專利名稱:用于開關(guān)設(shè)備的殼體的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種用于一開關(guān)設(shè)備的殼體，所述殼體包括至少一個(gè)第一殼體壁和一個(gè)第二殼體壁，所述第一殼體壁包括一個(gè)面向所述殼體內(nèi)部的內(nèi)壁面和一個(gè)面向外部的外壁面，所述第二殼體壁在一接合處與所述第一殼體壁接觸。
背景技術(shù)：
在工業(yè)自動(dòng)化技術(shù)領(lǐng)域：
，尤其是開關(guān)設(shè)備如接觸器、繼電器領(lǐng)域，人們希望兩殼體部件之間的接合處不會(huì)讓雜質(zhì)進(jìn)入殼體內(nèi)部。殼體部件的接合處通常采用相互密接的設(shè)計(jì)，借此改善密封效果。但是，這種設(shè)計(jì)特征還不足以將殼體內(nèi)部與外部雜質(zhì)予以徹底隔 離。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本實(shí)用新型的目的是通過簡(jiǎn)單的設(shè)計(jì)防止沉積雜質(zhì)進(jìn)入開關(guān)設(shè)備的殼體。
本實(shí)用新型用以達(dá)成上述目的的解決方案為一種用于一開關(guān)設(shè)備的殼體，所述殼體包括至少一個(gè)第一殼體壁和一個(gè)第二殼體壁，所述第一殼體壁包括一個(gè)面向所述殼體內(nèi)部的內(nèi)壁面和一個(gè)面向外部的外壁面，所述第二殼體壁在一接合處與所述第一殼體壁接觸，其中，所述第一殼體壁具有一個(gè)直接設(shè)在所述接合處面前的防塵輪廓，所述防塵輪廓突出在所述外壁面且與所述第一殼體壁一體成型。
其他有利實(shí)施方式由從屬權(quán)利要求
給出。
所述接合處是雜質(zhì)可能進(jìn)入殼體內(nèi)部的區(qū)域。如果所述第一殼體壁直接在所述接合處面前具有一個(gè)突出在所述外壁面上的防塵輪廓，就能避免雜質(zhì)(例如灰塵)在振動(dòng)過程中進(jìn)入殼體內(nèi)部。由于大部分開關(guān)設(shè)備不是在無塵室內(nèi)使用，因此，開關(guān)設(shè)備的殼體上一般都會(huì)沉積雜質(zhì)。一定時(shí)間后，殼體表面會(huì)蒙上一層雜質(zhì)，時(shí)間的長(zhǎng)短與開關(guān)設(shè)備的使用場(chǎng)所有關(guān)。開關(guān)設(shè)備中的開關(guān)操作最終會(huì)在開關(guān)設(shè)備上引發(fā)振動(dòng)。對(duì)于機(jī)械式開關(guān)設(shè)備尤其如此。這樣的振動(dòng)會(huì)使沉積在外壁面的雜質(zhì)發(fā)生運(yùn)動(dòng)。也有可能開關(guān)設(shè)備的構(gòu)建方式使開關(guān)設(shè)備受振動(dòng)影響。其缺點(diǎn)是，位于殼體頂端的雜質(zhì)會(huì)發(fā)生運(yùn)動(dòng)。振動(dòng)一般都會(huì)使雜質(zhì)推進(jìn)所述接合處，進(jìn)而經(jīng)所述接合處進(jìn)入殼體內(nèi)部。本實(shí)用新型的特征可以消除這種非期望的效應(yīng)。測(cè)量結(jié)果表明，通過采用本實(shí)用新型帶有一防塵輪廓的第一殼體的設(shè)計(jì)，可大幅減少進(jìn)入殼體內(nèi)部的雜質(zhì)量。通過在一第一殼體壁上設(shè)置一個(gè)防塵輪廓并且使該防塵輪廓高于與該防塵輪廓鄰接的所述第一殼體壁的外壁面，可避免積聚在所述第一殼體壁上的雜質(zhì)因振動(dòng)而推近接合處。借此能顯著減少進(jìn)入殼體內(nèi)部的雜質(zhì)量。這將極大地提高開關(guān)設(shè)備的可靠性，因?yàn)樗鼋佑|位置將保持得相對(duì)更干凈，從而保證開關(guān)設(shè)備的接觸可靠性不受影響。
根據(jù)本實(shí)用新型的一種實(shí)施方式，所述防塵輪廓在所述外壁面上沿所述整個(gè)第一殼體壁的邊緣分布。
借此可確保，沉積在所述第一殼體壁上的雜質(zhì)無法直接到達(dá)所述接合處。所述外壁面上的雜質(zhì)只有先積聚到高出防塵輪廓的程度，才有可能到達(dá)所述接合處。但在達(dá)到這個(gè)階段之前，最終用戶一般都會(huì)對(duì)開關(guān)設(shè)備進(jìn)行清潔或除塵處理。通過將防塵輪廓設(shè)置在所述接合處面前并且使其沿所述第一殼體壁的整個(gè)外壁面的邊緣分布，可避免常規(guī)情況下積聚在所述外壁面的雜質(zhì)在該接合處通過振動(dòng)而進(jìn)入殼體內(nèi)部。積聚的雜質(zhì)必須先高于(“克服”)防塵輪廓這道障礙，才能到達(dá)所述接合處。
根據(jù)本實(shí)用新型的另一實(shí)施方式，在為所述開關(guān)設(shè)備設(shè)置的一安裝位置上，所述外壁面位于一個(gè)大體水平的平面內(nèi)且面向上方。
借此可確保，所述防塵輪廓和第一殼體壁安裝在一般情況下殼體會(huì)積聚雜質(zhì)特別是灰塵的位置上。其中，本實(shí)用新型的設(shè)計(jì)特征可限定在雜質(zhì)的沉積與進(jìn)入比較關(guān)鍵的位置上。
根據(jù)本實(shí)用新型的另一實(shí)施方式，所述第二殼體壁在所述接合處平行于相對(duì)布置·的所述防塵輪廓。
其優(yōu)點(diǎn)在于，防塵輪廓不只是突出于殼體之外，而且可與所述第二殼體壁構(gòu)成一個(gè)統(tǒng)一的穩(wěn)定單元。也可將所述第二殼體壁設(shè)計(jì)得比防塵輪廓高。
根據(jù)本實(shí)用新型的另一實(shí)施方式，所述防塵輪廓僅垂直于所述外壁面定向。
借此可確保設(shè)計(jì)特征簡(jiǎn)單，且所述第一殼體壁的范圍不會(huì)由于設(shè)置防塵輪廓而擴(kuò)大。在將第一殼體壁實(shí)施為可拆卸頂蓋的情況下，可將第一殼體壁毫不費(fèi)力地安裝到其專用位置上，而不必以多個(gè)運(yùn)動(dòng)方向進(jìn)行安裝。其中的“僅”在這里的含義是，所述防塵輪廓垂直于所述第一殼體壁的外壁面，并且不能采用其他形狀(例如L形或由第二殼體壁導(dǎo)引的拱形)。
根據(jù)本實(shí)用新型的另一實(shí)施方式，所述防塵輪廓在與之鄰接的所述外壁面上突出至少Imnin
在此情況下，防塵輪廓構(gòu)成一個(gè)足以用來阻擋沉積雜質(zhì)的“屏障”。
根據(jù)本實(shí)用新型的另一實(shí)施方式，所述開關(guān)設(shè)備具有復(fù)數(shù)個(gè)弱電觸點(diǎn)。
當(dāng)雜質(zhì)非期望進(jìn)入后，會(huì)迅速導(dǎo)致接觸位置受污染，對(duì)于弱電觸點(diǎn)而言尤其如此。因此，本實(shí)用新型的設(shè)計(jì)特征能極大改善弱電觸點(diǎn)的接觸可靠性。


下文將借助附圖所示的實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型及其實(shí)施方案進(jìn)行詳細(xì)說明，其中
圖I為一開關(guān)設(shè)備的一第一殼體壁的側(cè)視圖，該開關(guān)設(shè)備包括一個(gè)防塵輪廓；以及
圖2為包括一第一殼體壁的一開關(guān)設(shè)備，所述第一殼體壁具有一個(gè)防塵輪廓。
具體實(shí)施方式
圖I為一開關(guān)設(shè)備的一個(gè)第一殼體壁2的側(cè)視圖，該開關(guān)設(shè)備包括一個(gè)防塵輪廓
7。如圖所示，第一殼體壁2與一個(gè)第二殼體壁5接觸，并且在接觸位置上形成一接合處6。第一殼體壁2在另一側(cè)與一個(gè)第三殼體壁8接觸，并且同樣在接觸位置上形成一接合處6。第一殼體壁2具有一個(gè)面朝設(shè)備內(nèi)部的內(nèi)壁面3和一個(gè)背朝設(shè)備內(nèi)部的外壁面4。如圖所示，外壁面上4有可能積聚雜質(zhì)9(例如灰塵)。如果開關(guān)設(shè)備通過開關(guān)操作引發(fā)振動(dòng)或者受振動(dòng)影響，雜質(zhì)9就會(huì)在外壁面4上運(yùn)動(dòng)。如側(cè)面透視圖所示，第一殼體壁2直接在每個(gè)接合處6面前各具有一個(gè)防塵輪廓7。這個(gè)防塵輪廓7能避免沉積雜質(zhì)9推近接合處6以及進(jìn)入接合處6。借此避免沉積雜質(zhì)9進(jìn)入設(shè)備內(nèi)部。雜質(zhì)9的進(jìn)入正是帶弱電觸點(diǎn)的開關(guān)設(shè)備所遇到的一個(gè)重大問題。這些雜質(zhì)9會(huì)嚴(yán)重影響這些弱電觸點(diǎn)的接觸可靠性，進(jìn)而危及開關(guān)設(shè)備的可靠性。因此，防塵輪廓7可以避免雜質(zhì)9在開關(guān)操作所引發(fā)的振動(dòng)或一般振動(dòng)的作用下，經(jīng)接合處6進(jìn)入殼體內(nèi)部。亦即，防塵輪廓7能極大改善開關(guān)設(shè)備的可靠性。
圖2為包括一個(gè)第一殼體壁的一開關(guān)設(shè)備，所述第一殼體壁具有一個(gè)防塵輪廓7。用于一開關(guān)設(shè)備的一個(gè)殼體I具有包括一外壁面4的所述第一殼體壁。這個(gè)外壁面4在其與一個(gè)第二殼體壁5之間的接合處設(shè)有一個(gè)防塵輪廓7。通過這種方式，可避免有可能沉積在外壁面4上的沉積雜質(zhì)在振動(dòng)的作用下推進(jìn)第一殼體壁與其他殼體壁之間的接合處。因此，開關(guān)設(shè)備上，尤其是第一殼體壁及其外壁面4上有可能沉積一定量的雜質(zhì)，但這部分雜質(zhì)并不會(huì)因振動(dòng)而到達(dá)第一殼體壁與其他殼體壁之間的接合處。其中，防塵輪廓7最好能超過工業(yè)環(huán)境中外壁面4上常見的灰塵沉積厚度。從圖中還可看出，外壁面4可按開關(guān)設(shè) 備的具體形狀進(jìn)行相應(yīng)設(shè)計(jì)，而不必是簡(jiǎn)單的幾何形狀。在本實(shí)施例中，開關(guān)設(shè)備的所述第一殼體壁是可拆卸的。
權(quán)利要求
1.一種用于一開關(guān)設(shè)備的殼體(1)，所述殼體包括至少一個(gè)第一殼體壁(2)和一個(gè)第二殼體壁(5)，所述第一殼體壁包括一個(gè)面向所述殼體內(nèi)部的內(nèi)壁面(3)和一個(gè)面向外部的外壁面(4 )，所述第二殼體壁在一接合處(6 )與所述第一殼體壁(2 )接觸， 其特征在于， 所述第一殼體壁(2 )具有一個(gè)直接設(shè)在所述接合處(6 )面前的防塵輪廓(7 )，所述防塵輪廓突出在所述外壁面(4)且與所述第一殼體壁(2)—體成型。
2.根據(jù)權(quán)利要求
I所述的殼體(1)，其中，所述防塵輪廓(7)在所述外壁面上(4)沿所述整個(gè)第一殼體壁(2)的邊緣分布。
3.根據(jù)權(quán)利要求
I或2所述的殼體(1)，其中，在為所述開關(guān)設(shè)備設(shè)置的一安裝位置上，所述外壁面(4)位于一個(gè)大體水平的平面內(nèi)且面向上方。
4.根據(jù)權(quán)利要求
I或2所述的殼體(1)，其中，所述第二殼體壁(5)在所述接合處平行于相對(duì)布置的所述防塵輪廓(J)。
5.根據(jù)權(quán)利要求
I或2所述的殼體(1)，其中，所述防塵輪廓(7)僅垂直于所述外壁面(4)定向。
6.根據(jù)權(quán)利要求
I或2所述的殼體(1)，其中，所述防塵輪廓(7)突出鄰接的所述外壁面 4)至少Imnin
7.一種開關(guān)設(shè)備，包括一如上述權(quán)利要求
之一所述的殼體(I)，其中，所述開關(guān)設(shè)備具有復(fù)數(shù)個(gè)弱電觸點(diǎn)。
專利摘要
本實(shí)用新型涉及一種用于一開關(guān)設(shè)備的殼體(1)，所述殼體包括至少一個(gè)第一殼體壁(2)和一個(gè)第二殼體壁(5)，所述第一殼體壁包括一個(gè)面向所述殼體(1)內(nèi)部的內(nèi)壁面(3)和一個(gè)面向外部的外壁面(4)，所述第二殼體壁在一接合處(6)與所述第一殼體壁(2)接觸。為了能夠通過簡(jiǎn)單的設(shè)計(jì)防止沉積雜質(zhì)(9)進(jìn)入開關(guān)設(shè)備的殼體(1)，本實(shí)用新型提出如下解決方案所述第一殼體壁(2)具有一直接設(shè)在所述接合處(6)面前的防塵輪廓(7)，所述防塵輪廓突出在所述外壁面(4)且與所述第一殼體壁(2)一體成型。
文檔編號(hào)H01H9/04GKCN202695203SQ201090000756
公開日2013年1月23日 申請(qǐng)日期2010年1月29日
發(fā)明者丹尼爾·亨施, 曼努埃拉·呂夫特, 威廉·賴辛格 申請(qǐng)人:西門子公司導(dǎo)出引文BiBTeX, EndNote, RefMan