本技術(shù)涉及氣體室，屬于化學(xué)品集成式氣體室。

背景技術(shù)：

1、在大規(guī)模集成電路(ic)制造中需要使用大量高純度化學(xué)品，如rca清洗、濕式蝕刻等。隨著ic制程技術(shù)的不斷進(jìn)步，對高純電子級化學(xué)品生產(chǎn)分裝中的微粒子控制要求也越來越高。

2、集成電路(ic)制造已成為世界上最高新和最龐大的產(chǎn)業(yè)之一，在超大規(guī)模集成電路(ic)的生產(chǎn)中光刻工藝占據(jù)十分重要的地位。集成電路(ic)制造中，需要將掩膜母版上的幾何圖形先轉(zhuǎn)移到基片表面的光刻膠膠膜上，然后再通過從曝光到蝕刻等一系列處理技術(shù)把光刻膠膜上的圖像復(fù)制到襯底基片表面并形成永久性圖形。其中典型的微細(xì)加工過程包括基片預(yù)處理、涂膠、前烘、曝光、顯影、清洗、后烘、蝕刻、去膠，得到所需的永久性圖形，也即在圖形化處理之前，先對硅片進(jìn)行烘干和處理，然后均勻涂上光刻膠，經(jīng)前烘去除光刻膠溶劑通過步進(jìn)縮小投影曝光，在硅片上形成曝光電路圖形。然后經(jīng)顯影，曝光部分去除，保留下沒有曝光部分。經(jīng)后烘，使光刻膠膜粘附更堅(jiān)固。再用濕法刻蝕，將電路圖形永久地保留在硅片上。同時采用熱擴(kuò)散和離子注入進(jìn)行摻雜，最后用去膠劑去除光刻膠膜，在硅片上形成永久性的ic設(shè)計(jì)圖形。

3、在集成電路或半導(dǎo)體分立器件的制做過程中往往需要多次甚至幾十次的光刻，每次光刻均需要完成上述的工序循環(huán)。光刻膠的技術(shù)復(fù)雜，品種較多。光刻膠混配過濾供應(yīng)系統(tǒng)的好壞直接影響cmp制程效果。光刻膠在預(yù)先混合和使用中不能產(chǎn)生較大顆粒、結(jié)晶、感光等問題。為了解決此類問題，人們一直在尋求一種更理想的安全操作模式的技術(shù)解決方案。

4、國內(nèi)光刻膠混配過濾供應(yīng)系統(tǒng)的此類設(shè)備多數(shù)依賴進(jìn)口，隨著國內(nèi)半導(dǎo)體行業(yè)的快速發(fā)展與之配套的上游精細(xì)化工產(chǎn)業(yè)也紛紛配套研發(fā)。為了解決此類問題，人們一直在尋求一種更理想的既準(zhǔn)確有又方便的技術(shù)解決方案。

5、隨著我國半導(dǎo)體行業(yè)的不斷發(fā)展，化學(xué)品品種越來越多，國內(nèi)對化學(xué)品供應(yīng)流程及供應(yīng)過程的要求越來越嚴(yán)格，精度越來越高?，F(xiàn)有技術(shù)中化學(xué)品模塊的切換通常需要在氣體室內(nèi)進(jìn)行，但是由于氣體室位置受限，使得化學(xué)品管道的組裝不便，從而影響組裝的精度。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本實(shí)用新型的目的在于提供一種化學(xué)品集成式氣體室立體以解決背景技術(shù)中的問題。

2、為達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案：

3、一種化學(xué)品集成式氣體室，包括：

4、主體框架，包括用于安放化學(xué)品桶的第一框架、第二框架和第三框架，所述第二框架位于第三框架下方；

5、抽屜式氣體模塊，可拆卸連接于第二框架內(nèi)；

6、電控室，安裝在所述第三框架內(nèi)；

7、所述抽屜式氣體模塊包括抽屜框架、氣體分配管道及監(jiān)測裝置；所述化學(xué)品桶通過連接所述氣體分配管道來對外進(jìn)行氣體輸出。

8、一個或多個實(shí)施例中，所述第二框架和第三框架之間設(shè)有第一隔板，所述第一框架與第二框架之間設(shè)有第二隔板。

9、一個或多個實(shí)施例中，所述第二隔板上安裝有消音外殼。

10、一個或多個實(shí)施例中，所述第一隔板開設(shè)有氣管電線通道。

11、一個或多個實(shí)施例中，所述第二框架底端設(shè)有底板找平托架。

12、一個或多個實(shí)施例中，所述主體框架頂端設(shè)有高效空氣過濾器。

13、一個或多個實(shí)施例中，所述主體框架頂端設(shè)有若干排風(fēng)裝置。

14、一個或多個實(shí)施例中，所述主體框架底端設(shè)有可調(diào)節(jié)底角。

15、本實(shí)用新型的有益效果在于：本實(shí)用新型通過可以拆卸的抽屜式氣體模塊設(shè)計(jì)，可以使得氣體模塊的安裝和更換更加便捷，滿足不同化學(xué)品的輸出需求。

16、上述說明僅是本實(shí)用新型技術(shù)方案的概述，為了能夠更清楚了解本實(shí)用新型的技術(shù)手段，并可依照說明書的內(nèi)容予以實(shí)施，以下以本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例詳細(xì)說明如后。

技術(shù)特征：

1.一種化學(xué)品集成式氣體室，其特征在于，包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學(xué)品集成式氣體室，其特征在于，所述第二框架和第三框架之間設(shè)有第一隔板，所述第一框架與第二框架之間設(shè)有第二隔板。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的化學(xué)品集成式氣體室，其特征在于，所述第二隔板上安裝有消音外殼。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的化學(xué)品集成式氣體室，其特征在于，所述第一隔板開設(shè)有氣管電線通道。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學(xué)品集成式氣體室，其特征在于，所述第二框架底端設(shè)有底板找平托架。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學(xué)品集成式氣體室，其特征在于，所述主體框架頂端設(shè)有高效空氣過濾器。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學(xué)品集成式氣體室，其特征在于，所述主體框架頂端設(shè)有若干排風(fēng)裝置。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學(xué)品集成式氣體室，其特征在于，所述主體框架底端設(shè)有可調(diào)節(jié)底角。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)提供了一種化學(xué)品集成式氣體室，包括：主體框架，包括用于安放化學(xué)品桶的第一框架、第二框架和第三框架，所述第二框架位于第三框架下方；抽屜式氣體模塊，可拆卸連接于第二框架內(nèi)；電控室，安裝在所述第三框架內(nèi)；所述抽屜式氣體模塊包括抽屜框架、氣體分配管道及監(jiān)測裝置；所述化學(xué)品桶通過連接所述氣體分配管道來對外進(jìn)行氣體輸出。本技術(shù)通過可以拆卸的抽屜式氣體模塊設(shè)計(jì)，可以使得氣體模塊的安裝和更換更加便捷，滿足不同化學(xué)品的輸出需求。

技術(shù)研發(fā)人員：邵宏偉,趙迎奧,王夢婷,歐正超,林裕哲
受保護(hù)的技術(shù)使用者：蘇州冠禮科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240104
技術(shù)公布日：2024/12/19