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半導(dǎo)體器件的制作方法

文檔序號:11628249閱讀:來源:國知局

技術(shù)特征:

技術(shù)總結(jié)
本申請涉及半導(dǎo)體器件。實(shí)現(xiàn)了半導(dǎo)體器件的性能的提高。半導(dǎo)體器件包括像素,像素包括:在其中形成傳輸晶體管和光電二極管的第一有源區(qū)域和用于提供接地電勢的第二有源區(qū)域。在第二有源區(qū)域中的p型半導(dǎo)體區(qū)域上方設(shè)置用于提供接地電勢的插塞。在用于第一有源區(qū)域中形成的傳輸晶體管的漏極區(qū)域的n型半導(dǎo)體區(qū)域中引入吸附元素。然而,在第二有源區(qū)域中的p型半導(dǎo)體區(qū)域中沒有引入吸附元素。

技術(shù)研發(fā)人員:神野健;后藤洋太郎
受保護(hù)的技術(shù)使用者:瑞薩電子株式會社
技術(shù)研發(fā)日:2017.01.20
技術(shù)公布日:2017.08.01
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