圖中有所表示。圖2代表根據本發(fā)明優(yōu)選實施例的蔭罩的平面圖。
參考圖2，該蔭罩包括襯底10，排成多行的多個通孔20，以及形成于通孔20之間的橋30。
通孔20包括在奇數(shù)行上的第一通孔20a，和在偶數(shù)行上的第二通孔20b，其中，第一通孔20a被設置成跨騎第二通孔20b。為防止由于通孔20引起的襯底10變形，在第一通孔20a之間和第二通孔20b之間由金屬形成橋30。
通孔20行方向的長度大于列方向的長度，即，一個通孔20的尺寸等于要制造的顯示器的兩個像素的尺寸。奇數(shù)行和相鄰偶數(shù)行間的距離被設定為等于兩個像素尺寸的總和，相鄰偶數(shù)行的間距被設定為等于要制造的顯示器的五個像素尺寸的總和，相鄰奇數(shù)行的間距被設定為等于要制造的顯示器的五個像素尺寸的總和。
圖3A-3C代表圖2所示(‘A’部分)根據本發(fā)明優(yōu)選實施例的橋。
圖3A所示的橋30的厚度‘b’與襯底10的厚度相同，并與襯底10形成在同一平面上。圖3B所示的橋30的厚度與襯底10的厚度不同，并與襯底10形成在不同平面上。在這種情況下，橋30被形成在襯底10上且其厚度大于襯底的厚度。
圖3C所示的橋30包括厚度與襯底10相同的第一子橋30a，第一子橋與襯底10形成在同一平面上，和形成于第一子橋和襯底上的第二子橋30b。第二子橋30b的厚度等于或大于第一子橋30a的厚度。
本發(fā)明的蔭罩的橋30的寬度‘a’和厚度‘b’大約為1～1000μm是合適的。
使用前述本發(fā)明的蔭罩很容易地制造具有改善孔徑的平面顯示器。
圖4A-4G代表平面圖，顯示用本發(fā)明優(yōu)選實施例的蔭罩制造全色有機EL顯示器的方法的步驟。
參考圖4A，多個第一電極60平行地形成于透明基板50上。第一電極60形成于像素區(qū)域中，并相互電連接。在襯底50上，第一電極引線60a與第一電極60連接，第二電極引線60b與隨后形成的第二電極連接。
參考圖4B，為減小第一電極60的電阻，附加電極70形成于第一電極60上。附加電極由電阻小于第一電極60的金屬制成，如Cr、Al、Cu、W、Au、Ni、Ag等。
參考圖4C，絕緣膜80形成于透明襯底50上，并覆蓋第一電極60的邊緣部分。當形成絕緣膜80時，像素的尺寸被確定。因此，在垂直于第一電極60的方向上形成阻擋層90，用于像素之間的絕緣。
參考圖4D，圖2所示的蔭罩100置于具有形成于其上的第一電極60的襯底50上。當蔭罩100置于像素區(qū)域上時，蔭罩100被放置為使蔭罩100中的通孔正對兩個像素。首先，蔭罩100被放置為使蔭罩的第一和第二通孔正對紅色像素區(qū)域并位于其上。然后，通過蔭罩100的第一和第二通孔，在紅色像素區(qū)域上沉積紅色發(fā)光材料，形成紅色有機發(fā)光層110a。
參考圖4E，移動并放置蔭罩100，使蔭罩100的第一和第二通孔正對綠色像素區(qū)域并位于其上。然后通過蔭罩100的第一和第二通孔，在綠色像素區(qū)域上沉積綠色發(fā)光材料，形成綠色有機發(fā)光層110b。
參考圖4F，移動并放置蔭罩100，使蔭罩100的第一和第二通孔正對藍色像素區(qū)域并位于其上。然后通過蔭罩100的第一和第二通孔，在藍色像素區(qū)域上沉積藍色發(fā)光材料，形成藍色有機發(fā)光層110c。
參考圖4G，移去蔭罩100，在襯底50的整個表面上形成第二電極材料，第二電極120被形成為垂直于第一電極60。
最后，在第二電極120上形成保護膜，并封裝整個顯示器。
參考圖5，采用本發(fā)明蔭罩制造的顯示器具有在第一電極方向上以不同間隔形成的像素和在第二電極方向上以相同間隔形成的像素。在第一電極方向上形成的像素具有相同的顏色，在第二電極方向上形成的像素具有不同的顏色。即，在第一電極方向上，像素被形成為，該像素和相鄰一側的像素間的距離不同于該像素和相鄰另一側的像素間的距離。參考圖5，在第一電極條方向上，像素‘A’和相鄰一側的像素‘C’之間的距離約為1-1000μm，而在第一電極條方向上，像素‘A’和相鄰另一側的像素‘B’之間的距離約小于1μm。
如前所述，本發(fā)明的蔭罩、采用該蔭罩制造的平面顯示器以及制造該平面顯示器的方法具有下述優(yōu)點。
本發(fā)明蔭罩具有防止由于應力導致的變形和下垂的性能，提高了顯示器制造中的可靠性。
采用本發(fā)明的蔭罩制造顯示器可以提供孔徑更優(yōu)的顯示器，并且制造工藝簡單。
對于本領域內的技術人員，在不離開本發(fā)明的精神和范圍的情況下，對本發(fā)明的蔭罩、采用蔭罩制造的平面顯示器以及制造平面顯示器的方法進行各種修改和變化。因此，涵蓋了本發(fā)明修改和變化的本發(fā)明被提供在附加的權利要求及其等同物的范圍內。
權利要求
1.一種用于制造平面顯示器的蔭罩，包括一襯底；形成于襯底中的排成多行的多個通孔，包括在奇數(shù)行上的第一通孔，和在偶數(shù)行上的第二通孔，其中，第一通孔被設置成跨騎第二通孔；和形成于第一通孔之間和第二通孔之間的橋。
2.如權利要求1的蔭罩，其中該通孔行方向的長度大于列方向的長度。
3.如權利要求1的蔭罩，其中該通孔的尺寸等于要制造的顯示器的兩個像素尺寸的總和。
4.如權利要求1的蔭罩，其中奇數(shù)行和相鄰偶數(shù)行之間的距離等于要制造的顯示器的兩個像素尺寸的總和。
5.如權利要求1的蔭罩，其中相鄰偶數(shù)行的間距等于要制造的顯示器的五個像素尺寸的總和。
6.如權利要求1的蔭罩，其中相鄰奇數(shù)行的間距等于要制造的顯示器的五個像素尺寸的總和。
7.如權利要求1的蔭罩，其中該橋防止襯底變形。
8.如權利要求1的蔭罩，其中該橋由金屬制成。
9.如權利要求1的蔭罩，其中該橋的厚度與襯底的厚度相同并與襯底形成在相同的平面上。
10.如權利要求1的蔭罩，其中該橋的厚度與襯底的厚度不同并與襯底形成在不同的平面上。
11.如權利要求1的蔭罩，其中該橋形成于襯底上。
12.如權利要求10的蔭罩，其中該橋的厚度大于襯底的厚度。
13.如權利要求10的蔭罩，其中該橋包括一第一子橋，其厚度與襯底的厚度相同并與襯底形成在相同的平面上，和一形成于第一子橋和襯底上的第二子橋。
14.如權利要求13的蔭罩，其中第二子橋的厚度等于或大于第一子橋的厚度。
15.如權利要求1的蔭罩，其中該橋的寬度和厚度在1～1000μm的范圍內。
16.一種使用蔭罩制造平面顯示器的方法，該蔭罩具有在奇數(shù)行上的第一通孔和在偶數(shù)行上的第二通孔，其中，第一通孔被設置成跨騎第二通孔，以及形成于第一通孔之間和第二通孔之間的橋，本方法的步驟包括提供一襯底；在襯底上平行地形成多個第一電極條；放置蔭罩，使第一和第二通孔正對襯底上的第一像素區(qū)域并位于其上，且通過第一和第二通孔，在襯底上的第一像素區(qū)域中形成第一發(fā)光材料；移動并放置蔭罩，使第一和第二通孔正對襯底上的第二像素區(qū)域并位于其上，且通過第一和第二通孔，在襯底上的第二像素區(qū)域中形成第二發(fā)光材料；移動并放置蔭罩，使第一和第二通孔正對襯底上的第三像素區(qū)域并位于其上，且通過第一和第二通孔，在襯底上的第三像素區(qū)域中形成第三發(fā)光材料；和在第一、第二和第三發(fā)光材料上以垂直于第一電極條的方向形成第二電極條。
17.如權利要求16的方法，其中，當蔭罩置于像素區(qū)域上時，蔭罩的每個通孔正對兩個像素。
18.一種平面顯示器，其采用一蔭罩制造，該蔭罩具有在奇數(shù)行上的第一通孔，和在偶數(shù)行上的第二通孔，其中，第一通孔被設置成跨騎第二通孔，以及形成于第一通孔之間和第二通孔之間的橋，該平面顯示器包括一襯底；平行地形成于襯底上的多個第一電極條；在垂直于第一電極條方向上的第二電極條；和包括形成于第一電極條和第二電極條交叉區(qū)域的發(fā)光材料的發(fā)光像素，其中，第一電極條方向上形成的發(fā)光像素的間隔不同，第二電極條方向上形成的發(fā)光像素的間隔相同。
19.如權利要求18的平面顯示器，其中，在第一電極條方向上，形成的每個發(fā)光像素和相鄰一側的發(fā)光像素之間的距離不同于該發(fā)光像素和相鄰另一側的發(fā)光像素之間的距離。
20.如權利要求19的平面顯示器，其中，在第一電極條方向上，發(fā)光像素和相鄰一側的發(fā)光像素之間的距離是1～1000μm，在第一電極條方向上，該發(fā)光像素和相鄰另一側的發(fā)光像素之間的距離小于1μm。
全文摘要
提供一種蔭罩、和使用該蔭罩制造的平面顯示器以及制造該平面顯示器的方法。該蔭罩包括一襯底和形成于襯底中的排成多行的多個通孔，該通孔包括在奇數(shù)行上的第一通孔和在偶數(shù)行上的第二通孔，其中第一通孔被設置成跨騎第二通孔，以及在第一通孔之間和第二通孔之間設置橋，因此，改善孔徑。
文檔編號H05B33/10GK1476278SQ0317860
公開日2004年2月18日 申請日期2003年4月12日 優(yōu)先權日2002年4月12日
發(fā)明者金昌男 申請人:Lg電子株式會社