最靠近晶片的一層采用低折射率氧化物，所述低折射率氧化物是硅或鋁的氧化物，所述高折射率氧化物是鈦或鉭的氧化物；
步驟九、涂油墨；將鍍膜后的晶片蓋上鏤空板，在晶片的邊緣處刷涂油墨且重復(fù)刷涂三層；
步驟十、熱烘；將涂完油墨的晶片放入熱烘機(jī)中熱烘2?3h后，空冷至室溫。
[0021]實(shí)施例2
本實(shí)施例的藍(lán)寶石攝像頭窗口片的制備流程包括如下步驟:
步驟一、晶體掏棒；取A向、M向或C向的藍(lán)寶石晶體，然后使用掏棒機(jī)進(jìn)行掏棒，從而得到晶棒；
步驟二、晶體切割；采用金剛砂線切割設(shè)備對晶棒進(jìn)行切割，從而得到晶片；
步驟三、研磨；采用研磨機(jī)對晶片進(jìn)行研磨；研磨時(shí)，加入研磨液，研磨盤對晶片加壓至0.02Mpa，研磨盤的轉(zhuǎn)速為1000rpm/min ;研磨完成后用無水乙醇清洗；所述研磨液組分包括:0.5%的顆粒大小為10 μm的立方氮化硼粉末，14%的烷基酚聚氧乙烯醚，4%的甘油，9%的聚丙二醇400，其余為去離子水；
步驟四、倒角；采用數(shù)控機(jī)床的金剛石砂輪對晶片的邊角進(jìn)行倒角處理，；
步驟五、退火；將晶片放入退火爐內(nèi)，以180°C /h的速度進(jìn)行升溫將溫度升至1600°C，升溫時(shí)在300 0C保溫2h、在800 0C保溫4h、在1600 °C保溫5h，然后以200 °C的溫度進(jìn)行降溫，降溫時(shí)在1000°C、500°C分別保溫2h冷卻至室溫取出；
步驟六、雙面化學(xué)拋光；先用無水乙醇對晶片進(jìn)行清洗，然后將清洗后的晶片放入雙面拋光機(jī)中固定；拋光時(shí)，加入拋光液，拋光盤對晶片加壓至0.12Mpa，拋光盤的轉(zhuǎn)速為lOOOrpm/min、將拋光好的晶片用無水乙醇清洗后，在室溫下進(jìn)行自然冷卻；所述拋光液組分包括:0.5%的顆粒大小為I μπι的立方氮化硼粉末，14%的烷基酚聚氧乙烯醚，4%的甘油，9%的聚丙二醇400，0.5%的納米二氧化硅，使得拋光液PH值為11.0的堿性溶液，其余為去離子水；拋光過程中不斷補(bǔ)充堿性溶液以保持拋光液的PH值；
步驟七、激光取片；將拋光后的晶片放入激光切割機(jī)中并通入保護(hù)氣體，將晶片按需求切割成相應(yīng)大??；
步驟八、鍍膜；采用光學(xué)真空鍍膜機(jī)對晶片的正反兩面鍍抗反射膜，抗反射膜由低折射率氧化物和高折射率氧化物逐層鍍覆而成且層數(shù)為4層，最靠近晶片的一層采用低折射率氧化物，所述低折射率氧化物是硅或鋁的氧化物，所述高折射率氧化物是鈦或鉭的氧化物；
步驟九、涂油墨；將鍍膜后的晶片蓋上鏤空板，在晶片的邊緣處刷涂油墨且重復(fù)刷涂三層；
步驟十、熱烘；將涂完油墨的晶片放入熱烘機(jī)中熱烘2h后，空冷至室溫。
[0022]實(shí)施例3
本實(shí)施例的藍(lán)寶石攝像頭窗口片的制備流程包括如下步驟: 步驟一、晶體掏棒；取A向、M向或C向的藍(lán)寶石晶體，然后使用掏棒機(jī)進(jìn)行掏棒，從而得到晶棒；
步驟二、晶體切割；采用金剛砂線切割設(shè)備對晶棒進(jìn)行切割，從而得到晶片；
步驟三、研磨；采用研磨機(jī)對晶片進(jìn)行研磨；研磨時(shí)，加入研磨液，研磨盤對晶片加壓至0.02Mpa，研磨盤的轉(zhuǎn)速為11000rpm/min ;研磨完成后用無水乙醇清洗；所述研磨液組分包括:1%的顆粒大小為15 μ m的立方氮化硼粉末，15%的烷基酚聚氧乙烯醚，5%的甘油，10%的聚丙二醇400，其余為去離子水；
步驟四、倒角；采用數(shù)控機(jī)床的金剛石砂輪對晶片的邊角進(jìn)行倒角處理，；
步驟五、退火；將晶片放入退火爐內(nèi)，以200°C /h的速度進(jìn)行升溫將溫度升至1600°C，升溫時(shí)在300 0C保溫2h、在800 0C保溫3h、在1600 °C保溫5h，然后以200 °C的溫度進(jìn)行降溫，降溫時(shí)在1000°C、500°C分別保溫2h冷卻至室溫取出；
步驟六、雙面化學(xué)拋光；先用無水乙醇對晶片進(jìn)行清洗，然后將清洗后的晶片放入雙面拋光機(jī)中固定；拋光時(shí)，加入拋光液，拋光盤對晶片加壓至0.13 Mpa，拋光盤的轉(zhuǎn)速為1200rpm/min、將拋光好的晶片用無水乙醇清洗后，在室溫下進(jìn)行自然冷卻；所述拋光液組分包括:1%的顆粒大小為3 μπι的立方氮化硼粉末，15%的烷基酚聚氧乙烯醚，5%的甘油，10%的聚丙二醇400，1%的納米二氧化硅，使得拋光液PH值為12.0的堿性溶液，其余為去離子水；拋光過程中不斷補(bǔ)充堿性溶液以保持拋光液的PH值；
步驟七、激光取片；將拋光后的晶片放入激光切割機(jī)中并通入保護(hù)氣體，將晶片按需求切割成相應(yīng)大??；
步驟八、鍍膜；采用光學(xué)真空鍍膜機(jī)對晶片的正反兩面鍍抗反射膜，抗反射膜由低折射率氧化物和高折射率氧化物逐層鍍覆而成且層數(shù)為6層，最靠近晶片的一層采用低折射率氧化物，所述低折射率氧化物是硅或鋁的氧化物，所述高折射率氧化物是鈦或鉭的氧化物；
步驟九、涂油墨；將鍍膜后的晶片蓋上鏤空板，在晶片的邊緣處刷涂油墨且重復(fù)刷涂三層；
步驟十、熱烘；將涂完油墨的晶片放入熱烘機(jī)中熱烘3h后，空冷至室溫。
[0023]本發(fā)明的藍(lán)寶石攝像頭窗口片的生產(chǎn)方法不局限于上述實(shí)施例所述的具體技術(shù)方案，凡采用等同替換形成的技術(shù)方案均為本發(fā)明要求的保護(hù)范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種藍(lán)寶石攝像頭窗口片的生產(chǎn)方法，其特征在于，包括以下具體步驟: 步驟一、晶體掏棒；取A向、M向或C向的藍(lán)寶石晶體，然后使用掏棒機(jī)進(jìn)行掏棒，從而得到晶棒； 步驟二、晶體切割；采用金剛砂線切割設(shè)備對晶棒進(jìn)行切割，從而得到晶片； 步驟三、研磨；采用研磨機(jī)對晶片進(jìn)行研磨；研磨時(shí)，加入研磨液，研磨盤對晶片加壓至0.02?0.022Mpa，研磨盤的轉(zhuǎn)速為1000?1200rpm/min ;研磨完成后用無水乙醇清洗；所述研磨液組分包括:0.5?2%的顆粒大小為10?20 μ m的立方氮化硼粉末，14?16%的烷基酚聚氧乙烯醚，4?6%的甘油，9?11%的聚丙二醇400，其余為去離子水；拌； 步驟四、倒角；采用數(shù)控機(jī)床的金剛石砂輪對晶片的邊角進(jìn)行倒角處理； 步驟五、退火；將晶片放入退火爐內(nèi)，以180?220°C /h的速度進(jìn)行升溫將溫度升至1600°C，升溫時(shí)在300°C、800°C、1600°C分別保溫2?6h，然后以200°C的溫度進(jìn)行降溫，降溫時(shí)在1000°C、500°C分別保溫2?3h冷卻至室溫取出； 步驟六、雙面化學(xué)拋光；先用無水乙醇對晶片進(jìn)行清洗，然后將清洗后的晶片放入雙面拋光機(jī)中固定；拋光時(shí)，加入拋光液，拋光盤對晶片加壓至0.12?0.15 Mpa，拋光盤的轉(zhuǎn)速為1000?1500rpm/min、將拋光好的晶片用無水乙醇清洗后，在室溫下進(jìn)行自然冷卻；所述拋光液組分包括:0.5?2%的顆粒大小為I?6 μ m的立方氮化硼粉末，14?16%的烷基酚聚氧乙烯醚，4?6%的甘油，9?11%的聚丙二醇400，0.5?2%的納米二氧化硅，使得拋光液PH值為11.0?13.0的堿性溶液，其余為去離子水；拋光過程中不斷補(bǔ)充堿性溶液以保持拋光液的PH值； 步驟七、激光取片；將拋光后的晶片放入激光切割機(jī)中并通入保護(hù)氣體，將晶片按需求切割成相應(yīng)大??； 步驟八、鍍膜；采用光學(xué)真空鍍膜機(jī)對晶片的正反兩面鍍抗反射膜，抗反射膜由低折射率氧化物和高折射率氧化物逐層鍍覆而成且層數(shù)為4?8層，最靠近晶片的一層采用低折射率氧化物，所述低折射率氧化物是硅或鋁的氧化物，所述高折射率氧化物是鈦或鉭的氧化物； 步驟九、涂油墨；將鍍膜后的晶片蓋上鏤空板，在晶片的邊緣處刷涂油墨且重復(fù)刷涂三層； 步驟十、熱烘；將涂完油墨的晶片放入熱烘機(jī)中熱烘2?3h后，空冷至室溫。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述藍(lán)寶石攝像頭窗口片的生產(chǎn)方法，其特征在于:所述步驟二中，金剛砂線的直徑為0.14?0.16mm，金剛砂線上金剛石的粒徑為30?40 μ m，金剛砂線在切割時(shí)以12?15m/s的速度運(yùn)動(dòng)，晶體相對于金剛砂線的移動(dòng)速度為0.2?0.3mm/min,切割時(shí)不斷向金剛砂線噴灑切割液，所述切割液中含有粒徑為20?30 μm的金剛石顆粒和粒徑為50?60 μ m的剛玉顆粒。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述藍(lán)寶石攝像頭窗口片的生產(chǎn)方法，其特征在于:所述步驟三中，所述研磨液中含有粒徑為3?6 μπι的氧化鋁顆粒。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述藍(lán)寶石攝像頭窗口片的生產(chǎn)方法，其特征在于:所述步驟五中，升溫時(shí)，在300°C保溫2h，在800°C保溫3h，在1600°C保溫4h。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述藍(lán)寶石攝像頭窗口片的生產(chǎn)方法，其特征在于:所述步驟六中，所述堿性溶液為KOH。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述藍(lán)寶石攝像頭窗口片的生產(chǎn)方法，其特征在于:所述步驟六中，所述拋光液PH值為12.0。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述藍(lán)寶石攝像頭窗口片的生產(chǎn)方法，其特征在于:所述步驟六中，拋光盤對晶片加壓至0.135Mpa。8.根據(jù)權(quán)利要求1所述藍(lán)寶石攝像頭窗口片的生產(chǎn)方法，其特征在于:所述步驟七中，激光束的直徑為0.015?0.02mm，切割速度為3?5mm/So9.根據(jù)權(quán)利要求1所述藍(lán)寶石攝像頭窗口片的生產(chǎn)方法，其特征在于:所述步驟八中，所述光學(xué)真空鍍膜機(jī)，采用離子源產(chǎn)生電子光束，先將低折射率氧化物或高折射率氧化物液化后凝固進(jìn)行預(yù)熔，再將凝固后的低折射率氧化物或高折射率氧化物氣化噴射到晶面上形成膜。
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種藍(lán)寶石攝像頭窗口片的生產(chǎn)方法，具體步驟包括晶體掏棒、晶體切割、研磨、倒角、退火、雙面拋光、激光取片、鍍膜、涂油墨熱烘等工序；本發(fā)明制成的攝像頭窗口片成片質(zhì)量高，廢品率低，生產(chǎn)效率高。
【IPC分類】B24B29/02, H04N5/225, B24B37/00, B24B1/00
【公開號】CN105141812
【申請?zhí)枴緾N201510339527
【發(fā)明人】蘇鳳堅(jiān), 劉俊, 郝正平
【申請人】江蘇蘇創(chuàng)光學(xué)器材有限公司
【公開日】2015年12月9日
【申請日】2015年6月18日