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一種波導(dǎo)-雙對極鰭線-微帶線形式的空間功率合成器的制造方法

文檔序號:8625083閱讀:357來源:國知局
一種波導(dǎo)-雙對極鰭線-微帶線形式的空間功率合成器的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及雷達(dá)技術(shù)領(lǐng)域,具體是雷達(dá)固態(tài)發(fā)射機(jī)中的空間功率合成器。
【背景技術(shù)】
[0002] 高功率放大器是微波或毫米波頻段發(fā)射機(jī)必不可少的關(guān)鍵部件之一,其主要通過 電真空器件或固態(tài)器件來實(shí)現(xiàn)功率放大功能。對于電真空器件,由于其是高壓器件,在實(shí)際 應(yīng)用中需提供高壓電源系統(tǒng),所以體積和重量對應(yīng)用場合有一定的限制;對于固態(tài)放大器 件,具有電壓低、體積小、重量輕等優(yōu)點(diǎn),特別是隨著微帶印制電路在雷達(dá)固態(tài)發(fā)射機(jī)中應(yīng) 用,固態(tài)放大器件可以應(yīng)用在更廣泛的場合,但是單個(gè)的固態(tài)功率放大器件,其功率容量比 電真空器件低,常常不能滿足大功率的要求。為了既可以體現(xiàn)固態(tài)放大器件的優(yōu)點(diǎn)又可以 滿足大功率的實(shí)際需求,就需要設(shè)計(jì)無源的功率合成網(wǎng)絡(luò)將多個(gè)功率固態(tài)放大器的輸出進(jìn) 行疊加,即進(jìn)行空間功率合成。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003] 要解決的技術(shù)問題
[0004] 為了解決了由于單個(gè)固態(tài)放大器件的功率容量小,而固態(tài)發(fā)射機(jī)需要輸出大功率 時(shí)的功率合成問題。本發(fā)明提出一種波導(dǎo)-雙對極鰭線-微帶線形式的空間功率合成器。
[0005] 技術(shù)方案
[0006] -種波導(dǎo)-雙對極鰭線-微帶線形式的空間功率合成器,包括連接波導(dǎo)端口、過渡 結(jié)構(gòu)、防諧振片和微帶線;其特征在于過渡結(jié)構(gòu)采用余弦平方方程的金屬漸變鰭線,印制在 介質(zhì)基板的正反兩面上,正面的金屬漸變鰭線過渡成兩路微帶線,反面的金屬漸變鰭線作 為地,防諧振片印制在介質(zhì)基板的反面,采用兩端為半圓、中間為長方形的形狀;在介質(zhì)基 板兩側(cè)延伸出1/4介質(zhì)波長有金屬地的介質(zhì)基片作為安裝固定結(jié)構(gòu),安裝固定結(jié)構(gòu)上開等 間距圓孔。
[0007] 所述的金屬漸變鰭線余弦平方方程:
[0008]
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種波導(dǎo)-雙對極鰭線-微帶線形式的空間功率合成器,包括連接波導(dǎo)端口、過渡結(jié) 構(gòu)、防諧振片和微帶線,其特征在于過渡結(jié)構(gòu)采用余弦平方方程的金屬漸變鰭線,印制在介 質(zhì)基板的正反兩面上,正面的金屬漸變鰭線過渡成兩路微帶線,反面的金屬漸變鰭線作為 地,防諧振片印制在介質(zhì)基板的反面,采用兩端為半圓、中間為長方形的形狀;在介質(zhì)基板 兩側(cè)延伸出1/4介質(zhì)波長有金屬地的介質(zhì)基片作為安裝固定結(jié)構(gòu),安裝固定結(jié)構(gòu)上開等間 距圓孔。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的波導(dǎo)-雙對極鰭線-微帶線形式的空間功率合成器,其特征 在于所述的金屬漸變鰭線余弦平方方程:
式中,《為50 Q微帶線的寬度,z為鰭線傳輸線的縱向坐標(biāo),b為波導(dǎo)高度,Lf為過渡 段長度,取值1. 5 A g,其中A g為TE10模波導(dǎo)波長。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的波導(dǎo)-雙對極鰭線-微帶線形式的空間功率合成器,其特征 在于介質(zhì)基板選用RT/Duroid 5880材料,介電常數(shù)、=2. 2,介質(zhì)厚度為0. 254mm。
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種波導(dǎo)-雙對極鰭線-微帶線形式的空間功率合成器,包括連接波導(dǎo)端口、過渡結(jié)構(gòu)、防諧振片和微帶線;過渡結(jié)構(gòu)采用余弦平方方程的金屬漸變鰭線,印制在介質(zhì)基板的正反兩面上,正面的金屬漸變鰭線過渡成兩路微帶線,反面的金屬漸變鰭線作為地,防諧振片印制在介質(zhì)基板的反面,采用兩端為半圓、中間為長方形的形狀。
【IPC分類】H01P5-12
【公開號】CN204333200
【申請?zhí)枴緾N201420826831
【發(fā)明人】張思明, 武華鋒, 汪灝, 周海進(jìn), 張娟
【申請人】西安電子工程研究所
【公開日】2015年5月13日
【申請日】2014年12月23日
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