柔性襯底基板和顯示基板及其制作方法、顯示裝置的制造方法
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示技術領域,特別是涉及一種柔性襯底基板和顯示基板及其制作方法、顯示裝置。
【背景技術】
[0002]傳統(tǒng)的顯示都是平板顯示,不可以隨意彎曲。未來顯示的趨勢是希望在柔性體上實現大量信息的展示,即柔性顯示。柔性顯示屏和柔性顯示模組在基板包裝、生產、存儲、使用、操作、工序銜接、搬運、運輸等任何一個步驟都可以實現機械彎曲。實現柔性顯示的關鍵技術可以分為幾個方面:顯示技術、基板技術、陣列技術和封裝技術。目前可以實現柔性顯示的基板主要有超薄玻璃基板、金屬箔片基板、塑料基板這三種方式。其中,塑料(一般選擇PEN、PET、P1、PC等)基板柔韌性更好、質量更輕、更耐沖擊,適于制作輕薄化器件,成為柔性顯示技術的發(fā)展趨勢。
[0003]但是,塑料為有機材料,水汽、氧氣很容易穿透塑料進而影響柔性顯示面板的品質,尤其是OLED、TFT的性能。就算從背面外貼阻隔層,水汽/氧氣也是會從側邊進入影響廣品的品質。
【發(fā)明內容】
[0004]本發(fā)明提供一種柔性襯底基板和顯示基板及其制作方法,用以解決有機材料的柔性襯底基板不能阻隔水汽、氧氣,影響產品的品質的問題。
[0005]本發(fā)明還通過一種顯示裝置,包括上述的顯示基板,能夠保證產品的品質。
[0006]為解決上述技術問題,本發(fā)明實施例中提供一種柔性襯底基板,所述柔性襯底基板的表面具有凹槽,所述柔性襯底基板具有凹槽的表面設置有水氧阻擋薄膜,所述水氧阻擋薄膜的厚度小于所述凹槽的槽深。
[0007]如上所述的柔性襯底基板,優(yōu)選的是,所述凹槽內填充有第一有機材料薄膜,使得柔性襯底基板的表面平坦,且所述第一有機材料薄膜設置在所述水氧阻擋薄膜上。
[0008]如上所述的柔性襯底基板,優(yōu)選的是,所述柔性襯底基板和第一有機材料薄膜的材料為塑料或樹脂。
[0009]本發(fā)明實施例中還提供一種如上所述的柔性襯底基板的制作方法,其特征在于,包括:
[0010]在所述柔性襯底基板的表面形成凹槽;
[0011]在所述柔性襯底基板具有凹槽的表面形成水氧阻擋膜,所述水氧阻擋薄膜的厚度小于所述凹槽的槽深。
[0012]如上所述的制作方法,優(yōu)選的是,所述制作方法還包括:
[0013]在所述水氧阻擋薄膜上形成第一有機材料薄膜,所述第一有機材料薄膜填充在所述凹槽內,使得柔性襯底基板的表面平坦。
[0014]如上所述的制作方法,優(yōu)選的是,所述柔性襯底基板通過以下步驟形成:
[0015]提供一無機基板;
[0016]在所述無機基板的表面形成第二有機材料薄膜;
[0017]在所述第二有機材料薄膜的表面形成所述凹槽。
[0018]本發(fā)明實施例中還提供一種顯示基板,包括柔性襯底基板和設置在所述柔性襯底基板上的顯示膜層,所述柔性襯底基板的表面具有凹槽,所述柔性襯底基板具有凹槽的表面設置有水氧阻擋薄膜,所述水氧阻擋薄膜的厚度小于所述凹槽的槽深;
[0019]所述顯示膜層設置在所述水氧阻擋薄膜上,且所述顯示膜層的至少一部分位于所述凹槽所在的區(qū)域。
[0020]如上所述的顯示基板,優(yōu)選的是,所述凹槽內填充有第一有機材料薄膜,使得柔性襯底基板的表面平坦,且所述第一有機材料薄膜設置在所述水氧阻擋薄膜上;
[0021]所述顯示膜層具體設置在所述第一有機材料薄膜上。
[0022]如上所述的顯示基板,優(yōu)選的是,整個所述顯示膜層位于所述凹槽所在的區(qū)域。
[0023]如上所述的顯示基板,優(yōu)選的是,所述顯示膜層包括有機發(fā)光二極管的有機發(fā)光層,或薄膜晶體管的有源層,所述有源層為硅半導體材料。
[0024]本發(fā)明實施例中還提供一種如上所述的顯示基板的制作方法,包括:
[0025]形成柔性襯底基板;
[0026]在所述柔性襯底基板上形成顯示膜層,所述制作方法還包括:
[0027]在所述柔性襯底基板的表面形成凹槽;
[0028]在所述柔性襯底基板具有凹槽的表面形成水氧阻擋薄膜,所述水氧阻擋薄膜的厚度小于所述凹槽的槽深;
[0029]在所述水氧阻擋薄膜上形成所述顯示膜層,且所述顯示膜層的至少一部分位于所述凹槽所在的區(qū)域。
[0030]如上所述的制作方法,優(yōu)選的是,所述制作方法還包括:
[0031]在所述水氧阻擋薄膜上形成第一有機材料薄膜,所述第一有機材料薄膜填充在所述凹槽內,使得柔性襯底基板的表面平坦;
[0032]具體在所述第一有機材料薄膜上形成所述顯示膜層。
[0033]如上所述的制作方法,優(yōu)選的是,形成柔性襯底基板的步驟包括:
[0034]提供一無機基板;
[0035]在所述無機基板表面形成第二有機材料薄膜;
[0036]在所述第二有機材料薄膜的表面形成凹槽;
[0037]在形成所述顯示膜層之后,所述制作方法還包括:
[0038]剝離所述無機基板。
[0039]本發(fā)明實施例中還提供一種顯示裝置,優(yōu)選的是,包括如上所述的顯示基板。
[0040]本發(fā)明的上述技術方案的有益效果如下:
[0041]上述技術方案中,通過在柔性襯底基板的表面設置凹槽,并在所述柔性襯底基板具有凹槽的表面設置水氧阻擋薄膜,且所述水氧阻擋薄膜的厚度小于所述凹槽的槽深。從而在所述水氧阻擋薄膜上形成顯示元件時,位于凹槽中的水氧阻擋薄膜能夠阻擋水汽、氧氣從襯底基板的背面和側面穿透進入顯示膜層,影響顯示元件的性能,提高了產品的穩(wěn)定性,保證了顯示裝置的品質。
【附圖說明】
[0042]為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現有技術中的技術方案,下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例,對于本領域普通技術人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動性的前提下,還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。
[0043]圖1-圖2表示本發(fā)明實施例一中柔性襯底基板的制作過程示意圖;
[0044]圖3-圖5表示本發(fā)明實施例一中顯示基板的制作過程示意圖;
[0045]圖6表示本發(fā)明實施例二中柔性襯底基板的結構示意圖;
[0046]圖7-圖9表示本發(fā)明實施例二中顯示基板的制作過程示意圖。
【具體實施方式】
[0047]本發(fā)明提供一種柔性襯底基板及其制作方法,尤其是有機材料(如塑料、樹脂)的柔性襯底基板,用以解決水汽、氧氣能夠穿透有機材料的柔性襯底基板,影響設置在其上的顯示元件的性能的問題,特別是有機發(fā)光二極管、薄膜晶體管等有機顯示元件。
[0048]所述柔性襯底基板的表面具有凹槽,所述柔性襯底基板具有凹槽的表面設置有水氧阻擋薄膜,所述水氧阻擋薄膜的厚度小于所述凹槽的槽深。從而在所述水氧阻擋薄膜上形成顯示元件時,位于凹槽中的水氧阻擋薄膜能夠阻擋水汽、氧氣從襯底基板的背面和側面穿透進入顯示元件,影響顯示元件的性能,保證了顯示裝置的品質。
[0049]相應地,所述柔性襯底基板的制作方法包括:
[0050]在所述柔性襯底基板的表面形成凹槽;
[0051]在所述柔性襯底基板具有凹槽的表面形成水氧阻擋膜,所述水氧阻擋薄膜的厚度小于所述凹槽的槽深。
[0052]其中,所述水氧阻擋薄膜可以為無機材料,因為無機材料具有阻隔水汽和氧氣的特性。
[0053]下面將結合附圖和實施例,對本發(fā)明的【具體實施方式】作進一步詳細描述。以下實施例用于說明本發(fā)明,但不用來限制本發(fā)明的范圍。
[0054]結合圖2所示,本發(fā)明實施例中提供一種柔性襯底基板I,柔性襯底基板I的表面具有凹槽2,柔性襯底基板I具有凹槽2的表面設置有水氧阻擋薄膜3,水氧阻擋薄膜3的厚度小于凹槽2的槽深,從而水氧阻擋薄膜3能夠阻擋水汽和氧氣從凹槽2的槽底和槽避穿透至凹槽2內,當在水氧阻擋薄膜3上形成有機元件時,能夠保護位于凹槽2中的有機元件不會受到水汽和氧氣的影響,保證元件的品質。
[0055]由于無機材料具有阻擋水汽和氧氣的特性,水氧阻擋薄膜3的材料具體可以為無機材料。
[0056]相應地,結合圖1和圖2所示,本發(fā)明實施例中還提供一種柔性襯底基板的制作方法,包括:
[0057]在柔性襯底基板I的表面形成凹槽2 ;
[0058]在柔性襯底基板I具有凹槽2的表面形成水氧阻擋膜3,水氧阻擋薄膜3的厚度小于凹槽2的槽深。
[0059]本發(fā)明的技術方案能夠阻擋水汽和氧氣從襯底基板的背面和側面穿透進入設置在其上的有機兀件,保證兀件的品質,提尚廣品的穩(wěn)定性。
[0060]優(yōu)選地,凹槽2內還填充有第一有機材料薄膜5,且第一有機材料薄膜5設置在水氧阻擋薄膜3上,如圖6所示。通過在凹槽2內填充第一有機材料薄膜5,可以使得柔性襯底基板的表面平坦,有利于后續(xù)工藝的均勻性。
[0061 ] 其中,第一有機材料薄膜5的材料可以選擇塑料或樹脂
[0062]相應地,柔性襯底基板的制作方法還包括:
[0063]在水氧阻擋薄膜3上形成第一有機材料薄膜5,第一有機材料薄膜5填充在凹槽2內,使得柔性襯底基板的表面平坦。
[0064]在實際工藝過程中,柔性襯底基板I通過以下步驟形成:
[0065]提供一無機基板20,如:玻璃基板;
[0066]在無機基板20的表面形成第二有機材料薄膜10,第二有機材料薄膜10的材料可以選擇塑料或樹脂。
[0067]具體在第二有機材料薄膜10的表面形成凹槽2。
[0068]則,柔性襯底基板I包括無機基板20和設置在無機基板20的表面的第二有機材料薄膜10,第二有機材料薄膜10的表面具有凹槽2。
[0069]如圖6所示,本發(fā)明實施例中的柔性襯底基板具體包括:<