一種轉(zhuǎn)子硅鋼片結(jié)構(gòu)的制作方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種轉(zhuǎn)子硅鋼片結(jié)構(gòu)，包括第一、第二硅鋼片疊層和連接鍵，連接鍵的導磁率低于硅鋼片的導磁率，第二硅鋼片疊層嵌入第一硅鋼片疊層的外圓周表面的容置槽中，連接鍵將第一與第二硅鋼片疊層連接在一起，第一與第二硅鋼片疊層之間留有分設于連接鍵兩側(cè)的用于安裝磁鋼的兩個安裝槽，第一與第二硅鋼片疊層之間在圍繞第一硅鋼片疊層的中軸線的周向上具有間隙，使得安裝槽通過所述間隙與外界相通。本實用新型第一與第二硅鋼片疊層在空間上被磁導率極低的連接鍵和間隙分隔開，因此磁鋼產(chǎn)生的磁力線很難在轉(zhuǎn)子硅鋼片結(jié)構(gòu)的內(nèi)部產(chǎn)生回路，只能通過定轉(zhuǎn)子氣隙到達定子，被定子繞組切割，從而產(chǎn)生轉(zhuǎn)矩，有效提高了磁能利用率。
【專利說明】一種轉(zhuǎn)子硅鋼片結(jié)構(gòu)
【技術(shù)領域】
[0001]本實用新型涉及永磁同步電機領域，具體涉及永磁同步電機的轉(zhuǎn)子硅鋼片結(jié)構(gòu)?！颈尘凹夹g(shù)】
[0002]永磁同步電機的永磁場由磁鋼產(chǎn)生，磁鋼多為稀土材料,價格昂貴,如果能夠降低磁鋼的漏磁系數(shù)，充分利用磁鋼產(chǎn)生的磁能，則在其他條件相同的情況下能產(chǎn)生更大的轉(zhuǎn)矩，提高永磁同步電機的效率；反過來，則在產(chǎn)生相同轉(zhuǎn)矩的情況下，需要較小體積的磁鋼，可以降低永磁同步電機的成本。
[0003]如圖1所示，現(xiàn)有的永磁同步電機的轉(zhuǎn)子硅鋼片為一體式結(jié)構(gòu)，由于磁場具有總是沿著磁阻最小的路徑形成回路的特性，因此，在硅鋼片的磁阻小于氣隙磁阻的情況下，磁鋼產(chǎn)生的磁力線首先會通過隔磁磁橋在轉(zhuǎn)子硅鋼片內(nèi)部形成回路，當通過隔磁磁橋的磁場飽和后，才能通過定轉(zhuǎn)子氣隙到達定子，而只有到達定子的磁場才能別定子繞組切割，產(chǎn)生轉(zhuǎn)矩。由此可見，在轉(zhuǎn)子內(nèi)部形成的磁力線回路越多，磁能浪費越大，電機效率越低。
實用新型內(nèi)容
[0004]本實用新型為了解決現(xiàn)有轉(zhuǎn)子硅鋼片結(jié)構(gòu)存在的以上缺陷，提供一種具有較高磁能利用率的轉(zhuǎn)子硅鋼片結(jié)構(gòu)。
[0005]為了實現(xiàn)上述目的，本實用新型采用的技術(shù)方案為:一種轉(zhuǎn)子硅鋼片結(jié)構(gòu)，包括第一硅鋼片疊層、第二硅鋼片疊層和連接鍵，所述連接鍵的導磁率低于硅鋼片的導磁率，所述第一硅鋼片疊層的外圓周表面上設置有容置槽，所述第二硅鋼片疊層嵌入所述容置槽中，所述連接鍵將所述第一硅鋼片疊層與第二硅鋼片疊層連接在一起，所述第一硅鋼片疊層與第二硅鋼片疊層之間留有分設于所述連接鍵兩側(cè)的用于安裝磁鋼的兩個安裝槽，所述第一硅鋼片疊層與第二硅鋼片疊層之間在圍繞第一硅鋼片疊層的中軸線的周向上具有間隙，使得所述安裝槽通過所述間隙與外界相通。
[0006]優(yōu)選的是，所述容置槽沿所述第一硅鋼片疊層的軸向設置。
[0007]優(yōu)選的是，所述容置槽在所述周向上均勻分布。
[0008]優(yōu)選的是，所述連接鍵沿所述第一硅鋼片疊層的徑向設置。
[0009]優(yōu)選的是，所述第一硅鋼片疊層的中軸線與所述第二硅鋼片疊層對應的中軸線重
八
口 ο
[0010]優(yōu)選的是，所述第一硅鋼片疊層對應的外圓周表面與所述第二硅鋼片疊層對應的外圓周表面重合。
[0011]優(yōu)選的是，所述的兩個安裝槽呈開口朝外的V字形。
[0012]優(yōu)選的是，所述連接鍵為工形連接鍵，所述第一硅鋼片疊層設置有與所述工形連接鍵的一端配合連接的倒T形鍵槽，所述第二硅鋼片疊層設置有與所述工形連接鍵的另一端配合連接的T形鍵槽。
[0013]優(yōu)選的是，所述間隙的最小間隙值大于等于永磁同步電機的定轉(zhuǎn)子氣隙的2至3倍，所述最小間隙值為所述間隙在所述第一硅鋼片疊層的橫截面上的最小間隙值。
[0014]優(yōu)選的是，所述連接鍵為非導磁材料。
[0015]本實用新型的有益效果為:本實用新型的轉(zhuǎn)子硅鋼片結(jié)構(gòu)為分體式結(jié)構(gòu)，包括通過連接鍵連接在一起的第一硅鋼片疊層和第二硅鋼片疊層，由于采用的連接鍵的磁導率低于原有娃鋼片的導磁率，同時原娃鋼片圓周方向上的隔磁磁橋被間隙代替，而間隙的介質(zhì)為空氣，磁導率也極低，因此磁鋼產(chǎn)生的磁力線在轉(zhuǎn)子硅鋼片結(jié)構(gòu)的內(nèi)部產(chǎn)生回路相對現(xiàn)有轉(zhuǎn)子硅鋼片少，這樣通過定轉(zhuǎn)子氣隙到達定子被定子繞組切割的磁力線就相對較多，有效提高了磁能利用率，提高了永磁同步電機的效率，如果將連接鍵設計為非導磁材料，則磁鋼產(chǎn)生的磁力線將很難在轉(zhuǎn)子硅鋼片的內(nèi)容產(chǎn)生回路，這在相同的條件下將獲得更大的轉(zhuǎn)矩，使磁能利用率達到最大。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0016]圖1為現(xiàn)有轉(zhuǎn)子硅鋼片結(jié)構(gòu)的橫截面示意圖；
[0017]圖2為根據(jù)本實用新型所述轉(zhuǎn)子硅鋼片結(jié)構(gòu)的一種實施結(jié)構(gòu)的橫截面示意圖；
[0018]圖3為圖2中所不第一娃鋼片疊層的橫截面不意圖；
[0019]圖4為圖2中所示連接鍵的立體示意圖；
[0020]圖5為圖2所示轉(zhuǎn)子硅鋼片結(jié)構(gòu)的立體示意圖。
[0021]附圖標號:
[0022]1-第一硅鋼片疊層；2-第二硅鋼片疊層；
`[0023]3-連接鍵；4-間隙；
[0024]11-容置槽；5-安裝槽；
[0025]12-倒T形鍵槽；21-T形鍵槽。
【具體實施方式】
[0026]下面詳細描述本實用新型的實施例，所述實施例的示例在附圖中示出，其中自始至終相同或類似的標號表示相同或類似的元件或具有相同或類似功能的元件。下面通過參考附圖描述的實施例是示例性的，僅用于解釋本實用新型，而不能解釋為對本實用新型的限制。
[0027]如圖2至圖5所示，本實用新型的轉(zhuǎn)子硅鋼片結(jié)構(gòu)包括第一硅鋼片疊層1、第二硅鋼片疊層2和與第二硅鋼片疊層2 —一對應設置的連接鍵3，連接鍵3的導磁率小于硅鋼片的導磁率，該連接鍵3特別是非導磁材料，在該前提下，該連接鍵3可以是金屬材料也可以是非金屬材料，但要具有較大的剛度，使連接鍵3不會在使用中發(fā)生變形，以保持第一硅鋼片疊層I與第二硅鋼片疊層2之間的相對位置關(guān)系。該第一硅鋼片疊層I的外圓周表面上具有與第二硅鋼片疊層2 —一對應設置的容置槽11，該容置槽11貫通第一硅鋼片疊層2的兩個端面，第二硅鋼片疊層2嵌入該容置槽11中，連接鍵3將第一硅鋼片疊層I與第二硅鋼片疊層2連接在一起，即使二者連接為一個整體，第一硅鋼片疊層I與第二硅鋼片疊層2之間留有分設于連接鍵3兩側(cè)的兩個用于安裝磁鋼的安裝槽5，該安裝槽通常為矩形槽，第一娃鋼片疊層I與第二娃鋼片疊層2之間在圍繞第一娃鋼片疊層的中軸線的周向上具有間隙4，使得安裝槽5通過間隙4與外界相通。[0028]如圖2至圖5所示，為了便于形成該第一硅鋼片疊層2，該容置槽11可沿第一硅鋼片疊層的軸向設置。為了使磁鋼產(chǎn)生的磁場更加均勻，該容置槽11特別是在周向上均勻分布，另外，該連接鍵3可沿所述第一硅鋼片疊層的徑向設置，使兩個安裝槽5可關(guān)于過第一硅鋼片疊層I的中軸線的截面對稱，與現(xiàn)有安裝槽的結(jié)構(gòu)一樣，該兩個安裝槽5可呈開口朝外的V字形。
[0029]通常情況下，可使第一硅鋼片疊層I的中軸線與第二硅鋼片疊層I對應的中軸線重合，特別是第一硅鋼片疊層I對應的外圓周表面(指將第一硅鋼片疊層的被容置槽11分割的各圓弧表面光滑連接在一起形成的外圓周表面)與第二硅鋼片疊層2對應的外圓周表面(指將各第二硅鋼片疊層2的圓弧表面光滑連接在一起形成的外圓周表面)重合。
[0030]如圖4所示，上述連接鍵3可為工形連接鍵，在此指連接鍵3的橫截面為工字形，相對應地，第一硅鋼片疊層I設置有與工形連接鍵的一端配合連接的倒T形鍵槽12，第二硅鋼片疊層2設置有與工形連接鍵的另一端配合連接的T形鍵槽21，該種連接結(jié)構(gòu)具有結(jié)構(gòu)簡單、便于組裝的優(yōu)點。在此，連接鍵3與第一硅鋼片疊層I和第二硅鋼片疊層2之間也可采用其他的卡槽連接結(jié)構(gòu)，只要可將二者連接為一個整體，且使二者在空間上相分離即可。該連接鍵3與倒T形鍵槽12和T形鍵槽21之間可采用過渡或者過盈配合。
[0031]可按照如下步驟形成圖5所示的轉(zhuǎn)子硅鋼片結(jié)構(gòu):第一步將多個第一硅鋼片壓疊至第一厚度，形成第一硅鋼片疊層I ;第二步將多個第二硅鋼片壓疊至該第一厚度，形成第二硅鋼片疊層2 ;第三步將高度為第一厚度的連接鍵3的一端壓插至第一步形成的第一硅鋼片疊層I的倒T形鍵槽12中；第四步將第二步形成的第二硅鋼片疊層2通過T形鍵槽11壓插至連接鍵3的另一端上。
[0032]該間隙4的最小間隙值特別是大于等于永磁同步電機的定轉(zhuǎn)子氣隙的2至3倍，該最小間隙值為間隙4在第一娃鋼片疊層I的橫截面(即與第一娃鋼片疊層I的中軸線垂直的平面)上的最小間隙值。對應第一硅鋼片疊層I對應的外圓周表面與第二硅鋼片疊層2對應的外圓周表面重合的實施例，該最小間隙值即為在該橫截面上連接第一硅鋼片疊層I與第二硅鋼片疊層2的兩個相對端點之間的弧線長度或者直線長度，在此，由于該最小間隙值通常較小，因此，上述弧線長度基本與直線長度相等。
[0033]以上依據(jù)圖式所示的實施例詳細說明了本實用新型的構(gòu)造、特征及作用效果，以上所述僅為本實用新型的較佳實施例，但本實用新型不以圖面所示限定實施范圍，凡是依照本實用新型的構(gòu)想所作的改變，或修改為等同變化的等效實施例，仍未超出說明書與圖示所涵蓋的精神時，均應在本實用新型的保護范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種轉(zhuǎn)子娃鋼片結(jié)構(gòu)，其特征在于，包括第一娃鋼片疊層、第二娃鋼片疊層和連接鍵，所述連接鍵的導磁率低于硅鋼片的導磁率，所述第一硅鋼片疊層的外圓周表面上設置有容置槽，所述第二硅鋼片疊層嵌入所述容置槽中，所述連接鍵將所述第一硅鋼片疊層與第二硅鋼片疊層連接在一起，所述第一硅鋼片疊層與第二硅鋼片疊層之間留有分設于所述連接鍵兩側(cè)的用于安裝磁鋼的兩個安裝槽，所述第一硅鋼片疊層與第二硅鋼片疊層之間在圍繞第一硅鋼片疊層的中軸線的周向上具有間隙，使得所述安裝槽通過所述間隙與外界相通。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的轉(zhuǎn)子硅鋼片結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述容置槽沿所述第一硅鋼片疊層的軸向設置。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的轉(zhuǎn)子硅鋼片結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述容置槽在所述周向上均勻分布。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的轉(zhuǎn)子硅鋼片結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述連接鍵沿所述第一硅鋼片疊層的徑向設置。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的轉(zhuǎn)子硅鋼片結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述第一硅鋼片疊層的中軸線與所述第二硅鋼片疊層對應的中軸線重合。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的轉(zhuǎn)子硅鋼片結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述第一硅鋼片疊層對應的外圓周表面與所述第二硅鋼片疊層對應的外圓周表面重合。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的轉(zhuǎn)子硅鋼片結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述的兩個安裝槽呈開口朝外的V字形。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項所述的轉(zhuǎn)子硅鋼片結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述連接鍵為工形連接鍵，所述第一硅鋼片疊層設置有與所述工形連接鍵的一端配合連接的倒T形鍵槽，所述第二硅鋼片疊層設置有與所述工形連接鍵的另一端配合連接的T形鍵槽。
9.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項所述的轉(zhuǎn)子硅鋼片結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述間隙的最小間隙值大于等于永磁同步電機的定轉(zhuǎn)子氣隙的2至3倍，所述最小間隙值為所述間隙在所述第一娃鋼片疊層的橫截面上的最小間隙值。
10.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項所述的轉(zhuǎn)子硅鋼片結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述連接鍵為非導磁材料。
【文檔編號】H02K1/27GK203632391SQ201320868890
【公開日】2014年6月4日 申請日期:2013年12月26日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月26日
【發(fā)明者】付林, 韓千兵, 郭侃, 任慶 申請人:安徽江淮汽車股份有限公司