本發(fā)明屬于顯示技術(shù)領(lǐng)域，具體地講，涉及一種發(fā)光器件及顯示裝置。

背景技術(shù)：

噴墨打印具有極高的材料利用率，同時(shí)不需要高精度掩膜，被認(rèn)為是一種極具潛力的顯示器制備技術(shù)。

在采用噴墨打印方法制作OLED顯示器的過(guò)程中，一個(gè)不可回避的問(wèn)題是溶液在像素界定層上的邊緣攀爬問(wèn)題。噴墨打印方法屬于一種濕法成膜的工藝，在滴下溶液后，需要蒸發(fā)溶劑，干燥成膜。這一干燥過(guò)程往往帶來(lái)成膜特性(諸如粗糙度、厚度及均一性等)的差異。

采用噴墨打印方法制作OLED顯示器的過(guò)程為：在設(shè)置有導(dǎo)電電極的基板上，通過(guò)光刻工藝制備像素界定層，并在像素界定層和基板之間形成一個(gè)類似容器的結(jié)構(gòu)。通過(guò)噴墨工藝將顯示用材料溶液滴入像素界定層間，由于像素界定層往往采用單層或多層的疏水材料形成，所以依賴于表面張力作用，溶液會(huì)出現(xiàn)中間凸的形態(tài)。

在滴入“墨水”以后，經(jīng)過(guò)蒸發(fā)溶劑的過(guò)程，形成有機(jī)功能層。有機(jī)功能層的成膜過(guò)程中會(huì)出現(xiàn)釘扎效應(yīng)，即會(huì)發(fā)生在界面處的膜厚與中心處的膜厚不均的現(xiàn)象。溶液會(huì)發(fā)生邊緣攀爬的現(xiàn)象，導(dǎo)致薄膜中間薄，邊緣厚，從而影響成膜質(zhì)量并進(jìn)而影響像素發(fā)光的均一性。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

為了解決上述的技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明目的在于提供一種發(fā)光器件，其包括：基板；設(shè)置在所述基板上且用于限定出發(fā)光區(qū)域的限定塊；設(shè)置在所述基板上且位于所述發(fā)光區(qū)域中的底電極，所述底電極與所述限定塊之間具有間隙；設(shè)置在所述底電極上的發(fā)光組件；以及設(shè)置在所述發(fā)光組件上的頂電極。

可選地，所述頂電極在所述底電極上的投影位于所述底電極以內(nèi)。

可選地，所述發(fā)光組件從所述底電極至所述頂電極順序包括：空穴注入層、空穴傳輸層、發(fā)光層、電子傳輸層和電子注入層。

可選地，所述發(fā)光層為有機(jī)發(fā)光層或者量子點(diǎn)發(fā)光層。

可選地，所述底電極和所述頂電極中的一個(gè)是透明的或半透明的，另一個(gè)是不透明且反射光的。

可選地，所述空穴注入層和/或所述空穴傳輸層和/或所述發(fā)光層和/或所述電子傳輸層和/或所述電子注入層采用噴墨打印的方式制成。

可選地，所述限定塊采用疏水性材料制成。

本發(fā)明的另一目的還在于提供了一種顯示裝置，其包括上述的發(fā)光器件。

本發(fā)明的有益效果：本發(fā)明通過(guò)在底電極和頂電極與限定塊之間形成間隙，使形成發(fā)光組件的各功能層的膜厚不均區(qū)域不處于空間上重疊的底電極和頂電極之間，這樣不再有較大電流密度載流子通過(guò)各功能層的膜厚不均區(qū)域，從而不再影響像素的發(fā)光特性。

附圖說(shuō)明

通過(guò)結(jié)合附圖進(jìn)行的以下描述，本發(fā)明的實(shí)施例的上述和其它方面、特點(diǎn)和優(yōu)點(diǎn)將變得更加清楚，附圖中：

圖1是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的由限定塊限定出的發(fā)光區(qū)域的俯視圖；

圖2是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的發(fā)光器件的剖面圖。

具體實(shí)施方式

以下，將參照附圖來(lái)詳細(xì)描述本發(fā)明的實(shí)施例。然而，可以以許多不同的形式來(lái)實(shí)施本發(fā)明，并且本發(fā)明不應(yīng)該被解釋為限制于這里闡述的具體實(shí)施例。相反，提供這些實(shí)施例是為了解釋本發(fā)明的原理及其實(shí)際應(yīng)用，從而使本領(lǐng)域的其他技術(shù)人員能夠理解本發(fā)明的各種實(shí)施例和適合于特定預(yù)期應(yīng)用的各種修改。

在附圖中，為了清楚器件，夸大了層和區(qū)域的厚度。相同的標(biāo)號(hào)在整個(gè)說(shuō)明書和附圖中表示相同的元器件。

圖1是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的由限定塊限定出的發(fā)光區(qū)域的俯視圖。

參照?qǐng)D1，多條限定塊(或稱像素界定層)20縱橫排布在基板10上，以限定出多個(gè)發(fā)光區(qū)域10a。優(yōu)選地，這些發(fā)光區(qū)域10a陣列排布，但本發(fā)明并不限制于此。

下面以一個(gè)發(fā)光區(qū)域10a為例進(jìn)行說(shuō)明。其它發(fā)光區(qū)域10a與下面所示的發(fā)光區(qū)域10a相同。

圖2是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的發(fā)光器件的剖面圖。應(yīng)當(dāng)說(shuō)明的是，該發(fā)光器件通常用于有機(jī)發(fā)光顯示裝置或者其它合適的顯示裝置中。

參照?qǐng)D2，根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的發(fā)光器件包括：基板10、限定塊(或稱像素界定層)20、底電極30、發(fā)光組件40和頂電極50。應(yīng)當(dāng)說(shuō)明的是，本發(fā)明的發(fā)光器件還可以包括其它合適的元件。

基板10可以是透明的或者不透明的。對(duì)于通過(guò)基板10觀察發(fā)光組件40發(fā)光來(lái)說(shuō)，基板10是具有透光性質(zhì)。在此情況下通常使用透明玻璃或塑料。對(duì)于通過(guò)頂電極50觀察發(fā)光組件40發(fā)光來(lái)說(shuō)，基板10的可以是透光的、吸光的或反光的。用于這種情況的材料包括但是不局限于玻璃、塑料、半導(dǎo)體材料、陶瓷、電路板材料或任何其它合適的材料。

如上所述，限定塊20在基板10上限定出發(fā)光區(qū)域10a。在本實(shí)施例中，限定塊20可以是由疏水性材料形成的單層、雙層或者多層的結(jié)構(gòu)。疏水性材料可例如是聚苯乙烯、聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯等。

底電極30設(shè)置在基板10上且位于發(fā)光區(qū)域10a中，并且底電極30與限定塊20之間具有間隙。這里，該間隙的尺寸大小由形成發(fā)光組件40時(shí)溶液在限定塊20上的邊緣爬坡的尺寸來(lái)確定。

底電極30通常被設(shè)置為陽(yáng)極。底電極30也是反光鏡。當(dāng)通過(guò)基板10觀察發(fā)光組件40發(fā)光時(shí)，底電極30可以由反射性金屬制成，并且應(yīng)該足夠薄以便在發(fā)射光的波長(zhǎng)下具有部分透光率，這被稱為是半透明的，或者底電極30可以由透明的金屬氧化物制成，諸如氧化銦錫或氧化鋅錫等。當(dāng)通過(guò)頂電極50觀察發(fā)光組件40發(fā)光時(shí)，底電極30可以由反射性金屬制成，并且應(yīng)該足夠厚，以使其基本上是不透光的且是全反光鏡。

發(fā)光組件40設(shè)置在底電極30上。作為本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，發(fā)光組件40從底電極30至頂電極50順序包括：空穴注入層41、空穴傳輸層42、發(fā)光層43、電子傳輸層44和電子注入層45。應(yīng)當(dāng)說(shuō)明的是，本發(fā)明的發(fā)光組件40并不限于這里描述的結(jié)構(gòu)，其可以是其它合適的任意發(fā)光結(jié)構(gòu)。此外，發(fā)光層43可例如是有機(jī)發(fā)光層或者量子點(diǎn)發(fā)光層，本發(fā)明并不限制于此。

優(yōu)選地，發(fā)光組件40包括的各功能層可以采用噴墨打印的方式形成，而形成各功能層的溶液會(huì)在限定塊20上形成爬坡現(xiàn)象，各功能層的溶液會(huì)在限定塊20上形成的爬坡的尺寸確定所述間隙的尺寸大小。

頂電極50設(shè)置在發(fā)光組件40上。在本實(shí)施例中，頂電極50也與限定塊20之間具有間隔。優(yōu)選地，頂電極50與底電極30在空間上完全重合，但本發(fā)明并不限制于此，例如可以使頂電極50在底電極30上的投影位于底電極30以內(nèi)。這里，頂電極50在底電極30上的投影位于底電極30以內(nèi)包括頂電極50在底電極30上的投影與底電極30完全重合。

頂電極50通常被設(shè)置為陰極。頂電極50也是反光鏡。當(dāng)通過(guò)頂電極50觀察發(fā)光組件40發(fā)光時(shí)，頂電極50可以由反射性金屬制成，并且應(yīng)該足夠薄以便在發(fā)射光的波長(zhǎng)下具有部分透光率，這被稱為是半透明的，或者頂電極50可以由透明的金屬氧化物制成，諸如氧化銦錫或氧化鋅錫等。當(dāng)通過(guò)基板10觀察發(fā)光組件40發(fā)光時(shí)，頂電極50可以由反射性金屬制成，并且應(yīng)該足夠厚，以使其基本上是不透光的且是全反光鏡。

綜上所述，通過(guò)使底電極30和頂電極50與限定塊20之間形成間隙，使形成發(fā)光組件40的各功能層的膜厚不均區(qū)域不處于空間上重疊的底電極30和頂電極50之間，這樣不再有較大電流密度載流子通過(guò)各功能層的膜厚不均區(qū)域，從而不再影響像素的發(fā)光特性。

雖然已經(jīng)參照特定實(shí)施例示出并描述了本發(fā)明，但是本領(lǐng)域的技術(shù)人員將理解：在不脫離由權(quán)利要求及其等同物限定的本發(fā)明的精神和范圍的情況下，可在此進(jìn)行形式和細(xì)節(jié)上的各種變化。