1.一種駐波加速管，包括：多個加速腔以及與相鄰的加速腔耦合的邊耦合腔，還包括與至少一個邊耦合腔耦合的能量開關(guān)，其中，所述能量開關(guān)包括大致平行且以基本垂直于所述駐波加速管的縱向方向布置的兩塊金屬板，所述金屬板上限定有通孔，在第一狀態(tài)下，所述兩塊金屬板被配置為從所述邊耦合腔退出以使所述駐波加速管工作在pi/2模，在第二狀態(tài)下，所述兩塊金屬板被配置為進(jìn)入所述邊耦合腔內(nèi)并且將所述邊耦合腔分成三腔結(jié)構(gòu)，并且所述三腔結(jié)構(gòu)中的兩兩相鄰的腔體通過所述金屬板的通孔耦合，所述金屬板的形狀被配置為對所述邊耦合腔的電磁場是產(chǎn)生影響的以便于所述駐波加速管保持在pi/2模。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的駐波加速管，其中，所述被配置為對所述邊耦合腔的電磁場是產(chǎn)生影響的所述金屬板的形狀包括相對于所述金屬板的外周邊更靠近所述金屬板的中央布置的凸起的形狀。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的駐波加速管，其中，所述被配置為對所述邊耦合腔的電磁場是產(chǎn)生影響的所述金屬板的形狀包括所述通孔本身或者其他通孔的形狀，其中，所述通孔本身或者其他通孔在徑向上相對于所述金屬板的中央更靠近外側(cè)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的駐波加速管，其中，所述金屬板的通孔位于其中央。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的駐波加速管，其中，所述被配置為對所述邊耦合腔的電磁場是產(chǎn)生影響的形狀包括環(huán)形凸起的形狀，所述環(huán)形凸起圍繞所述通孔。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的駐波加速管，其中，所述被配置為對所述邊耦合腔的電磁場是產(chǎn)生影響的形狀包括多個凸起的形狀，所述多個凸起圍繞所述通孔，且呈放射狀。
7.一種加速器，包括如權(quán)利要求1-6任一項所述的駐波加速管。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的加速器，所述加速器為醫(yī)用直線加速器。
9.一種駐波加速管，包括：相鄰的第一加速腔和第二加速腔以及與所述第一加速腔和所述第二加速腔耦合的邊耦合腔，所述邊耦合腔還耦合有兩塊金屬板，所述兩塊金屬板大致平行且以基本垂直于所述駐波加速管的縱向方向布置，每塊金屬板上限定有通孔；
在第一狀態(tài)下，所述兩塊金屬板被配置為與所述邊耦合腔脫離電磁耦合狀態(tài)，所述第一加速腔和所述第二加速腔的電場方向相反；
在第二狀態(tài)下，所述兩塊金屬板被配置為定位到所述邊耦合腔內(nèi)并且每塊金屬板與所述邊耦合腔的內(nèi)側(cè)壁適配，以限定出與所述第一加速腔耦合的第一子腔、與所述第二加速腔耦合的第二子腔以及通過兩塊金屬板的通孔與所述第一子腔和所述第二子腔耦合的第三子腔，所述第一加速腔和所述第二加速腔的電場方向相同；
其中，所述駐波加速管在所述第一狀態(tài)和所述第二狀態(tài)均工作在pi/2模。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的駐波加速管，其中，所述兩塊金屬板的形狀是相同的。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的駐波加速管，其中，所述兩塊金屬板的任一個的所述通孔布置在所述金屬板的中央。
12.根據(jù)權(quán)利要求9或11所述的駐波加速管，其中，所述兩塊金屬板的任一個包括相對所述金屬板的外周邊更靠近所述金屬板的中央布置的凸起。
13.根據(jù)權(quán)利要求9所述的駐波加速管，其中，所述兩塊金屬板的任一個的所述通孔在徑向上相對于所述金屬板的中央更靠近外側(cè)。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的駐波加速管，其中，所述兩塊金屬板的任一個還包括其他通孔，所述其他通孔在徑向上相對于所述金屬板的中央更靠近外側(cè)。