平板線圈電抗器的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種電抗器，特別是一種平板線圈電抗器。
【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)有電抗器一般由漆包線繞制而成，其加工成本高、生產(chǎn)周期長(zhǎng)、體積較大、工藝操作復(fù)雜。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0003]本實(shí)用新型的目的在于提供一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、合理，成本低、加工容易、體積小的平板線圈電抗器。
[0004]本實(shí)用新型的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的:
[0005]一種平板線圈電抗器，其特征在于:包括磁芯和金屬片材，磁芯和金屬片材之間絕緣隔開(kāi)，金屬片材左右兩側(cè)分別設(shè)有多個(gè)切開(kāi)位，左右兩側(cè)的切開(kāi)位一上一下相隔開(kāi)、并且切開(kāi)位上下兩側(cè)的材料前后錯(cuò)開(kāi)以形成與金屬片材軸線方向一致的磁芯放置空間，磁芯插接在磁芯放置空間中。
[0006]本實(shí)用新型的目的還可以采用以下技術(shù)措施解決:
[0007]作為更具體的一種方案，所述磁芯呈板狀。
[0008]所述磁芯由硅鋼片疊合而成。
[0009]所述切開(kāi)位呈縫狀。
[0010]所述各道切開(kāi)位相互平行、且每組相鄰的切開(kāi)位之間距離相等。
[0011]所述切開(kāi)位寬度和金屬片材厚度可根據(jù)設(shè)計(jì)電感的額定電流決定，一般為切開(kāi)位寬度是金屬片材厚度的0.5至3倍。
[0012]所述金屬片材為銅片。
[0013]本實(shí)用新型的有益效果如下:
[0014](I)此款平板線圈電抗器是以經(jīng)過(guò)剪切、沖壓形變等工藝加工形成的類似螺旋形結(jié)構(gòu)的金屬薄板為線圈，以硅鋼片碟片為鐵芯(磁芯)，經(jīng)多組串并聯(lián)而形成的一種特殊結(jié)構(gòu)的電抗器，以解決傳動(dòng)電抗器卷繞線圈與疊片式鐵芯生產(chǎn)效率低、工藝操作復(fù)雜的問(wèn)題，便于實(shí)現(xiàn)產(chǎn)品的標(biāo)準(zhǔn)化、小型化和通用化；
[0015](2)此款平板線圈電抗器可通過(guò)機(jī)械、電力、電子等方法串并聯(lián)實(shí)現(xiàn)數(shù)字化(檔位)調(diào)節(jié)；
[0016](3)此款平板線圈電抗器中所形成的線體相互隔開(kāi)，具有良好的散熱結(jié)構(gòu)，提高產(chǎn)品壽命O
【附圖說(shuō)明】
[0017]圖1為本實(shí)用新型一實(shí)施例結(jié)構(gòu)示意圖。
[0018]圖2為本實(shí)用新型金屬片材沖裁切開(kāi)位后的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0019]圖3為本實(shí)用新型金屬片材形成空間螺旋結(jié)構(gòu)后主視結(jié)構(gòu)示意圖。
[0020]圖4為圖3的俯視結(jié)構(gòu)示意圖。
[0021]圖5為圖3的左視結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0022]下面結(jié)合附圖及實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步描述。
[0023]參見(jiàn)圖1至圖5所不，一種平板線圈電抗器，包括磁芯I和金屬片材2，磁芯I和金屬片材2之間絕緣隔開(kāi)，金屬片材2左右兩側(cè)分別設(shè)有多個(gè)切開(kāi)位21，左右兩側(cè)的切開(kāi)位21 —上一下相隔開(kāi)、并且切開(kāi)位21上下兩側(cè)的材料前后錯(cuò)開(kāi)以形成與金屬片材2軸線方向一致的磁芯放置空間22，磁芯I插接在磁芯放置空間22中。
[0024]所述磁芯I呈板狀、并由硅鋼片疊合而成。
[0025]所述切開(kāi)位21呈縫狀，各道切開(kāi)位21相互平行、且每組相鄰的切開(kāi)位21之間距離相等。
[0026]所述切開(kāi)位21寬度為金屬片材2厚度的0.5至3倍。
[0027]所述金屬片材2為銅片。
[0028]—種平板線圈電抗器的加工工藝，選取兩側(cè)距離相等的金屬片材2，通過(guò)沖壓設(shè)備對(duì)金屬片材2兩側(cè)的切開(kāi)位21進(jìn)行加工，形成平面帶狀結(jié)構(gòu)的金屬片材2 (見(jiàn)圖2所示)，然后或者同時(shí)，采用沖壓設(shè)備將切開(kāi)位21上下兩側(cè)的材料前后錯(cuò)開(kāi)，前后錯(cuò)開(kāi)材料之間形成所述磁芯放置空間22，以形成空間螺旋結(jié)構(gòu)，最后，將磁芯I插接在磁芯放置空間22內(nèi)。
[0029]經(jīng)過(guò)試驗(yàn)，本實(shí)用新型的平板線圈電抗器能夠符合行業(yè)要求。具體設(shè)計(jì)是:
[0030]線圈設(shè)計(jì):單組線圈使用140*62.5*0.4mm紫銅板按照上述工藝剪切沖壓成13圈螺旋線圈，線圈兩側(cè)開(kāi)孔與其他線圈之間連接。
[0031]鐵芯設(shè)計(jì):使用硅鋼片疊片，120*50*0.35mm無(wú)取向剪片，單組線圈內(nèi)疊入5-8片，硅鋼片疊片穿入螺旋線圈的磁芯放置空間內(nèi)組成一組電抗器單元。
[0032]工藝要求:線圈連接良好，形成閉環(huán)，且表面絕緣良好，層與層之間涂覆絕緣期絕緣；共30組電抗器單元間通過(guò)并聯(lián)連接，使用螺桿連接壓緊，最后引出。
[0033]技術(shù)要求:1、金屬薄板(金屬片材)剪切沖壓線圈，要求表面平滑，無(wú)裂痕；切口平整無(wú)毛刺；2、硅鋼片疊片鐵芯，要求疊片整齊，與線圈結(jié)合穩(wěn)固可靠；3、引出端子連接穩(wěn)固，導(dǎo)電性能良好；4、電感量允許偏差+10% (伏安法)；5、抗電強(qiáng)度:鐵芯-繞組:2000V.AC/5mA/60s無(wú)飛弧擊穿；絕緣電阻:鐵芯-繞組:多100M Ω，100V.DC。
[0034]成本控制:單臺(tái)電抗器成本費(fèi)用1000元以內(nèi)。
[0035]性能目標(biāo):1、電感值偏差控制在10%內(nèi)；2、抗電強(qiáng)度:鐵芯-繞組:2000V.AC無(wú)飛弧擊穿；3、絕緣電阻彡ΙΟΟΜΩ,ΙΟΟν.DC ;4、溫升彡55Κ ;5、噪音彡48dB ;6、絕緣耐熱等級(jí):F。
[0036]驗(yàn)證:按以上方案設(shè)計(jì)制作出電抗器樣品，通過(guò)實(shí)驗(yàn)檢測(cè)驗(yàn)證，該方案結(jié)構(gòu)及電性能參數(shù)符合要求。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種平板線圈電抗器，其特征在于:包括磁芯(I)和金屬片材(2)，磁芯(I)和金屬片材(2)之間絕緣隔開(kāi)，金屬片材(2)左右兩側(cè)分別設(shè)有多個(gè)切開(kāi)位(21)，左右兩側(cè)的切開(kāi)位(21) —上一下相隔開(kāi)、并且切開(kāi)位(21)上下兩側(cè)的材料前后錯(cuò)開(kāi)以形成與金屬片材(2)軸線方向一致的磁芯放置空間(22)，磁芯(I)插接在磁芯放置空間(22)中。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述平板線圈電抗器，其特征在于:所述磁芯(I)呈板狀。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述平板線圈電抗器，其特征在于:所述磁芯(I)由硅鋼片疊合而成。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述平板線圈電抗器，其特征在于:所述切開(kāi)位(21)呈縫狀。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述平板線圈電抗器，其特征在于:所述各道切開(kāi)位(21)相互平行、且每組相鄰的切開(kāi)位(21)之間距離相等。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述平板線圈電抗器，其特征在于:所述切開(kāi)位(21)寬度為金屬片材(2)厚度的0.5至3倍。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述平板線圈電抗器，其特征在于:所述金屬片材(2)為銅片。
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種平板線圈電抗器，包括磁芯和金屬片材，磁芯和金屬片材之間絕緣隔開(kāi)，金屬片材左右兩側(cè)分別設(shè)有多個(gè)切開(kāi)位，左右兩側(cè)的切開(kāi)位一上一下相隔開(kāi)、并且切開(kāi)位上下兩側(cè)的材料前后錯(cuò)開(kāi)以形成與金屬片材軸線方向一致的磁芯放置空間，磁芯插接在磁芯放置空間中。此款平板線圈電抗器是以經(jīng)過(guò)剪切、沖壓形變等工藝加工形成的類似螺旋形結(jié)構(gòu)的金屬薄板為線圈，以硅鋼片碟片為鐵芯或磁芯，經(jīng)多組串并聯(lián)而形成的一種特殊結(jié)構(gòu)的電抗器，以解決傳動(dòng)電抗器卷繞線圈與疊片式鐵芯生產(chǎn)效率低、工藝操作復(fù)雜的問(wèn)題，便于實(shí)現(xiàn)產(chǎn)品的標(biāo)準(zhǔn)化、小型化和通用化。
【IPC分類】H01F27/30, H01F27/245, H01F27/28, H01F17/04
【公開(kāi)號(hào)】CN204991396
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520428244
【發(fā)明人】孔星
【申請(qǐng)人】廣東明路電力電子有限公司
【公開(kāi)日】2016年1月20日
【申請(qǐng)日】2015年6月22日