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一種耐高溫的陶瓷熱敏電阻的制作方法

文檔序號(hào):40316195發(fā)布日期:2024-12-13 11:31閱讀:10來(lái)源:國(guó)知局
一種耐高溫的陶瓷熱敏電阻的制作方法

本技術(shù)涉及熱敏電阻,尤其是涉及一種耐高溫的陶瓷熱敏電阻。


背景技術(shù):

1、熱敏電阻器已廣泛應(yīng)用于浪涌電流抑制、溫度測(cè)量、控制、溫度補(bǔ)償?shù)?,熱敏電阻器廣泛應(yīng)用于電路與電子元件的過(guò)流保護(hù)、啟動(dòng),以及流速、流量、射線測(cè)量的相關(guān)儀器與應(yīng)用領(lǐng)域。

2、現(xiàn)有的陶瓷熱敏電阻一般包括有陶瓷外殼以及熱敏電阻主體,熱敏電阻主體置于陶瓷外殼的內(nèi)部,并通過(guò)高溫?zé)Y(jié),使之與陶瓷外殼固定裝配,以及熱傳導(dǎo)連接。但是,熱敏電阻使用時(shí)處于高溫環(huán)境中,使用時(shí)間久后,容易導(dǎo)致芯片老化,影響熱敏電阻器件的壽命;另外,常用的陶瓷熱敏電阻結(jié)構(gòu)的導(dǎo)熱系數(shù)任然較低,導(dǎo)致熱敏電阻器件起效延遲,靈敏性較低。


技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)存在的不足,本實(shí)用新型的目的是提供一種耐高溫的陶瓷熱敏電阻,保留陶瓷熱敏電阻耐高溫的特性,并提高其熱敏性,提高熱敏電阻的熱敏準(zhǔn)度以及散熱性能。

2、為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型所采用的技術(shù)方案是:一種耐高溫的陶瓷熱敏電阻,包括陶瓷外殼以及芯片,芯片固定于陶瓷外殼的內(nèi)腔,陶瓷外殼的設(shè)有多個(gè)通口,通口嵌入裝配有多個(gè)導(dǎo)熱鋼片;芯片的上下表面設(shè)有導(dǎo)熱片結(jié)構(gòu),導(dǎo)熱片結(jié)構(gòu)包括多個(gè)波浪狀的導(dǎo)熱片單元,導(dǎo)熱片結(jié)構(gòu)觸碰連接于陶瓷外殼以及各導(dǎo)熱鋼片;陶瓷外殼的內(nèi)腔填充有陶瓷固化體,陶瓷固化體緊密擠壓于芯片以及導(dǎo)熱片結(jié)構(gòu)。

3、進(jìn)一步的技術(shù)方案中,陶瓷外殼包括上半殼和下半殼,上半殼和下半殼的四個(gè)角部分別設(shè)有沉底孔,上半殼和下半殼對(duì)齊蓋合設(shè)置,并于上下對(duì)齊的兩個(gè)沉底孔之間穿插有鋼釘,上半殼和下半殼通過(guò)各鋼釘連接裝配。

4、進(jìn)一步的技術(shù)方案中,導(dǎo)熱片單元沖壓型成“v”型折彎結(jié)構(gòu),各導(dǎo)熱片單元呈間隔分布設(shè)置。

5、進(jìn)一步的技術(shù)方案中,上半殼和下半殼的內(nèi)側(cè)壁成型有兩個(gè)凹槽結(jié)構(gòu),這兩個(gè)凹槽結(jié)構(gòu)分別設(shè)于上半殼和下半殼對(duì)應(yīng)的兩個(gè)內(nèi)側(cè)壁,凹槽結(jié)構(gòu)包括多個(gè)直線槽,相對(duì)的兩個(gè)凹槽結(jié)構(gòu)之間,各直線槽分別一一對(duì)齊設(shè)置,導(dǎo)熱片單元的兩端分別插接于相應(yīng)的直線槽。

6、進(jìn)一步的技術(shù)方案中,陶瓷外殼的側(cè)部設(shè)有兩個(gè)穿孔;芯片設(shè)有兩個(gè)引腳,這兩個(gè)引腳呈對(duì)稱(chēng)設(shè)置,引腳穿出于陶瓷外殼的穿孔,引腳的穿出部分沖壓形成彎曲部,彎曲部呈“s”型設(shè)置。

7、進(jìn)一步的技術(shù)方案中,芯片由外之內(nèi)包括有玻璃內(nèi)殼、鈦鎢層、銀極層以及熱敏電阻主體。

8、進(jìn)一步的技術(shù)方案中,銀極層的厚度為3μm-6μm。

9、進(jìn)一步的技術(shù)方案中,鈦鎢層的厚度為0.1μm-0.2μm。

10、進(jìn)一步的技術(shù)方案中,鈦鎢層中的鈦和鎢比重符合以下質(zhì)量比條件:1∶10。

11、采用上述結(jié)構(gòu)后,本實(shí)用新型和現(xiàn)有技術(shù)相比所具有的優(yōu)點(diǎn)是:本實(shí)用新型提供了一種耐高溫的陶瓷熱敏電阻,通過(guò)陶瓷外殼結(jié)構(gòu)中設(shè)置導(dǎo)熱片結(jié)構(gòu)以及導(dǎo)熱鋼片,提高其導(dǎo)熱性能,保留陶瓷熱敏電阻耐高溫的特性,同時(shí),提高熱敏電阻的熱敏性以及熱敏準(zhǔn)度;通過(guò)折彎的導(dǎo)熱片單元組成的導(dǎo)熱片結(jié)構(gòu),能夠提高其熱傳導(dǎo)面積,從而提高芯片與陶瓷外殼之間的熱偶靈敏度,從而進(jìn)一步提高熱敏電阻器件的精準(zhǔn)度;具有導(dǎo)熱結(jié)構(gòu)的陶瓷外殼,能夠提高陶瓷熱敏電阻的散熱性能,延長(zhǎng)其使用壽命;由玻璃內(nèi)殼和鈦鎢層組成的芯片殼體結(jié)構(gòu),進(jìn)一步提高熱敏電阻器件的耐熱性。



技術(shù)特征:

1.一種耐高溫的陶瓷熱敏電阻,包括陶瓷外殼(1)以及芯片(4),其特征在于:芯片(4)固定于陶瓷外殼(1)的內(nèi)腔,陶瓷外殼(1)的設(shè)有多個(gè)通口,通口嵌入裝配有多個(gè)導(dǎo)熱鋼片(2);芯片(4)的上下表面設(shè)有導(dǎo)熱片結(jié)構(gòu),導(dǎo)熱片結(jié)構(gòu)包括多個(gè)波浪狀的導(dǎo)熱片單元(3),導(dǎo)熱片結(jié)構(gòu)觸碰連接于陶瓷外殼(1)以及各導(dǎo)熱鋼片(2);陶瓷外殼(1)的內(nèi)腔填充有陶瓷固化體(5),陶瓷固化體(5)緊密擠壓于芯片(4)以及導(dǎo)熱片結(jié)構(gòu)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種耐高溫的陶瓷熱敏電阻,其特征在于:所述陶瓷外殼(1)包括上半殼(11)和下半殼(12),上半殼(11)和下半殼(12)的四個(gè)角部分別設(shè)有沉底孔(10),上半殼(11)和下半殼(12)對(duì)齊蓋合設(shè)置,并于上下對(duì)齊的兩個(gè)沉底孔(10)之間穿插有鋼釘,上半殼(11)和下半殼(12)通過(guò)各鋼釘連接裝配。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種耐高溫的陶瓷熱敏電阻,其特征在于:所述導(dǎo)熱片單元(3)沖壓型成“v”型折彎結(jié)構(gòu),各導(dǎo)熱片單元(3)呈間隔分布設(shè)置。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種耐高溫的陶瓷熱敏電阻,其特征在于:所述上半殼(11)和所述下半殼(12)的內(nèi)側(cè)壁成型有兩個(gè)凹槽結(jié)構(gòu),這兩個(gè)凹槽結(jié)構(gòu)分別設(shè)于上半殼(11)和下半殼(12)對(duì)應(yīng)的兩個(gè)內(nèi)側(cè)壁,凹槽結(jié)構(gòu)包括多個(gè)直線槽,相對(duì)的兩個(gè)凹槽結(jié)構(gòu)之間,各直線槽分別一一對(duì)齊設(shè)置,所述導(dǎo)熱片單元(3)的兩端分別插接于相應(yīng)的直線槽。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種耐高溫的陶瓷熱敏電阻,其特征在于:所述陶瓷外殼(1)的側(cè)部設(shè)有兩個(gè)穿孔;所述芯片(4)設(shè)有兩個(gè)引腳(9),這兩個(gè)引腳(9)呈對(duì)稱(chēng)設(shè)置,引腳(9)穿出于所述陶瓷外殼(1)的穿孔,引腳(9)的穿出部分沖壓形成彎曲部(91),彎曲部(91)呈“s”型設(shè)置。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種耐高溫的陶瓷熱敏電阻,其特征在于:所述芯片(4)由外之內(nèi)包括有玻璃內(nèi)殼(44)、鈦鎢層(43)、銀極層(42)以及熱敏電阻主體(41)。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種耐高溫的陶瓷熱敏電阻,其特征在于:所述銀極層(42)的厚度為3μm-6μm。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種耐高溫的陶瓷熱敏電阻,其特征在于:所述鈦鎢層(43)的厚度為0.1μm-0.2μm。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種耐高溫的陶瓷熱敏電阻,其特征在于:所述鈦鎢層(43)中的鈦和鎢比重符合以下質(zhì)量比條件:1∶10。


技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)公開(kāi)了一種耐高溫的陶瓷熱敏電阻,包括陶瓷外殼以及芯片,芯片固定于陶瓷外殼的內(nèi)腔,陶瓷外殼的設(shè)有多個(gè)通口,通口嵌入裝配有多個(gè)導(dǎo)熱鋼片;芯片的上下表面設(shè)有導(dǎo)熱片結(jié)構(gòu),導(dǎo)熱片結(jié)構(gòu)包括多個(gè)波浪狀的導(dǎo)熱片單元,導(dǎo)熱片結(jié)構(gòu)觸碰連接于陶瓷外殼以及各導(dǎo)熱鋼片;陶瓷外殼的內(nèi)腔填充有陶瓷固化體,陶瓷固化體緊密擠壓于芯片以及導(dǎo)熱片結(jié)構(gòu)。與現(xiàn)有技術(shù)相比,提高了陶瓷熱敏電阻耐高溫性能,同時(shí)提高其熱敏準(zhǔn)度以及散熱性能。

技術(shù)研發(fā)人員:劉寒遷,余晏斌
受保護(hù)的技術(shù)使用者:東莞市仙橋電子科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日:20231231
技術(shù)公布日:2024/12/12
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