1.一種金屬膜厚度測(cè)量方法，其特征在于，包括：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)所述量測(cè)溫度和所述基值溫度，獲得厚度補(bǔ)償值，包括：
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述溫度補(bǔ)償模型通過如下方式訓(xùn)練獲得：
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述獲取第一映射關(guān)系，包括：
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，所述改變所述測(cè)試環(huán)境的溫度，確定所述空載信號(hào)隨所述測(cè)試環(huán)境的溫度改變發(fā)生的第一變化情況，包括：
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，其特征在于，所述收取所述測(cè)試環(huán)境的溫度升高過程中所述電渦流傳感器輸出的多個(gè)空載信號(hào)，包括：
7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述獲取多個(gè)第二映射關(guān)系，包括：
8.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)所述第一映射關(guān)系和所述多個(gè)第二映射關(guān)系，構(gòu)建所述溫度補(bǔ)償模型，包括：
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)所述第一映射關(guān)系和所述第二映射關(guān)系，獲得與該第二映射關(guān)系所對(duì)應(yīng)的金屬膜厚度相對(duì)應(yīng)的第三映射關(guān)系，包括：
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)對(duì)應(yīng)不同金屬膜厚度的所述第四映射關(guān)系，確定所述溫度補(bǔ)償模型，包括：
11.一種金屬膜厚度測(cè)量裝置，其特征在于，包括：控制器和電渦流傳感器；
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的金屬膜厚度測(cè)量裝置，其特征在于，還包括：溫度傳感器；
13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的金屬膜厚度測(cè)量裝置，其特征在于，
14.一種化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備，其特征在于，包括：拋光盤、承載頭、供液裝置、修整器和如權(quán)利要求11-13中任一所述的金屬膜厚度測(cè)量裝置；
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備，其特征在于，
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備，其特征在于，
17.一種晶圓片拋光方法，其特征在于，包括：
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：
19.一種計(jì)算機(jī)存儲(chǔ)介質(zhì)，其上存儲(chǔ)有計(jì)算機(jī)程序，該程序被處理器執(zhí)行時(shí)實(shí)現(xiàn)如權(quán)利要求1-10或17-18中任一項(xiàng)所述的方法。
20.一種計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品，其特征在于，包括計(jì)算機(jī)指令，所述計(jì)算機(jī)指令指示計(jì)算設(shè)備執(zhí)行如權(quán)利要求1-10或17-18中任一項(xiàng)所述的方法對(duì)應(yīng)的操作。