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一種用于汞離子微波頻標(biāo)的囚禁射頻源的制作方法

文檔序號:12489707閱讀:來源:國知局

技術(shù)特征:

1.一種用于汞離子微波頻標(biāo)的囚禁射頻源,其特征在于,

包括振蕩器、移相分路模塊、第一功放模塊、第二功放模塊、升壓器、第一可調(diào)電容、第二可調(diào)電容、離子阱;

所述振蕩器,用于產(chǎn)生振蕩信號;

所述移相分路模塊,用于將所述振蕩信號分為兩路相位相反、頻率相同的信號,分別為正相振蕩、反相振蕩;

所述第一功放模塊,用于放大所述正相振蕩,產(chǎn)生正相振蕩放大信號;

所述第二功放模塊,用于放大所述反相振蕩,產(chǎn)生反相振蕩放大信號;

所述升壓器,與所述第一功放模塊和所述第二功放模塊的輸出相連,用于對所述正相振蕩和反相振蕩進(jìn)行升壓,產(chǎn)生正相振蕩升壓信號和反相振蕩升壓信號;

所述正相振蕩升壓信號輸入到所述離子阱的第一電極;反相振蕩升壓信號輸入到所述離子阱的第二電極。

2.如權(quán)利要求1所述用于汞離子微波頻標(biāo)的囚禁射頻源,其特征在于,所述振蕩信號的頻率f,滿足1MHz≤f≤6MHz。

3.如權(quán)利要求1所述用于汞離子微波頻標(biāo)的囚禁射頻源,其特征在于,所述正相振蕩放大信號的電壓v+和反相振蕩放大信號的電壓v-,滿足10V≤v+≤60V,10V≤v-≤60V。

4.如權(quán)利要求1所述用于汞離子微波頻標(biāo)的囚禁射頻源,其特征在于,所述正相振蕩升壓信號電壓峰峰值u+和反相振蕩升壓信號電壓峰峰值u-,滿足1500V≤u+≤3000V,1500V≤u-≤3000V。

5.如權(quán)利要求1所述用于汞離子微波頻標(biāo)的囚禁射頻源,其特征在于,所述離子阱的容性值范圍為20pF~100pF。

6.如權(quán)利要求1所述用于汞離子微波頻標(biāo)的囚禁射頻源,其特征在于,還包含第一可調(diào)電容和第二可調(diào)電容;

所述第一可調(diào)電容并聯(lián)在所述離子阱第一電極;

所述第二可調(diào)電容并聯(lián)在所述離子阱第二電極。

7.如權(quán)利要求1~5任意一項所述用于汞離子微波頻標(biāo)的囚禁射頻源,其特征在于,所述振蕩器為數(shù)字振蕩器。

8.如權(quán)利要求6所述用于汞離子微波頻標(biāo)的囚禁射頻源,其特征在于,還包含微控制器,用于對所述數(shù)字振蕩器進(jìn)行控制。

9.如權(quán)利要求7所述用于汞離子微波頻標(biāo)的囚禁射頻源,其特征在于,還包含USB接口,所述微控制器通過USB接口與計算機(jī)相連接。

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