本發(fā)明涉及等離子介質(zhì)阻擋放電電路。

背景技術(shù)：

在液晶面板制造和柔性PCB板制造業(yè)中需要用到離子工業(yè)清洗設(shè)備，離子工業(yè)清洗設(shè)備需要設(shè)計(jì)等離子介質(zhì)阻擋放電電路，以產(chǎn)生等離子體。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于提供一種等離子介質(zhì)阻擋放電電路，其可以產(chǎn)生等離子體，可應(yīng)用在離子工業(yè)清洗設(shè)備上。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的技術(shù)方案是設(shè)計(jì)一種等離子介質(zhì)阻擋放電電路，包括介質(zhì)板和高壓交流電源驅(qū)動(dòng)電路；

所述介質(zhì)板的一側(cè)表面設(shè)有高電壓電極，

所述介質(zhì)板的另一側(cè)表面設(shè)有接地電極；

所述高電壓電極與高壓交流電源驅(qū)動(dòng)電路的高壓輸出端連接，

所述接地電極與高壓交流電源驅(qū)動(dòng)電路的接地端連接；

所述高壓交流電源驅(qū)動(dòng)電路設(shè)有控制高壓輸出的脈寬調(diào)制模塊。

優(yōu)選的，所述介質(zhì)板為云母片。

優(yōu)選的，所述高電壓電極和接地電極為合金片。

優(yōu)選的，所述脈寬調(diào)制模塊包括用于產(chǎn)生脈沖信號(hào)的555定時(shí)器。

優(yōu)選的，所述脈寬調(diào)制模塊包括作為控制高壓輸出開關(guān)的BUZ11開關(guān)管。

優(yōu)選的，所述高電壓電極、介質(zhì)板和接地電極在高壓交流電源驅(qū)動(dòng)電路的驅(qū)動(dòng)下產(chǎn)生等離子體，放電過程發(fā)生在封閉大氣體里，放電間隙為4mm。

本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)和有益效果在于：提供一種等離子介質(zhì)阻擋放電電路，其可以產(chǎn)生等離子體，可應(yīng)用在離子工業(yè)清洗設(shè)備上。

本發(fā)明采用云母片作為介質(zhì)，放在兩片合金片上，這個(gè)合金片就是電極，放電過程可發(fā)生在封閉大氣體里，高壓交流電頻率為30kHz上下，放電間隙為4mm. 等離子體就在介質(zhì)表面產(chǎn)生了。

本發(fā)明可用于等離子工業(yè)清洗設(shè)備，在液晶面板制造和柔性PCB板制造業(yè)中有廣泛的應(yīng)用。

本發(fā)明克服了市場上很多產(chǎn)品高壓不穩(wěn)控制頻率不穩(wěn)的特點(diǎn)。

本發(fā)明可以產(chǎn)生穩(wěn)定的10kv高壓,以及15kHz的頻率調(diào)制。

附圖說明

圖1是高壓交流電源驅(qū)動(dòng)電路的示意圖；

圖2是高電壓電極、介質(zhì)板和接地電極的示意圖。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖和實(shí)施例，對本發(fā)明的具體實(shí)施方式作進(jìn)一步描述。以下實(shí)施例僅用于更加清楚地說明本發(fā)明的技術(shù)方案，而不能以此來限制本發(fā)明的保護(hù)范圍。

本發(fā)明具體實(shí)施的技術(shù)方案是：

如圖1和圖2所示，一種等離子介質(zhì)阻擋放電電路，包括介質(zhì)板1和高壓交流電源驅(qū)動(dòng)電路；

所述介質(zhì)板1的一側(cè)表面設(shè)有高電壓電極2，

所述介質(zhì)板1的另一側(cè)表面設(shè)有接地電極3；

所述高電壓電極2與高壓交流電源驅(qū)動(dòng)電路的高壓輸出端連接，

所述接地電極3與高壓交流電源驅(qū)動(dòng)電路的接地端連接；

所述高壓交流電源驅(qū)動(dòng)電路設(shè)有控制高壓輸出的脈寬調(diào)制模塊。

所述介質(zhì)板1為云母片。

所述高電壓電極2和接地電極3為合金片。

所述脈寬調(diào)制模塊包括用于產(chǎn)生脈沖信號(hào)的555定時(shí)器。

所述脈寬調(diào)制模塊包括作為控制高壓輸出開關(guān)的BUZ11開關(guān)管。

所述高電壓電極2、介質(zhì)板1和接地電極3在高壓交流電源驅(qū)動(dòng)電路的驅(qū)動(dòng)下產(chǎn)生等離子體，放電過程發(fā)生在封閉大氣體里，放電間隙為4mm。

以上所述僅是本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明技術(shù)原理的前提下，還可以做出若干改進(jìn)和潤飾，這些改進(jìn)和潤飾也應(yīng)視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。