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一種干式檢測分析儀的圖像采集單元的制作方法

文檔序號:12279383閱讀:290來源:國知局
一種干式檢測分析儀的圖像采集單元的制作方法與工藝

技術領域

本發(fā)明屬于圖像采集技術領域,主要用于醫(yī)療和食品檢測中采用干式檢測的各類儀器設備的圖像采集,如金標檢測卡的圖像采集、干式理化檢測卡的圖像采集、干式生化測試條的圖像采集、干式尿液分析儀的圖像采集等。



背景技術:

目前、干式檢測分析儀的圖像采集單元,根據(jù)其選用的傳感器、光源等各個部件的不同,結構和樣式也是各不相同,但是多數(shù)設計都存在體積大、光源不均勻、防塵處理不到位等各種問題,本發(fā)明解決了上述問題,設計了一種通用的圖像采集單元,應用到實際案例中,只需要根據(jù)實際需求調整測試卡的形式即可。



技術實現(xiàn)要素:

為了克服背景技術的不足, 本發(fā)明提供一種干式檢測分析儀的圖像采集單元,該圖像采集單元能夠縮短攝像頭與待拍物體的空間距離,解決了成像重影的問題,防止灰塵進入和阻擋外界光線,能夠較好的避免外界環(huán)境對內部的影響。

本發(fā)明解決其技術問題所采用的技術方案是:

一種干式檢測分析儀的圖像采集單元,包括內部中空的密封采集區(qū)域;密封采集區(qū)域由兩個結構一致的殼體緊密連接組成;密封采集區(qū)域右端安裝有四周設置光源的攝像頭模塊,攝像頭模塊正前方的密封采集區(qū)域安裝有傾斜度為45°的光學反光鏡,密閉采集區(qū)域左下角安裝有自恢復艙門,密封采集區(qū)域內部底端設置有載物臺。采集區(qū)域為密封的空間,避免外界光線對內部的影響;為了縮短攝像頭和待拍攝物體的空間距離,本發(fā)明采用45°的光學反光鏡,改變了攝像頭的成像路徑,在保證拍攝距離的前提下減小了設備的體積;為了避免外界灰塵進入到密封采集區(qū)域污染鏡頭和光學反光鏡,本發(fā)明使用的自恢復艙門由于彈簧的存在,測試卡取出后將自動關閉,能有效的防止灰塵進入,盡可能的減小檢測的誤差;測試卡從自恢復艙門插入后進入到載物臺,攝像頭模塊四周設置的光源為密封采集區(qū)域提供光源,測試卡上的待檢測的物質通過45°的光學反光鏡進入到攝像頭模塊成像,完成采集任務。

優(yōu)選的,所述的光學反光鏡為前鍍膜平面鏡,改變了使用普通平面鏡為后鍍膜造成成像重影的問題。

優(yōu)選的,所述的載物臺設置有限位結構,限位結構包括設置于載物臺上端的上限位卡槽和設置于載物臺左端的左限位卡槽,保證測試卡每次插入后相對位置固定不變。

優(yōu)選的,所述兩個殼體底端的結合部位設置有位置檢測傳感器,用來判斷測試卡是否插到位,此檢測傳感器為光敏電阻,檢測卡插入遮擋了光源,此時電阻值將發(fā)生變化,從而判斷測試卡是否插入。

優(yōu)選的,所述的殼體由黑色殼體壓鑄而成,殼體內部采用硫酸鋇或氧化鎂進行噴涂。光線對圖像采集效果的影響非常大,在本發(fā)明中采用的是黑色殼體壓鑄,這樣可以最大程度的避免外界光線對內部產生影響,另外為了使殼體內部的光線更加均勻,殼體內部采用硫酸鋇或氧化鎂進行噴涂,使得殼體內部形成完美的漫反射腔體,這樣投射到待拍攝物體上的光線就變得比較均勻。

優(yōu)選的,所述的攝像頭模塊采用高像素cmos傳感器設計,能達到較佳的拍攝效果,攝像頭模塊電路板采用黑色阻焊層加工,能達到較好的避光效果。

優(yōu)選的,所述的密封采集區(qū)域內部底端設置有與自恢復艙門相配套的收容槽,當測試卡插入,自恢復艙門打開進入到收容槽中,測試卡進入到載物臺上,測試卡可以避免外界光線進入到密封采集區(qū)域。

本發(fā)明的優(yōu)點是:

1)本發(fā)明采用傾斜角為45度的光學反光鏡,改變了攝像頭的成像路徑,在保證拍攝距離的前提下減小了設備的體積;

2)本發(fā)明了提供了一種前鍍膜平面鏡,解決了成像重影的問題;

3)本發(fā)明采用的是黑色殼體壓鑄,最大程度的避免外界光線對內部產生影響,并且殼體內部采用硫酸鋇或氧化鎂進行噴涂,使得殼體內部形成完美的漫反射腔體,投射到待拍攝物體上的光線較均勻;

4)本發(fā)明提供一種自恢復艙門,由于彈簧的存在,測試卡取出后將自動關閉,防止灰塵進入;

5)本發(fā)明在殼體中設計了限位結構,保證測試卡位置不會改變。

附圖說明

圖1為本發(fā)明的爆炸圖;

圖2為本發(fā)明在使用時將一個殼體移除后的結構示意圖;

圖3為本發(fā)明垂直一個殼體剖開后的結構示意圖。

圖中符號說明:1、殼體;2、光源;3、攝像頭模塊;4、光學反光鏡;5、自恢復艙門;6、載物臺;61、上限位卡槽;62、左限位卡槽;7、位置檢測傳感器;8、收容槽;9、測試卡。

具體實施方式

下面將結合附圖對本發(fā)明作進一步的說明:

一種干式檢測分析儀的圖像采集單元,包括內部中空的密封采集區(qū)域;密封采集區(qū)域由兩個結構一致的殼體1緊密連接組成;密封采集區(qū)域右端安裝有四周設置光源2的攝像頭模塊3,攝像頭模塊3正前方的密封采集區(qū)域安裝有傾斜度為45°的光學反光鏡4,密閉采集區(qū)域左下角安裝有自恢復艙門5,密封采集區(qū)域內部底端設置有載物臺6。

為了避免造成成像重影的問題,所述的光學反光鏡4為前鍍膜平面鏡。

為了保證測試卡9每次插入后相對位置固定不變,所述的載物臺6設置有限位結構,限位結構包括設置于載物臺6上端的上限位卡槽61和設置于載物臺6左端的左限位卡槽62。

為了判斷測試卡9是否插到位,所述兩個殼體1底端的結合部位設置有位置檢測傳感器7。

為了使得殼體1內部形成完美的漫反射腔體,投射到待拍攝物體上的光線就變得比較均勻,所述的殼體1由黑色殼體壓鑄而成,殼體1內部采用硫酸鋇或氧化鎂進行噴涂。

為了能達到較佳的拍攝效果和避光效果,所述的攝像頭模塊3采用高像素cmos傳感器設計,攝像頭模塊3電路板采用黑色阻焊層加工。

為了在使用過程中測試卡9能阻擋外界灰塵或光源,所述的密封采集區(qū)域內部底端設置有與自恢復艙門5相配套的收容槽8。

最后應說明的是:顯然,上述實施例僅僅是為清楚地說明本發(fā)明所作的舉例,而并非對實施方式的限定。對于所屬領域的普通技術人員來說,在上述說明的基礎上還可以做出其它不同形式的變化或變動。這里無需也無法對所有的實施方式予以窮舉。而由此所引申出的顯而易見的變化或變動仍處于本發(fā)明的保護范圍之中。

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