本發(fā)明關(guān)于一種發(fā)光鍵盤及其發(fā)光按鍵，具體而言，本發(fā)明關(guān)于一種加強(qiáng)發(fā)光均勻性并避免發(fā)光按鍵間光交互影響的發(fā)光鍵盤及其發(fā)光按鍵。

背景技術(shù)：

鍵盤作為電子產(chǎn)品(尤其是電腦)非常重要的輸入裝置，且鍵盤的發(fā)展與使用者的便利性有著相當(dāng)密切的關(guān)系。為了在昏暗的環(huán)境中能順利的操作鍵盤，發(fā)光鍵盤逐漸成為消費(fèi)者的首要選擇。然而，當(dāng)按鍵使用上發(fā)光式發(fā)光二極管作為光源時，因其發(fā)光面積明顯小于鍵帽的字元透光區(qū)，通常使得字元透光區(qū)的發(fā)光均勻性不佳，影響視覺效果。

因此，如何提升發(fā)光按鍵的發(fā)光均勻性為發(fā)光鍵盤的設(shè)計重點之一。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的一目的在于提供一種發(fā)光鍵盤，其具有光學(xué)擴(kuò)散設(shè)計，以加強(qiáng)上發(fā)光式發(fā)光二極管的發(fā)光均勻性，進(jìn)而提升按鍵字元的亮度均勻性。

本發(fā)明的另一目的在于提供一種發(fā)光鍵盤，其具有對應(yīng)每一按鍵的光學(xué)擴(kuò)散機(jī)制，以使光線集中于對應(yīng)按鍵，進(jìn)而避免按鍵間光線交互影響。

本發(fā)明提供一種發(fā)光鍵盤，該發(fā)光鍵盤包含：底板，其沿著平面延伸，該平面平行于X軸和Y軸；光源電路層，其設(shè)置于該底板下方；多個鍵帽，其設(shè)置于該底板上方，每一該鍵帽具有透光區(qū)，且每一該鍵帽可相對于該底板沿著Z軸方向移動，每一該鍵帽垂直向下投影而具有鍵帽投影空間，相鄰兩個鍵帽間隔鍵帽間隙，該X軸、該Y軸和該Z軸互相垂直；多個發(fā)光元件，其設(shè)置于該光源電路層，且每一發(fā)光元件位于對應(yīng)的該鍵帽投影空間內(nèi)，每一該發(fā)光元件具有上發(fā)光面，該上發(fā)光面平行該平面，該上發(fā)光面具有第一面積；以及多個個彼此分開的光學(xué)擴(kuò)散部，相鄰的兩個光學(xué)擴(kuò)散部之間間隔擴(kuò)散部間隙，每個光學(xué)擴(kuò)散部覆蓋于該多個發(fā)光元件其中之一，每一該光學(xué)擴(kuò)散部沿著該平面方向延伸到對應(yīng)的每一該鍵帽的該透光區(qū)的正下方，每一該光學(xué)擴(kuò)散部具有擴(kuò)散上表面，該擴(kuò)散上表面具有一第二面積，該第二面積大于該第一面積，其中，該多個發(fā)光元件的每一上發(fā)光面提供光線至對應(yīng)的該光學(xué)擴(kuò)散部，且對應(yīng)的該光學(xué)擴(kuò)散部使該光線自該第一面積擴(kuò)散到該第二面積，再向上自正上方對應(yīng)的該鍵帽的該透光區(qū)射出；其中，該多個個光學(xué)擴(kuò)散部彼此分開，使該光線進(jìn)入對應(yīng)的該光學(xué)擴(kuò)散部后，需要經(jīng)過該擴(kuò)散部間隙衰減才能傳遞到相鄰的光學(xué)擴(kuò)散部。

作為可選地技術(shù)方案，該多個光學(xué)擴(kuò)散部遍布于對應(yīng)的該鍵帽投影空間平行于該底板的水平范圍且未超過相鄰的該鍵帽間隙。

作為可選地技術(shù)方案，該多個光學(xué)擴(kuò)散部為多個光學(xué)帽蓋或多個光學(xué)膠部。

作為可選地技術(shù)方案，每一該光學(xué)擴(kuò)散部貼覆于對應(yīng)的該上發(fā)光面厚度大于對應(yīng)的該發(fā)光元件于該上發(fā)光面的法線方向的厚度。

作為可選地技術(shù)方案，還包含多個間隔部，其中該多個間隔部分別設(shè)置于對應(yīng)的該擴(kuò)散部間隙中，以防止相鄰的該鍵帽投影空間之間的光學(xué)干擾。

作為可選地技術(shù)方案，還包含連接部，其中該連接部連接該多個光學(xué)擴(kuò)散部以構(gòu)成導(dǎo)光片，該導(dǎo)光片具有多個光萃取單元，該多個光學(xué)萃取單元分別設(shè)置于該多個光學(xué)擴(kuò)散部，且該連接部未設(shè)置該光萃取單元，使該光線不會自該連接部向上射出。

作為可選地技術(shù)方案，每一該光學(xué)擴(kuò)散部包含發(fā)光元件導(dǎo)光區(qū)及周邊導(dǎo)光區(qū)，該發(fā)光元件導(dǎo)光區(qū)位于該上發(fā)光面正上方且該周邊導(dǎo)光區(qū)鄰接該發(fā)光元件導(dǎo)光區(qū)及該連接部，其中，該發(fā)光元件導(dǎo)光區(qū)的該光萃取單元的密度小于該周邊導(dǎo)光區(qū)的該光萃取單元的密度。

作為可選地技術(shù)方案，還包含遮罩層，其中該遮罩層設(shè)置于該多個光學(xué)擴(kuò)散部上方，以局部遮擋該光線。

作為可選地技術(shù)方案，還包含間隔層，該間隔層設(shè)置于該遮罩層及該光源電路層之間，該間隔層具有多個間隔層開口，該多個間隔層開口以分別對應(yīng)該多個鍵帽，且每一間隔層開口供容置對應(yīng)相同鍵帽的該發(fā)光元件及該光學(xué)擴(kuò)散部。

作為可選地技術(shù)方案，該間隔層為雙面膠層。

作為可選地技術(shù)方案，還包含多個彈性元件，該多個彈性元件設(shè)置于該底板上，且該多個彈性元件分別位于對應(yīng)的每一該鍵帽投影空間中，每一該發(fā)光元件位于對應(yīng)的該彈性元件的正下方。

本發(fā)明還提供一種發(fā)光按鍵，該發(fā)光按鍵包含：底板；光源電路層，其設(shè)置于該底板下方；鍵帽，其設(shè)置于該底板上方，該鍵帽具有透光區(qū)，且該鍵帽可相對于該底板移動，該鍵帽垂直向下投影而具有鍵帽投影空間；發(fā)光元件，其設(shè)置于該光源電路層且位于該鍵帽投影空間內(nèi)；以及光學(xué)擴(kuò)散部，其覆蓋于該發(fā)光元件，且遍布于該鍵帽投影空間平行于該底板的水平范圍，其中，該發(fā)光元件提供光線至該光學(xué)擴(kuò)散部，且該光學(xué)擴(kuò)散部藉由折射、反射使該光線擴(kuò)散于該鍵帽投影空間，并自該鍵帽的該透光區(qū)射出。

作為可選地技術(shù)方案，該發(fā)光元件具有上發(fā)光面，且該光學(xué)擴(kuò)散部貼覆于該上發(fā)光面的厚度系大于該發(fā)光元件于該上發(fā)光面的法線方向的厚度。

作為可選地技術(shù)方案，該光學(xué)擴(kuò)散部為導(dǎo)光片，該導(dǎo)光片包含導(dǎo)光區(qū)，該導(dǎo)光區(qū)位于該鍵帽投影空間內(nèi)且具有多個光萃取單元，該導(dǎo)光區(qū)包含發(fā)光元件導(dǎo)光區(qū)及周邊導(dǎo)光區(qū)，該發(fā)光元件具有上發(fā)光面，該發(fā)光元件導(dǎo)光區(qū)位于該上發(fā)光面正上方，且該周邊導(dǎo)光區(qū)鄰接該發(fā)光元件導(dǎo)光區(qū)，該發(fā)光元件導(dǎo)光區(qū)的該光萃取單元的密度小于該周邊導(dǎo)光區(qū)的該光萃取單元的密度。

作為可選地技術(shù)方案，還包含遮罩層，該遮罩層設(shè)置于該光學(xué)擴(kuò)散部上方，以局部遮擋該光線。

本發(fā)明還提供一種發(fā)光鍵盤，該發(fā)光鍵盤包含：底板，其沿著平面延伸，該平面平行于X軸和Y軸；光源電路層，其設(shè)置于該底板下方；第一鍵帽，其設(shè)置于該底板上方，該第一鍵帽具有第一透光區(qū)，該第一鍵帽可相對于該底板沿著Z軸方向移動，該第一鍵帽垂直向下投影而具有第一鍵帽投影空間，該X軸、該Y軸和該Z軸互相垂直；第二鍵帽，其設(shè)置于該底板上方，該第二鍵帽具有第二透光區(qū)，該第二鍵帽可相對于該底板沿著該Z軸方向移動，該第二鍵帽垂直向下投影而具有第二鍵帽投影空間，該第一鍵帽與該第二鍵帽間隔著鍵帽間隙；第一發(fā)光元件，其設(shè)置于該光源電路層且位于該第一鍵帽投影空間內(nèi)，該第一發(fā)光元件具有第一上發(fā)光面，該第一上發(fā)光面具有第一面積；第二發(fā)光元件，其設(shè)置于該光源電路層且位于該第二鍵帽投影空間內(nèi)，該第二發(fā)光元件具有第二上發(fā)光面，該第二上發(fā)光面具有第三面積；第一光學(xué)擴(kuò)散部，該第一光學(xué)擴(kuò)散部覆蓋于該第一發(fā)光元件，該第一光學(xué)擴(kuò)散部沿著該平面方向延伸到該第一透光區(qū)的正下方，該第一光學(xué)擴(kuò)散部具有第一擴(kuò)散上表面，該第一擴(kuò)散上表面具有第二面積，該第二面積大于該第一面積；以及第二光學(xué)擴(kuò)散部，該第二光學(xué)擴(kuò)散部覆蓋于該第二發(fā)光元件，該第二光學(xué)擴(kuò)散部沿著該平面方向延伸到該第二透光區(qū)的正下方，該第二光學(xué)擴(kuò)散部具有第二擴(kuò)散上表面，該第二擴(kuò)散上表面具有第四面積，該第四面積大于該第三面積；其中，該第一光學(xué)擴(kuò)散部與該第二光學(xué)擴(kuò)散部彼此分開，且間隔擴(kuò)散部間隙；其中，該第一發(fā)光元件提供光線至該第一光學(xué)擴(kuò)散部，且該第一光學(xué)擴(kuò)散部使該光線自該第一面積擴(kuò)散到該第二面積，再向上自正上方對應(yīng)的該第一透光區(qū)射出；其中該第二發(fā)光元件提供光線至該第二光學(xué)擴(kuò)散部，且該第二光學(xué)擴(kuò)散部使該光線自該第三面積大小擴(kuò)散到該第四面積大小，再向上自正上方對應(yīng)的該第二透光區(qū)射出；其中該第一發(fā)光元件所提供光線進(jìn)入該第一光學(xué)擴(kuò)散部后，需要經(jīng)過該擴(kuò)散部間隙衰減后才能傳遞到相鄰的該第二光學(xué)擴(kuò)散部。

本發(fā)明還提供一種發(fā)光鍵盤，該發(fā)光鍵盤包含：底板，沿著平面延伸，該平面平行于X軸和Y軸；光源電路層，其設(shè)置于該底板下方；多個鍵帽，其設(shè)置于該底板上方，每一該鍵帽具有透光區(qū)，且每一該鍵帽可相對于該底板沿著Z軸方向移動，每一該鍵帽垂直向下投影而具有鍵帽投影空間，相鄰兩個鍵帽間隔著鍵帽間隙，該X軸、該Y軸和該Z軸互相垂直；多個發(fā)光元件，其設(shè)置于該光源電路層，且每一發(fā)光元件位于對應(yīng)的該鍵帽投影空間內(nèi)，每一該發(fā)光元件具有上發(fā)光面，該上發(fā)光面平行該平面；光學(xué)擴(kuò)散膠層，其涂覆于該光源電路層上且覆蓋該多個發(fā)光元件，該光學(xué)擴(kuò)散膠層沿著該平面方向延伸到每一該鍵帽的該透光區(qū)的正下方；以及遮罩層，其設(shè)置于該光學(xué)擴(kuò)散膠層上方，其中，該多個發(fā)光元件的每一上發(fā)光面提供光線以通過該光學(xué)擴(kuò)散膠層的擴(kuò)散自正上方對應(yīng)的該鍵帽的透光區(qū)射出，且該遮罩層局部遮擋該光線以避免該光線進(jìn)入該鍵帽間隙。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的發(fā)光鍵盤藉由光學(xué)擴(kuò)散部加強(qiáng)上發(fā)光式發(fā)光二極管的發(fā)光均勻性，進(jìn)而提升按鍵字元的亮度均勻性。再者，本發(fā)明的發(fā)光鍵盤具有對應(yīng)各按鍵的光學(xué)擴(kuò)散機(jī)制，以使光線集中于對應(yīng)按鍵，進(jìn)而避免按鍵之間光線交互影響。

附圖說明

圖1為本發(fā)明一實施例的發(fā)光鍵盤的示意圖。

圖2A為本發(fā)明一實施例的發(fā)光鍵盤的爆炸圖。

圖2B為本發(fā)明一實施例的發(fā)光鍵盤的截面示意圖。

圖2C為圖2B的局部放大示意圖。

圖3A及圖3B為圖2A的發(fā)光鍵盤變化實施例的截面示意圖。

圖4A本發(fā)明一實施例的發(fā)光鍵盤的發(fā)光單元的爆炸圖。

圖4B為本發(fā)明一實施例的發(fā)光鍵盤的發(fā)光單元的俯視圖。

圖4C為本發(fā)明一實施例的發(fā)光鍵盤的發(fā)光單元的截面示意圖。

圖5A為本發(fā)明另一實施例的發(fā)光鍵盤的爆炸圖。

圖5B為本發(fā)明另一實施例的發(fā)光鍵盤的截面示意圖。

圖6A為本發(fā)明一實施例的發(fā)光鍵盤的爆炸圖

圖6B分別為本發(fā)明一實施例的發(fā)光鍵盤的截面示意圖。

圖6C為圖6B的局部放大示意圖。

圖7為圖6A的發(fā)光鍵盤變化實施例的截面示意圖。

具體實施方式

本發(fā)明提供一種發(fā)光鍵盤及其發(fā)光按鍵，尤其是一種具有上發(fā)光式發(fā)光元件及光學(xué)擴(kuò)散設(shè)計，以加強(qiáng)發(fā)光均勻性并避免發(fā)光按鍵間光線交互影響的發(fā)光鍵盤及其發(fā)光按鍵。具體而言，本發(fā)明的發(fā)光鍵盤可為任何具有發(fā)光按鍵的獨(dú)立鍵盤裝置或整合于電子產(chǎn)品的發(fā)光鍵盤，例如行動裝置、平板電腦等配備之按鍵或鍵盤等，但不以此為限。于后以電腦鍵盤為例，參考圖式詳細(xì)說明本發(fā)明實施例的發(fā)光鍵盤及其發(fā)光按鍵的細(xì)節(jié)。

如圖1所示，本發(fā)明的發(fā)光鍵盤1包含多個發(fā)光按鍵100，其中多個發(fā)光按鍵100可整合成按鍵模組10以利于組裝制造。具體而言，多個發(fā)光按鍵100的電路層及底板等較佳整合成單一部件，例如多個發(fā)光按鍵100的按鍵開關(guān)可設(shè)計在同一電路層上，或共用同一底板，以簡化發(fā)光鍵盤1的制造及組裝。發(fā)光鍵盤1更可包含框架200，其中框架200可具有網(wǎng)格結(jié)構(gòu)202與多個個框架開孔204。多個框架開孔204分別對應(yīng)多個個發(fā)光按鍵100，以界定出多個個發(fā)光按鍵100，使得每一發(fā)光按鍵100的鍵帽位于對應(yīng)的多個個框架開孔204其中之一。網(wǎng)格結(jié)構(gòu)202位于相鄰框架開孔204之間，且分隔相鄰的發(fā)光按鍵100。于后雖以兩個相鄰的發(fā)光按鍵100a、100b說明發(fā)光鍵盤的設(shè)計，但不以此為限。

如圖2A及圖2B所示，于一實施例，發(fā)光鍵盤包含底板120、光源電路層150、多個鍵帽例如第一鍵帽110a及第二鍵帽110b、多個發(fā)光元件例如第一發(fā)光元件180a及第二發(fā)光元件180b及多個光學(xué)擴(kuò)散部例如第一光學(xué)擴(kuò)散部170a及第二光學(xué)擴(kuò)散部170b。再者，發(fā)光鍵盤可更包含開關(guān)電路層140、多個升降機(jī)構(gòu)例如第一升降機(jī)構(gòu)130a及第二升降機(jī)構(gòu)130b及多個回復(fù)單元例如第一回復(fù)單元160a及第二回復(fù)單元160b。

具體而言，底板120設(shè)置于第一鍵帽110a與第二鍵帽110b下方，且沿著一平面延伸，上述平面平行于X軸和Y軸。亦即，底板120沿X Y平面延伸。再者，底板120具有多個透光孔例如第一透光孔128a及第二透光孔128b，供多個發(fā)光元件例如第一發(fā)光元件180a及第二發(fā)光元件180b的光線通過對應(yīng)的第一透光孔128a與第二透光孔128b，以自對應(yīng)的第一透光區(qū)116a及第二透光區(qū)116b射出。第一升降機(jī)構(gòu)130a的兩端分別可活動地連接第一鍵帽110a及底板120，以支撐第一鍵帽110a相對于底板120移動；第二升降機(jī)構(gòu)130b的兩端分別可活動地連接第二鍵帽110b及底板120，以支撐第二鍵帽110b相對于底板120移動。亦即，第一升降機(jī)構(gòu)130a與第二升降機(jī)構(gòu)130b可分別支撐第一鍵帽110a及第二鍵帽110b相對于底板120沿著Z軸方向移動，其中X軸、Y軸和Z軸互相垂直。第一升降機(jī)構(gòu)130a及第二升降機(jī)構(gòu)130b結(jié)構(gòu)相同，可為分別包含第一支架132及第二支架134樞接的剪刀式升降機(jī)構(gòu)，但不以此為限。底板120具有連結(jié)機(jī)構(gòu)122a、124a、122b、124b，連結(jié)機(jī)構(gòu)122a、124a、122b、124b例如向上彎折的卡勾，以分別耦接第一升降機(jī)構(gòu)130a及第二升降機(jī)構(gòu)130b的下端。對應(yīng)地，第一鍵帽110a及第二鍵帽110b分別具有耦接機(jī)構(gòu)例如軸孔、滑槽，以耦接第一升降機(jī)構(gòu)130a與第二升降機(jī)構(gòu)130b的上端。換言之，第一升降機(jī)構(gòu)130a與第二升降機(jī)構(gòu)130b分別設(shè)置于第一鍵帽110a與第二鍵帽110b的下方，且第一鍵帽110a與第二鍵帽110b的耦接機(jī)構(gòu)分別可轉(zhuǎn)動及可滑動地耦接對應(yīng)第一升降機(jī)構(gòu)130a及第二升降機(jī)構(gòu)130b的第一支架132及第二支架134的上端，而底板120的連結(jié)機(jī)構(gòu)122a、124a、122b、124b分別可滑動及可轉(zhuǎn)動地耦接對應(yīng)的第一升降機(jī)構(gòu)130a與第二升降機(jī)構(gòu)130b的第一支架132及第二支架134的下端，以支撐鍵帽110a、110b相對于底板120移動。

第一回復(fù)單元160a及第二回復(fù)單元160b分別提供第一鍵帽110a及第二鍵帽110b被按壓后回復(fù)到按壓前位置的回復(fù)力。依據(jù)設(shè)計需求，第一回復(fù)單元160a及第二回復(fù)單元160b包括彈性元件例如彈簧或彈性體，或磁性單元，以使得第一鍵帽110a及第二鍵帽110b可藉由彈力或磁力回復(fù)到按壓前的位置。于此實施例，第一回復(fù)單元160a與第二回復(fù)單元160b以彈性元件例如彈性體進(jìn)行說明，且設(shè)置于底板120及分別對應(yīng)的第一鍵帽110a及第二鍵帽110b之間。于其他實施例，回復(fù)單元可實施為磁性單元(未繪示)，以藉由磁吸力或磁斥力使得鍵帽回復(fù)到按壓前的位置。舉例而言，可藉由分別設(shè)置于第一鍵帽110a、第二鍵帽110b及底板120之間的一對極性相斥的磁性組件取代彈性體，以藉由磁斥力使得第一鍵帽110a、第二鍵帽110b回復(fù)到按壓前的位置。于另一實施例，可藉由分別設(shè)置于框架200及第一鍵帽110a、第二鍵帽110b的一對極性相吸的磁性組件(未繪示)取代彈性體，以藉由磁吸力使得第一鍵帽110a、第二鍵帽110b回復(fù)到按壓前的位置。在此需注意，藉由磁性單元作為回復(fù)單元以提供回復(fù)力時，磁性單元的設(shè)置位置可依據(jù)實際需求變化，且可與按鍵的其他元件配合或整合，以達(dá)到提供回復(fù)力的作用，不以實施例所示為限。在此需注意，于圖2B中，為清楚說明本發(fā)明，并未繪示出第一回復(fù)單元160a及第二回復(fù)單元160b。

開關(guān)電路層140設(shè)置于底板120上方，且開關(guān)電路層140具有多個通孔142a、144a、142b、144b及多個開關(guān)單元例如第一開關(guān)單元148a及第二開關(guān)單元148b。多個通孔142a、144a、142b、144b對應(yīng)底板120的連結(jié)機(jī)構(gòu)122a、124a、122b、124b，以容許連結(jié)機(jī)構(gòu)122a、124a、122b、124b穿過對應(yīng)的通孔142a、144a、142b、144b連接第一升降機(jī)構(gòu)130a及第二升降結(jié)構(gòu)130b的下端。多個鍵帽例如第一鍵帽110a與第二鍵帽110b設(shè)置于開關(guān)電路層140上方且分別對應(yīng)第一開關(guān)單元148a及第二開關(guān)單元148b。第一鍵帽110a及第二鍵帽110b可分別相對于底板120移動以觸發(fā)對應(yīng)的第一開關(guān)單元148a及第二開關(guān)單元148b。具體而言，開關(guān)電路層140較佳為薄膜開關(guān)電路層，且具有彼此相鄰的第一開關(guān)單元148a及第二開關(guān)單元148b，其中第一開關(guān)單元148a及第二開關(guān)單元148b較佳實施為開關(guān)電路。第一鍵帽110a設(shè)置于第一開關(guān)單元148a上方，且第一鍵帽110a可藉由第一升降機(jī)構(gòu)130a的支撐而相對于底板120移動，如此第一鍵帽110a可觸發(fā)第一開關(guān)單元148a。第二鍵帽110b設(shè)置于第二開關(guān)單元148b上方，且第二鍵帽110b可藉由第二升降機(jī)構(gòu)130b的支撐而相對于底板120移動，如此第二鍵帽110b可觸發(fā)第二開關(guān)單元148b。

第一鍵帽110a具有第一透光區(qū)116a，第二鍵帽110b具有第二透光區(qū)116b，且第一鍵帽110a與第二鍵帽110b實質(zhì)垂直向下投影而分別具有第一鍵帽投影空間S1、第二鍵帽投影空間S2，相鄰第一鍵帽110a與第二鍵帽110b間隔著鍵帽間隙G1。具體而言，第一鍵帽110a具有第一透光區(qū)116a，且第一鍵帽110a實質(zhì)垂直投影而定義出第一鍵帽投影空間S1。第二鍵帽110b具有第二透光區(qū)116b，且第二鍵帽110b實質(zhì)垂直投影而定義出第二鍵帽投影空間S2，其中鍵帽投影空間S1、S2較佳為分別自各鍵帽110a、110b外緣垂直向下朝底板120投影所定義出的空間。第一鍵帽110a和第二鍵帽110b間隔著的鍵帽間隙G1是指第一鍵帽110a與第二鍵帽110b相鄰?fù)饩壷g的距離。

光源電路層150設(shè)置于底板120下方，光源電路層150上設(shè)置有多個個發(fā)光元件例如第一發(fā)光元件180a及第二發(fā)光元件180b。舉例而言，光源電路層150較佳實施為薄膜電路層，且具有可獨(dú)立連接第一發(fā)光元件180a、第二發(fā)光元件180b的光源電路，而第一發(fā)光元件180a、第二發(fā)光元件180b較佳實施為上發(fā)光式發(fā)光二極管，且每個發(fā)光元件180a、180b可發(fā)射單一顏色或不同顏色的光線。再者，發(fā)光鍵盤更包含控制單元，通過連接至第一發(fā)光元件180a、第二發(fā)光元件180b的光源電路，控制單元可以分別控制多個發(fā)光元件例如第一發(fā)光元件180a及第二發(fā)光元件180b。如此可依據(jù)使用需求，使得第一發(fā)光元件180a及第二發(fā)光元件180b發(fā)出相同顏色或不同顏色的光線，或發(fā)出具有相同或不同發(fā)光強(qiáng)度的光線，以達(dá)到發(fā)光鍵盤整體發(fā)光或局部發(fā)光的背光效果。

第一發(fā)光元件180a及第二發(fā)光元件180b較佳位于對應(yīng)的鍵帽形成的鍵帽投影空間例如第一鍵帽投影空間S1及第二鍵帽投影空間S2內(nèi)且第一發(fā)光元件180a及第二發(fā)光元件180b分別具有上第一發(fā)光面182a及第二發(fā)光面182b。舉例而言，第一發(fā)光元件180a設(shè)置于光源電路層150且電連接對應(yīng)的光源電路，并位于第一鍵帽投影空間S1內(nèi)，且較佳位于作為第一回復(fù)單元160a的彈性元件的正下方。第一發(fā)光元件180a具有第一上發(fā)光面182a，且第一上發(fā)光面182a具有第一面積。第二發(fā)光元件180b設(shè)置于光源電路層150且電連接對應(yīng)的光源電路，并位于第二鍵帽投影空間S2內(nèi)，且較佳位于作為第二回復(fù)單元160b的彈性元件的正下方。第二發(fā)光元件180b具有第二上發(fā)光面182b，且第二上發(fā)光面182b具有第三面積。于此實施例，第一上發(fā)光面182a及第二上發(fā)光面182b實質(zhì)平行于XY平面，且較佳具有實質(zhì)相等的面積，即第一面積等于第三面積，但不以此為限。依據(jù)各按鍵尺寸例如鍵帽的大小，第一上發(fā)光面182a及第二上發(fā)光面182b可具有不同的面積。

多個光學(xué)擴(kuò)散部例如第一光學(xué)擴(kuò)散部170a及第二光學(xué)擴(kuò)散部170b彼此分開地設(shè)置，且相鄰的第一光學(xué)擴(kuò)散部170a及第二光學(xué)擴(kuò)散部170b之間會間隔擴(kuò)散部間隙G2。第一光學(xué)擴(kuò)散部170a及第二光學(xué)擴(kuò)散部170b分別覆蓋于對應(yīng)的第一發(fā)光元件180a及第二發(fā)光元件180b上。第一光學(xué)擴(kuò)散部170a及第二光學(xué)擴(kuò)散部170b沿著XY平面方向延伸到對應(yīng)的第一鍵帽110a的第一透光區(qū)116a及第二鍵帽110b的第二透光區(qū)116b的正下方。亦即，第一透光區(qū)116a及第二透光區(qū)116b在XY平面的投影較佳分別落在對應(yīng)的第一光學(xué)擴(kuò)散部170a及第二光學(xué)擴(kuò)散部170b在XY平面的投影范圍內(nèi)。第一光學(xué)擴(kuò)散部170a及第二光學(xué)擴(kuò)散部170b分別具有第一擴(kuò)散上表面172a及第二擴(kuò)散上表面172b，且第一擴(kuò)散上表面172a及第二擴(kuò)散上表面172b分別大于對應(yīng)的上第一發(fā)光面182a及第二發(fā)光面182b。具體而言，第一光學(xué)擴(kuò)散部170a覆蓋于第一發(fā)光元件180a，且第一光學(xué)擴(kuò)散部170a沿著XY平面方向延伸到第一透光區(qū)116a的正下方。第一光學(xué)擴(kuò)散部170a具有第一擴(kuò)散上表面172a，第一擴(kuò)散上表面172a具有第二面積，且第一擴(kuò)散上表面172a的面積大于第一上發(fā)光面182a的面積，即第二面積大于第一面積。第二光學(xué)擴(kuò)散部170b覆蓋于第二發(fā)光元件180b，且第二光學(xué)擴(kuò)散部170b沿著XY平面方向延伸到第二透光區(qū)116b的正下方。第二光學(xué)擴(kuò)散部170b具有第二擴(kuò)散上表面172b，第二擴(kuò)散上表面172b具有第四面積，且第二擴(kuò)散上表面172b的面積大于第二上發(fā)光面182b的面積，即第四面積大于第三面積。在此需注意，于本發(fā)明中所述的“面積”一般是指于XY平面的投影區(qū)域的面積，亦即第一上發(fā)光面182a及第二上發(fā)光面182b或第一光學(xué)擴(kuò)散部170a及第二光學(xué)擴(kuò)散部170b平行于XY平面延伸的區(qū)域面積。

于一實施例，多個光學(xué)擴(kuò)散部例如第一光學(xué)擴(kuò)散部170a及第二光學(xué)擴(kuò)散部170b實質(zhì)遍布于對應(yīng)的第一鍵帽投影空間S1與第二鍵帽投影空間S2平行于底板120的水平范圍，即第一鍵帽投影空間S1與第二鍵帽投影空間S2于XY平面的范圍，且未超過相鄰的鍵帽間隙G1。換言之，擴(kuò)散部間隙G2較佳實質(zhì)等于或大于鍵帽間隙G1，而可將光線分別均勻擴(kuò)散至對應(yīng)的第一鍵帽投影空間S1與第二鍵帽投影空間S2且避免與相鄰第一鍵帽投影空間S1與第二鍵帽投影空間S2中的光線交互影響，但不以此為限。具體而言，多個光學(xué)擴(kuò)散部例如第一光學(xué)擴(kuò)散部170a及第二光學(xué)擴(kuò)散部170b較佳實質(zhì)位于對應(yīng)第一鍵帽投影空間S1及第二鍵帽投影空間S2之中，且不排除略為超出第一鍵帽投影空間S1與第二鍵帽投影空間S2，只要超出第一鍵帽投影空間S1及第二鍵帽投影空間S2的部分第一光學(xué)擴(kuò)散部170a及第二光學(xué)擴(kuò)散部170b不會對相鄰的第一鍵帽投影空間S1與第二鍵帽投影空間S2造成可視覺察覺的光學(xué)干擾。

多個發(fā)光元件例如第一發(fā)光元件180a及第二發(fā)光元件180b，第一發(fā)光元件180a的第一上發(fā)光面182a及第二發(fā)光元件180b的第二上發(fā)光面182b分別提供光線至對應(yīng)的第一光學(xué)擴(kuò)散部170a及第二光學(xué)擴(kuò)散部170b，且第一光學(xué)擴(kuò)散部170a使光線自第一面積大小擴(kuò)散到第二面積大小，第二光學(xué)擴(kuò)散部170b使光線自第三面積大小擴(kuò)散到第四面積大小，再向上通過底板120上對應(yīng)的第一透光孔128a及第二透光孔128b而自正上方對應(yīng)的第一鍵帽110a的第一透光區(qū)116a及第二鍵帽110b的第二透光區(qū)116b射出。具體而言，第一發(fā)光元件180a提供光線至第一光學(xué)擴(kuò)散部170a，且第一光學(xué)擴(kuò)散部170a使光線自第一面積大小擴(kuò)散到第二面積大小，再向上自正上方對應(yīng)的第一透光區(qū)116a射出。第二發(fā)光元件180b提供光線至第二光學(xué)擴(kuò)散部170b，第二光學(xué)擴(kuò)散部170b使光線自第三面積大小擴(kuò)散到第四面積大小，再向上自正上方對應(yīng)的第二透光區(qū)116b射出。換言之，第一光學(xué)擴(kuò)散部170a及第二光學(xué)擴(kuò)散部170b使得光線分別自第一上發(fā)光面182a及第二上發(fā)光面182b的相對小面積擴(kuò)散至對應(yīng)的第一透光區(qū)116a及第二透光區(qū)116b的相對較大面積，以增進(jìn)光線自第一透光區(qū)116a及第二透光區(qū)116b射出的均勻性。再者，由于多個個光學(xué)擴(kuò)散部例如第一光學(xué)擴(kuò)散部170a與第二光學(xué)擴(kuò)散部170b彼此分開，使光線分別進(jìn)入對應(yīng)第一光學(xué)擴(kuò)散部170a與第二光學(xué)擴(kuò)散部170b后，需要經(jīng)過擴(kuò)散部間隙G2衰減才能傳遞到相鄰的第一光學(xué)擴(kuò)散部170b及第一光學(xué)擴(kuò)散部170a。具體來說，例如第一發(fā)光元件180a所提供光線進(jìn)入第一光學(xué)擴(kuò)散部170a后，需要經(jīng)過擴(kuò)散部間隙G2衰減后才能傳遞到相鄰的第二光學(xué)擴(kuò)散部170b；或者是第二發(fā)光元件180b所提供光線進(jìn)入第二光學(xué)擴(kuò)散部170b后，需要經(jīng)過擴(kuò)散部間隙G2衰減后才能傳遞到相鄰的第一光學(xué)擴(kuò)散部170a。藉此，可降低第一發(fā)光元件180a發(fā)射的光線行進(jìn)至相鄰的第二鍵帽投影空間S2的可能性；反之，亦可降低第二發(fā)光元件180b發(fā)射的光線行進(jìn)至相鄰的第一鍵帽投影空間S1的可能性。

具體而言，多個光學(xué)擴(kuò)散部例如第一光學(xué)擴(kuò)散部170a及第二光學(xué)擴(kuò)散部170b可為分開設(shè)置的多個光學(xué)膠部或多個光學(xué)帽蓋，但不以此為限。舉例而言，于一實施例，第一發(fā)光元件180a、第二發(fā)光元件180b設(shè)置于光源電路層150后，可使用點膠程序?qū)⒐鈱W(xué)膠分別覆蓋于對應(yīng)的第一發(fā)光元件180a、第二發(fā)光元件180b，以作為對應(yīng)的第一光學(xué)擴(kuò)散部170a及第一光學(xué)擴(kuò)散部170b。于另一實施例，可依據(jù)第一鍵帽投影空間S1及第二鍵帽投影空間S2平行于XY平面的面積大小及第一發(fā)光元件180a及第二發(fā)光元件180b的尺寸，預(yù)先以光學(xué)材料制作對應(yīng)尺寸的光學(xué)帽蓋，再于第一發(fā)光元件180a及第二發(fā)光元件180b設(shè)置于光源電路層150后，將光學(xué)帽蓋貼覆至對應(yīng)的第一發(fā)光元件180a及第二發(fā)光元件180b，以作為對應(yīng)的第一光學(xué)擴(kuò)散部170a及第二光學(xué)擴(kuò)散部170b。第一光學(xué)擴(kuò)散部170a及第二光學(xué)擴(kuò)散部170b可為藉由折射、反射使光線擴(kuò)散的任何適當(dāng)材料制成。再者，第一光學(xué)擴(kuò)散部170a及第二光學(xué)擴(kuò)散部170b分別覆蓋于對應(yīng)于第一發(fā)光元件180a及第二發(fā)光元件180b時，第一光學(xué)擴(kuò)散部170a及第二光學(xué)擴(kuò)散部170b的底面較佳緊密貼附在對應(yīng)的第一發(fā)光元件180a的第一上發(fā)光面182a，以及第二發(fā)光元件180b的第二上發(fā)光面182b及側(cè)表面。于一實施例，如圖2C所示，以第一光學(xué)擴(kuò)散部170a為例，第一光學(xué)擴(kuò)散部170a貼覆于對應(yīng)的第一上發(fā)光面182a最大厚度d1大于對應(yīng)的第一發(fā)光元件180a于第一上發(fā)光面182a的法線方向的厚度d2，以達(dá)到較佳的擴(kuò)散效果。其中，于第一上發(fā)光面182a的法線方向上，第一光學(xué)擴(kuò)散部170a到第一上發(fā)光面182a之間的距離為最大厚度d1。換言之，當(dāng)?shù)谝还鈱W(xué)擴(kuò)散部170a及第二光學(xué)擴(kuò)散部170b分別覆蓋于對應(yīng)的第一發(fā)光元件180a及第二發(fā)光元件180b后，第一光學(xué)擴(kuò)散部170a及第二光學(xué)擴(kuò)散部170b及對應(yīng)的第一發(fā)光元件180a及第二發(fā)光元件180b的最大疊合厚度大于或等于第一發(fā)光元件180a及第二發(fā)光元件180b的2倍厚度。

如圖3A所示，于一實施例，發(fā)光鍵盤更包含多個間隔部210，其中多個間隔部210設(shè)置于對應(yīng)的擴(kuò)散部間隙G2中，以防止相鄰的第一鍵帽投影空間S1與第二鍵帽投影空間S2之間的光學(xué)干擾。舉例而言，多個間隔部210可由阻光材料所形成，且設(shè)置于相鄰的第一光學(xué)擴(kuò)散部170a與第二光學(xué)擴(kuò)散部170b之間，以阻擋第一發(fā)光元件180a經(jīng)第一光學(xué)擴(kuò)散部170a擴(kuò)散的光線進(jìn)入第二鍵帽投影空間S2，亦阻擋第二發(fā)光元件180b經(jīng)第二光學(xué)擴(kuò)散部170b擴(kuò)散的光線進(jìn)入第一鍵帽投影空間S1。

如圖3B所示，于一實施例，發(fā)光鍵盤更包含遮罩層220，其中遮罩層220設(shè)置于多個光學(xué)擴(kuò)散部例如第一光學(xué)擴(kuò)散部170a與第二光學(xué)擴(kuò)散部170b上方，以局部遮擋光線。遮罩層220具有遮光圖案以選擇性局部阻擋光線或讓光線通過。具體而言，遮罩層220為可透光的光學(xué)膜片且膜片上具有圖案設(shè)計，用以遮蔽鍵盤裝置不需要光線的部分。舉例而言，遮罩層220可具有對應(yīng)多個按鍵矩形外周緣的矩形環(huán)圖案，使得相鄰按鍵間的空隙例如鍵帽間隙G1被遮罩擋住而降低鍵帽間隙G1漏光強(qiáng)度，而對應(yīng)多個按鍵透光區(qū)例如第一透光區(qū)116a與第二透光區(qū)116b的位置，則遮罩層220保持透明而可容許光線通過，以使光線可自第一鍵帽110a的透光區(qū)116a及第二鍵帽110b的第二透光區(qū)116b射出。

在此需注意，于前述實施例中，多個間隔部210可獨(dú)立地設(shè)置于第一光學(xué)擴(kuò)散部170a與第二光學(xué)擴(kuò)散部170b之間，但不以此為限。于其他實施例，多個間隔部210可整合為單一間隔層，以簡化組裝程序及制造成本。于后說明包含單一間隔層所組成的發(fā)光單元。如圖4A至圖4C所示，發(fā)光單元30包含光源電路層300、多個發(fā)光元件310、多個光學(xué)擴(kuò)散部320、間隔層330及遮罩層340，其中多個發(fā)光元件310設(shè)置于光源電路層300且分別電連接光源電路層300的對應(yīng)光源電路；多個光學(xué)擴(kuò)散部320藉由例如點膠、粘著等方式彼此分開設(shè)置于光源電路層300，且每一光學(xué)擴(kuò)散部320較佳對應(yīng)貼覆對應(yīng)多個發(fā)光元件310其中之一的上發(fā)光面，例如可參考上述圖2A實施例的第一光學(xué)擴(kuò)散部170a及第二光學(xué)擴(kuò)散部170b的相關(guān)說明。類似于前述實施例的遮罩層220，遮罩層340可具有對應(yīng)多個按鍵配置的遮光圖案，例如透光部342對應(yīng)鍵帽中央透光區(qū)，而遮光部344對應(yīng)鍵帽矩形外周緣，使得相鄰按鍵之間的空隙被遮罩住不讓光線通過，而對應(yīng)多個按鍵透光區(qū)的位置可容許光線通過。間隔層330設(shè)置于遮罩層340及光源電路層150之間，且間隔層330具有多個間隔層開口332以分別容置對應(yīng)相同鍵帽的光學(xué)擴(kuò)散部320及發(fā)光元件310。

具體而言，間隔層開口332較佳大于遮罩層340的透光部342，使得遮罩層340的遮光部344可覆蓋于光學(xué)擴(kuò)散部320的外緣或光學(xué)擴(kuò)散部320間的擴(kuò)散部間隙G2，以阻擋光學(xué)擴(kuò)散部320進(jìn)入擴(kuò)散部間隙的向上行進(jìn)光線。遮罩層340之透光部342的大小及形狀較佳對應(yīng)光學(xué)擴(kuò)散部320，以容許光學(xué)擴(kuò)散部320之?dāng)U散上表面發(fā)出的光線通過對應(yīng)透光部342進(jìn)入對應(yīng)的鍵帽投影空間，進(jìn)而自對應(yīng)鍵帽之透光區(qū)射出。再者，如圖4C所示，遮罩層340之透光部342的大小亦可略小于光學(xué)擴(kuò)散部320，使得遮光部344覆蓋于光學(xué)擴(kuò)散部320的外緣，以防止光學(xué)擴(kuò)散部320之?dāng)U散上表面發(fā)出的光線進(jìn)入對應(yīng)的鍵帽投影空間。間隔層330較佳為雙面膠層，尤其是深色雙面膠層，藉此可有效吸收光學(xué)擴(kuò)散部320擴(kuò)散后的水平方向行進(jìn)光線，并可粘著遮罩層340及光源電路層150，以簡化發(fā)光單元30的組裝程序。當(dāng)發(fā)光單元30與前述的按鍵單元組合成按鍵模組10時，發(fā)光單元30可藉由粘著、卡合、鎖固等方式固定于底板120下方。藉由間隔層330的本體結(jié)構(gòu)系延伸進(jìn)入擴(kuò)散部間隙G2中，可限制光學(xué)擴(kuò)散部320擴(kuò)散后的光線僅在對應(yīng)間隔層開口322中行進(jìn)，而無法行進(jìn)到相鄰鍵帽下方。

在此需注意，可在間隔層330設(shè)置于光源電路層150上后，利用間隔層開口322界定光學(xué)擴(kuò)散部320的范圍，而無須額外輔助即可方便地使多個光學(xué)擴(kuò)散部320形成于適當(dāng)?shù)奈恢?，但不以此為限?/p>

再者，配合遮罩層220(如圖5A所示)的應(yīng)用，前述分開的多個第一光學(xué)擴(kuò)散部170a、第二光學(xué)擴(kuò)散部170b可整合成單一光學(xué)擴(kuò)散膠層，以在簡化制造程序的情況下亦能達(dá)到防止相鄰按鍵的光學(xué)交互影響。于一實施例，如圖5A及圖5B所示，發(fā)光鍵盤包含底板120、光源電路層150、多個鍵帽110a、110b、多個發(fā)光元件180a、180b、光學(xué)擴(kuò)散膠層410及遮罩層220，其中底板120、光源電路層150、多個鍵帽例如第一鍵帽110a及第二鍵帽110b、多個發(fā)光元件例如第一發(fā)光元件180a及第二發(fā)光元件180b及遮罩層220具有類似于上述圖2A及圖3B實施例的結(jié)構(gòu)細(xì)節(jié)與作用關(guān)系，于此不再贅述。于本實施例中，光學(xué)擴(kuò)散膠層410涂覆于光源電路層150上且覆蓋多個發(fā)光元件例如第一發(fā)光元件180a及第二發(fā)光元件180b。光學(xué)擴(kuò)散膠層410沿著XY平面方向延伸到第一鍵帽110a的第一透光區(qū)116a及第二鍵帽110b的第二透光區(qū)116b的正下方。遮罩層220設(shè)置于光學(xué)擴(kuò)散膠層410上方，多個發(fā)光元件例如第一發(fā)光元件180a的第一上發(fā)光面182a及第二發(fā)光元件180b的第二上發(fā)光面182b提供光線以通過光學(xué)擴(kuò)散膠層410的擴(kuò)散自正上方對應(yīng)第一鍵帽110a的第一透光區(qū)116a及第二鍵帽110b的第二透光區(qū)116b射出，且遮罩層220局部遮擋光線以避免光線進(jìn)入鍵帽間隙G1。

具體而言，第一發(fā)光元件180a及第二發(fā)光元件180b設(shè)置于光源電路層150后，可使用涂膠程序?qū)⒐鈱W(xué)膠全面涂覆在光源電路層150上并覆蓋第一發(fā)光元件180a及第二發(fā)光元件180b，以使得光學(xué)擴(kuò)散膠層410對應(yīng)第一發(fā)光元件180a及第二發(fā)光元件180b的部分作為對應(yīng)的光學(xué)擴(kuò)散部，以簡化制造程序。遮罩層220設(shè)置于光學(xué)擴(kuò)散膠層410上方，以局部遮擋光線。遮罩層220具有遮光圖案以選擇性局部阻擋光線或讓光線通過，使得光學(xué)擴(kuò)散膠層410對應(yīng)鍵帽間隙G1部分射出的光線被遮罩擋住，以降低鍵帽間隙G1部分漏光強(qiáng)度；而對應(yīng)多個按鍵的第一透光區(qū)116a與第二透光區(qū)116b的位置，則遮罩層220保持透明而可容許光線通過，以使光線可自第一鍵帽110a的第一透光區(qū)116a與第二鍵帽110b的第二透光區(qū)116b射出，以限制光線僅在對應(yīng)第一鍵帽投影空間S1與第二鍵帽投影空間S2行進(jìn)，進(jìn)而避免相鄰按鍵間的光學(xué)干擾。

此外，光學(xué)擴(kuò)散部不限于上述的光學(xué)膠部或光學(xué)帽蓋，于其他實施例，亦可使用具有特定光萃取單元的導(dǎo)光片提供光學(xué)擴(kuò)散的功能。于另一實施例，如圖6A及圖6B所示，導(dǎo)光片510包含多個光學(xué)擴(kuò)散部例如第一光學(xué)擴(kuò)散部512a及第二光學(xué)擴(kuò)散部512b(即導(dǎo)光區(qū))，以及連接部514。換言之，第一光學(xué)擴(kuò)散部512a及第二光學(xué)擴(kuò)散部512b可藉由連接部514連接構(gòu)成導(dǎo)光片510。導(dǎo)光片510具有多個光萃取單元516(參見圖6C的局部放大圖)，多個光萃取單元516設(shè)置于第一光學(xué)擴(kuò)散部512a及第二光學(xué)擴(kuò)散部512b，而連接部514不設(shè)置任何光萃取單元，使光線不會自連接部514向上射出。具體而言，光萃取單元516設(shè)置在導(dǎo)光片510分別對應(yīng)第一鍵帽投影空間S1及第二鍵帽投影空間S2的區(qū)域，以使導(dǎo)光片510對應(yīng)第一鍵帽投影空間S1及第二鍵帽投影空間S2的區(qū)域作為第一光學(xué)擴(kuò)散部512a及第二光學(xué)擴(kuò)散部512b，進(jìn)而可使第一發(fā)光元件180a的第一上發(fā)光面182a及第二發(fā)光元件180b的第二上發(fā)光面182b的光線自小面積擴(kuò)散至大面積后從對應(yīng)第一鍵帽110a的第一透光區(qū)116a與第二鍵帽110b的第二透光區(qū)116b射出。導(dǎo)光片510對應(yīng)每一鍵帽間隙G1的區(qū)域則不設(shè)置任何光萃取單元，以作為連接部514，進(jìn)而可使第一發(fā)光元件180a的第一上發(fā)光面182a及第二發(fā)光元件180b的第二上發(fā)光面182b發(fā)出的光線不會自連接部514射出，進(jìn)而減少進(jìn)入鍵帽間隙G1的光線，從而有效避免相鄰按鍵間的光學(xué)干擾。

如圖6C的局部放大圖所示，光萃取單元516可為網(wǎng)點三維結(jié)構(gòu)例如凸圓形微透鏡，且可藉由衍射有效地控制光線的方向，但不以此為限。光萃取單元516可依據(jù)實際應(yīng)用具有各種形狀及尺寸，例如光萃取單元516的厚度或者高度為1.0微米至200微米。于一實施例，光萃取單元516較佳于導(dǎo)光片510制作過程中壓印于導(dǎo)光板片表面。導(dǎo)光片510的材料可為例如聚碳酸酯(polycarbonate)、聚對苯二甲酸乙二酯(polyethylene terephthalate，PET)或其他合宜的材料。如圖6B所示，第一發(fā)光元件180a及第二發(fā)光元件180b提供的光線經(jīng)由第一光學(xué)擴(kuò)散部512a及第二光學(xué)擴(kuò)散部512b的擴(kuò)散進(jìn)入對應(yīng)的第一鍵帽投影空間S1及第二鍵帽投影空間S2，再經(jīng)由例如彈性體的第一回復(fù)單元160a及第二回復(fù)單元160b的霧化效果，使得亮度更為均勻。于一實施例，如圖6B與圖6C所示，以第一光學(xué)擴(kuò)散部512a為例，第一光學(xué)擴(kuò)散部512a包含發(fā)光元件導(dǎo)光區(qū)517及周邊導(dǎo)光區(qū)518。發(fā)光元件導(dǎo)光區(qū)517位于對應(yīng)第一發(fā)光元件180a的第一上發(fā)光面182a的正上方，而周邊導(dǎo)光區(qū)518鄰接發(fā)光元件導(dǎo)光區(qū)517及連接部514。發(fā)光元件導(dǎo)光區(qū)517的光萃取單元516的密度小于周邊導(dǎo)光區(qū)518的光萃取單元516的密度，藉此可將第一上發(fā)光面182a發(fā)出的光線更均勻地通過第一光學(xué)擴(kuò)散部512a，以自對應(yīng)第一透光區(qū)116a射出。具體而言，導(dǎo)光片510于第一光學(xué)擴(kuò)散部512a及第二光學(xué)擴(kuò)散部512b的光萃取單元516可設(shè)計為越接近上第一上發(fā)光面182a與第二上發(fā)光面182b的區(qū)域，因為光線較強(qiáng)所以光萃取單元516的密度可以較小，光折射角度較小更集中，而越遠(yuǎn)離上第一上發(fā)光面182a與第二上發(fā)光面182b的區(qū)域，因為光線相對較弱所以光萃取單元516的密度可以較大使光折射角度更大。藉此，可使得第一發(fā)光元件180a及第二發(fā)光元件180b提供的光線更均勻地擴(kuò)散。

再者，如圖7的局部放大圖所示，圖6B的實施例亦可配合遮罩層220的應(yīng)用，以進(jìn)一步防止按鍵間的交互光學(xué)干擾。舉例而言，遮罩層220的遮光部可覆蓋于第一光學(xué)擴(kuò)散部512a及第二光學(xué)擴(kuò)散部512b的外緣或第一光學(xué)擴(kuò)散部512a、512b及第二光學(xué)擴(kuò)散部之間的擴(kuò)散部間隙G2，以分別阻擋自第一光學(xué)擴(kuò)散部512a及第二光學(xué)擴(kuò)散部512b進(jìn)入擴(kuò)散部間隙G2后向上行進(jìn)光線。遮罩層220的透光部的大小及形狀較佳對應(yīng)第一光學(xué)擴(kuò)散部512a及第二光學(xué)擴(kuò)散部512b，以容許第一光學(xué)擴(kuò)散部512a及第二光學(xué)擴(kuò)散部512b的擴(kuò)散上表面發(fā)出的光線通過對應(yīng)透光部進(jìn)入對應(yīng)的第一鍵帽投影空間S1與第二鍵帽投影空間S2，進(jìn)而自對應(yīng)第一鍵帽110a的第一透光區(qū)116a及第二鍵帽110b的第二透光區(qū)116b射出。

相較于習(xí)知技術(shù)，本發(fā)明的發(fā)光鍵盤藉由光學(xué)擴(kuò)散部加強(qiáng)上發(fā)光式發(fā)光二極管的發(fā)光均勻性，進(jìn)而提升按鍵字元的亮度均勻性。再者，本發(fā)明的發(fā)光鍵盤具有對應(yīng)各按鍵的光學(xué)擴(kuò)散機(jī)制，以使光線集中于對應(yīng)按鍵，進(jìn)而避免按鍵之間光線交互影響。

本發(fā)明已由上述實施例加以描述，然而上述實施例僅為例示目的而非用于限制。熟此技藝者當(dāng)知在不悖離本發(fā)明精神下，于此特別說明的實施例可有例示實施例的其他修改。因此，本發(fā)明范疇亦涵蓋此類修改且僅由所附申請專利范圍限制。