用于二極管的清洗架的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種用于二極管的清洗架，屬于二極管清洗技術(shù)領(lǐng)域。
【背景技術(shù)】
[0002]半導(dǎo)體二極管生產(chǎn)制造過程中，清洗是最重要的環(huán)節(jié)之一，尤其是清洗過程中的超聲波清洗工藝，是直接關(guān)乎二極管綜合電性能的主要因素，如何對(duì)二極管進(jìn)行有效、快速的清洗，是長(zhǎng)期困擾二極管制造廠商的重要問題。二極管的清洗清潔度直接影響產(chǎn)品的質(zhì)量的穩(wěn)定可靠性。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本實(shí)用新型針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)存在的不足和缺陷，提供一種用于二極管的清洗架。
[0004]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型所采用的技術(shù)方案是:一種用于二極管的清洗架，包括架體和多個(gè)用于盛放酸洗盤的托盤，所述托盤由上至下依次傾斜固定在架體上，所述的托盤呈“門”字形，其由一平面板折彎而成，“門”字形托盤兩側(cè)下端設(shè)有向外的翻邊，翻邊外側(cè)設(shè)有向上設(shè)置的豎板，所述“門”字形托盤的側(cè)邊、翻邊和豎板形成滑槽。
[0005]所述的托盤之間的距離相等，兩個(gè)托盤之間的距離大于酸洗盤的高度，兩者的高度差為 lcm~l.2cm。
[0006]所述的托盤與水平面之間的夾角為15° ~35°。
[0007]所述的托盤采用不銹鋼制成。
[0008]所述的架體由中空的圓管焊接形成的矩形上、下框架和連接上、下框架的立桿組成，所述托盤由上至下依次固定在立桿上。
[0009]所述的托盤的數(shù)量為6個(gè)。
[0010]本實(shí)用新型的有益效果是:
[0011]本實(shí)用新型的托盤防止二極管從酸洗盤中脫落，托盤的傾斜設(shè)計(jì)方便酸洗盤的取放，酸洗盤傾斜放置，元器件傾斜放置，防止二極管脫落，并且清洗更干凈，清洗效果好，提高產(chǎn)品質(zhì)量，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，設(shè)計(jì)合理。
【附圖說明】
[0012]圖1是本實(shí)用新型用于二極管的清洗架的主視結(jié)構(gòu)示意圖；
[0013]圖2是本實(shí)用新型用于二極管的清洗架的側(cè)視結(jié)構(gòu)示意圖；
[0014]圖3是本實(shí)用新型用于二極管的清洗架的托盤的結(jié)構(gòu)結(jié)構(gòu)示意圖；
[0015]圖4是本實(shí)用新型用于二極管的清洗架的使用狀態(tài)示意圖。
[0016]圖中標(biāo)號(hào)代表的意義為:1、上框架，2、立桿，3、托盤，4、下框架，5、滑槽，6、二極管，7、酸洗盤，8、支腿。
【具體實(shí)施方式】
[0017]下面結(jié)合附圖及【具體實(shí)施方式】對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)描述:
[0018]實(shí)施例1:參見圖1、2和3，一種用于二極管的清洗架，包括架體和多個(gè)用于盛放酸洗盤7的托盤3，所述托盤3由上至下依次傾斜固定在架體上，所述的托盤3呈“門”字形，其由一平面板折彎而成，“門”字形托盤兩側(cè)下端設(shè)有向外的翻邊，翻邊外側(cè)設(shè)有向上設(shè)置的豎板，所述“門”字形托盤的側(cè)邊、翻邊和豎板形成滑槽5。
[0019]所述的托盤之間的距離相等，兩個(gè)托盤3之間的距離大于酸洗盤7的高度，兩者的高度差為lcm~l.2cm。
[0020]所述的托盤3與水平面之間的夾角為15° ~35°，根據(jù)需要選取合適的角度，比如15。、25。、30?；?35。。
[0021]所述的托盤3采用不銹鋼制成。
[0022]所述的架體由中空的圓管焊接形成的矩形上、下框架1、4和連接上、下框架1、4的立桿2組成，所述托盤3由上至下依次固定在立桿2上。本實(shí)用新型的酸洗盤7有酸洗盤體和支腿組成，酸洗盤體上開設(shè)多個(gè)用于插裝二極管的插孔。
[0023]本實(shí)用新型的使用方法:參見圖4，首先，將需要清洗的二極管插入酸洗盤的插孔中；然后，將插滿二極管的酸洗盤放入本實(shí)用新型清洗架的托盤3中，具體是，將酸洗盤的支腿8放入滑槽，推動(dòng)酸洗盤進(jìn)入托盤；最后，將裝滿酸洗盤的清洗架放入超聲波清洗機(jī)中進(jìn)行酸洗。本實(shí)用新型的每個(gè)托盤均傾斜一定角度設(shè)置在清洗架上，且每個(gè)托盤之間的距離相同，在超聲波的作用下，沒個(gè)托盤上的材料均能悉數(shù)從酸洗盤的插孔內(nèi)拖車，并呈一定角度傾斜，進(jìn)而使材料和清洗盤的盤面及插孔內(nèi)殘存的雜質(zhì)得到良好的清楚，從而提高清洗的二極管的清潔度，保證產(chǎn)品質(zhì)量。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種用于二極管的清洗架，包括架體和多個(gè)用于盛放酸洗盤的托盤，其特征在于:所述托盤由上至下依次傾斜固定在架體上，所述的托盤呈“門”字形，其由一平面板折彎而成，“門”字形托盤兩側(cè)下端設(shè)有向外的翻邊，翻邊外側(cè)設(shè)有向上設(shè)置的豎板，所述“門”字形托盤的側(cè)邊、翻邊和豎板形成滑槽。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的二極管的清洗架，其特征在于:所述的托盤之間的距離相等，兩個(gè)托盤之間的距離大于酸洗盤的高度，兩者的高度差為lcm~l.2cm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的二極管的清洗架，其特征在于:所述的托盤與水平面之間的夾角為15° ~35°。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于二極管的清洗架，其特征在于:所述的托盤采用不銹鋼制成。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于二極管的清洗架，其特征在于:所述的架體由中空的圓管焊接形成的矩形上、下框架和連接上、下框架的立桿組成，所述托盤由上至下依次固定在立桿上。
6.根據(jù)權(quán)利要求1、4或5所述的用于二極管的清洗架，其特征在于:所述的托盤的數(shù)量為6個(gè)。
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種用于二極管的清洗架，屬于二極管清洗技術(shù)領(lǐng)域，它包括架體和多個(gè)用于盛放酸洗盤的托盤，所述托盤由上至下依次傾斜固定在架體上，所述的托盤呈“冂”字形，其由一平面板折彎而成，“冂”字形托盤兩側(cè)下端設(shè)有向外的翻邊，翻邊外側(cè)設(shè)有向上設(shè)置的豎板，所述“冂”字形托盤的側(cè)邊、翻邊和豎板形成滑槽。本實(shí)用新型的托盤防止二極管從酸洗盤中脫落，托盤的傾斜設(shè)計(jì)方便酸洗盤的取放，酸洗盤傾斜放置，元器件傾斜放置，防止二極管脫落，并且清洗更干凈，清洗效果好，提高產(chǎn)品質(zhì)量。
【IPC分類】H01L21-673
【公開號(hào)】CN204315543
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201420822729
【發(fā)明人】于林, 楊宏民
【申請(qǐng)人】臺(tái)冠電子（新鄉(xiāng)）半導(dǎo)體工業(yè)有限公司
【公開日】2015年5月6日
【申請(qǐng)日】2014年12月23日