一種束流檢測(cè)及分析裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種半導(dǎo)體器件制造控制系統(tǒng)，即注入機(jī)，特別地，涉及一種用于離子注入機(jī)束流檢測(cè)及分析裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著半導(dǎo)體工藝的發(fā)展，束流的精確檢測(cè)及分析對(duì)于離子注入系統(tǒng)愈發(fā)重要，對(duì)注入產(chǎn)品的質(zhì)量和離子注入機(jī)的產(chǎn)業(yè)化有著很大的影響。如果離子注入機(jī)引出束流能量很低時(shí)，特別是大束流、傳輸路徑長的場(chǎng)合，由于空間電荷效應(yīng)的影響，離子束發(fā)散嚴(yán)重，其傳輸效率極低，使得最后到達(dá)注入晶片的束流小，束品質(zhì)差，不能滿足注入工藝要求；束流的精確檢測(cè)及分析的控制對(duì)于超低能大束流離子束的傳輸有著特殊的意義。
[0003]束流檢測(cè)的精準(zhǔn)度是最終得到高品質(zhì)產(chǎn)品的基礎(chǔ)，目前對(duì)于離子源引出束流測(cè)量和分析要求已成為產(chǎn)業(yè)發(fā)展的迫切需求。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明公開了一種束流檢測(cè)及分析裝置，可用于離子注入機(jī)系統(tǒng)；其針對(duì)現(xiàn)有束流檢測(cè)、分析、獲得精準(zhǔn)束流值，即使對(duì)于超低能束流的傳輸、引出電極或傳輸裝置位置有所偏離、傳輸路徑過長的情況所產(chǎn)生的束流精準(zhǔn)測(cè)量及分析問題，都能夠很好的解決，而不會(huì)對(duì)最終離子注入的產(chǎn)品質(zhì)量產(chǎn)生影響。
[0005]本發(fā)明通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn):
[0006]1.一種束流檢測(cè)及分析裝置，包括:法拉第傳動(dòng)機(jī)構(gòu)⑴、接束法拉第杯(2)、光欄運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)(3)、分析光欄(4)、水冷卻模塊(5)，其特征在于:調(diào)節(jié)裝置上下對(duì)稱布置在束流通道⑴兩側(cè)。
[0007]2.如權(quán)利要求1所述的一種束流均勻性調(diào)節(jié)裝置，法拉第傳動(dòng)機(jī)構(gòu)(I)包括一個(gè)氣缸及一個(gè)真空焊接波紋管，保證其平穩(wěn)的運(yùn)行。
[0008]3.如權(quán)利要求1所述的一種束流檢測(cè)及分析裝置，接束法拉第杯(2)中裝置永久磁體，其特征在于保障接束法拉第杯(2)在檢測(cè)到束流精確值的同時(shí)還能起到對(duì)束流的聚焦作用。
[0009]4.如權(quán)利要求1所述的一種束流檢測(cè)及分析裝置，光欄運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)(3)由一電機(jī)及兩個(gè)傳動(dòng)塊組成，其特征在于可控制光欄雙向運(yùn)動(dòng)的距離大小。
[0010]5.如權(quán)利要求1所述的一種束流檢測(cè)及分析裝置，分析光欄(4)能限制束流的寬度，起到分析束流的作用，其特征在于:分析光欄(4)可雙向同時(shí)等距離調(diào)節(jié)光欄的寬度。
[0011]6.如權(quán)利要求1所述的一種束流檢測(cè)及分析裝置，其特征在于:水冷卻模塊(5)可通過外圍供水來轉(zhuǎn)換到此束流檢測(cè)及分析裝置上，保障其裝置的冷卻及穩(wěn)定性。
[0012]本發(fā)明具有如下顯著優(yōu)點(diǎn):
[0013]1.結(jié)構(gòu)簡單，易于加工制造。
[0014]2.功能可靠，穩(wěn)定性好。
[0015]3.易于控制，不需經(jīng)常維護(hù)和更換。
【附圖說明】
[0016]圖1檢測(cè)及分析裝置總結(jié)構(gòu)圖
[0017]圖2分析光欄及運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)結(jié)構(gòu)圖
[0018]圖3法拉第接束杯及傳動(dòng)機(jī)構(gòu)結(jié)構(gòu)圖
【具體實(shí)施方式】
[0019]下面結(jié)合附圖1、附圖2和附圖3對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步的介紹，但不作為對(duì)本發(fā)明的限定。
[0020]參見圖1、圖2和圖3，一種束流均勻性調(diào)節(jié)裝置分四部分，法拉第傳動(dòng)機(jī)構(gòu)(I)、接束法拉第杯(2)、光欄運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)(3)、分析光欄(4)、水冷卻模塊(5)。其中法拉第傳動(dòng)機(jī)構(gòu)
(I)負(fù)責(zé)接束法拉第杯(2)的平穩(wěn)運(yùn)動(dòng)。
[0021]光欄運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)(3)來負(fù)責(zé)調(diào)節(jié)分析光欄(4)雙向運(yùn)動(dòng)的距離大小。水冷卻模塊
(5)來冷卻整個(gè)系統(tǒng)在接束時(shí)的溫度。
[0022]在該實(shí)施方式中，法拉第傳動(dòng)機(jī)構(gòu)(I)由一個(gè)氣缸和一個(gè)真空焊接波紋管主要部件構(gòu)成，氣缸為驅(qū)動(dòng)部件，來驅(qū)動(dòng)真空焊接波紋管，真空焊接波紋管帶動(dòng)接束法拉第杯(2)進(jìn)行運(yùn)動(dòng)，采用真空焊接波紋管是為了更好地保障接束法拉第杯(2)在真空中的平穩(wěn)運(yùn)動(dòng)。
[0023]在該實(shí)施方式中，光欄運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)(3)由一個(gè)電機(jī)和兩個(gè)傳動(dòng)塊組成，電機(jī)運(yùn)轉(zhuǎn)經(jīng)由傳動(dòng)塊帶動(dòng)分析光欄(4)雙向運(yùn)動(dòng)，在傳動(dòng)塊上安裝位置傳感器來保障分析光欄(4)雙向運(yùn)動(dòng)位置的精確性。
[0024]在該實(shí)施方式中，接束法拉第杯(2)中帶有永久磁鐵，磁鐵兩端對(duì)稱安裝，在保障接束法拉第杯(2)能接到束流進(jìn)行精確測(cè)量的同時(shí)，還起到對(duì)數(shù)流的聚焦作用。
[0025]在該實(shí)施方式中，對(duì)短電極(7)和長電極⑶起到安裝定位作用的電極腔體(2)、電極蓋板(3)的形式可替代的，能起到定位的作用即可。
[0026]在該實(shí)施方式中，分析光欄(4)可雙方向調(diào)節(jié)，并且可通過位置傳感器進(jìn)行運(yùn)動(dòng)位置的計(jì)算，起到了對(duì)通過束流的限制和分析作用。
[0027]本發(fā)明專利的特定實(shí)施例已對(duì)本發(fā)明專利的內(nèi)容做了詳盡說明。對(duì)本領(lǐng)域一般技術(shù)人員而言，在不背離本發(fā)明專利精神的前提下對(duì)它所做的任何顯而易見的改動(dòng)，都構(gòu)成對(duì)本發(fā)明專利的侵犯，將承擔(dān)相應(yīng)的法律責(zé)任。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種束流檢測(cè)及分析裝置，包括:法拉第傳動(dòng)機(jī)構(gòu)(I)、接束法拉第杯(2)、光欄運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)(3)、分析光欄(4)、水冷卻模塊(5)，其特征在于:調(diào)節(jié)裝置上下對(duì)稱布置在束流通道(I)兩側(cè)。
2.如權(quán)利要求1所述的一種束流均勻性調(diào)節(jié)裝置，法拉第傳動(dòng)機(jī)構(gòu)(I)包括一個(gè)氣缸及一個(gè)真空焊接波紋管，保證其平穩(wěn)的運(yùn)行。
3.如權(quán)利要求1所述的一種束流檢測(cè)及分析裝置，接束法拉第杯(2)中裝置永久磁體，其特征在于保障接束法拉第杯(2)在檢測(cè)到束流精確值的同時(shí)還能起到對(duì)束流的聚焦作用。
4.如權(quán)利要求1所述的一種束流檢測(cè)及分析裝置，光欄運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)(3)由一電機(jī)及兩個(gè)傳動(dòng)塊組成，其特征在于可控制光欄雙向運(yùn)動(dòng)的距離大小。
5.如權(quán)利要求1所述的一種束流檢測(cè)及分析裝置，分析光欄(4)能限制束流的寬度，起到分析束流的作用，其特征在于:分析光欄(4)可雙向同時(shí)等距離調(diào)節(jié)光欄的寬度。
6.如權(quán)利要求1所述的一種束流檢測(cè)及分析裝置，其特征在于:水冷卻模塊(5)可通過外圍供水來轉(zhuǎn)換到此束流檢測(cè)及分析裝置上，保障其裝置的冷卻及穩(wěn)定性。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種束流檢測(cè)及分析裝置，包括：法拉第傳動(dòng)機(jī)構(gòu)(1)、接束法拉第杯(2)、光欄運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)(3)、分析光欄(4)、水冷卻模塊(5)，其中法拉第傳動(dòng)機(jī)構(gòu)(1)負(fù)責(zé)接束法拉第杯(2)的快速平緩運(yùn)動(dòng)；光欄運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)(3)引導(dǎo)分析光欄(4)的雙方向等距運(yùn)動(dòng)；水冷卻模塊(5)冷卻整個(gè)流檢測(cè)及分析裝置。本發(fā)明涉及離子注入裝置，隸屬于半導(dǎo)體制造領(lǐng)域。
【IPC分類】H01J37-244
【公開號(hào)】CN104576272
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201310507655
【發(fā)明人】李幸夫
【申請(qǐng)人】北京中科信電子裝備有限公司
【公開日】2015年4月29日
【申請(qǐng)日】2013年10月24日