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一種高強(qiáng)度雙層減反膜的制作方法

文檔序號(hào):11859245閱讀:來源:國(guó)知局

技術(shù)特征:

1.一種高強(qiáng)度雙層減反膜,其特征在于,包括玻璃片(1)、設(shè)置在玻璃片(1)側(cè)面的氧化鈦薄膜(2)和氧化硅薄膜(3);

所述氧化鈦薄膜(2)為兩層,兩層氧化鈦薄膜(2)分別貼合在玻璃片(1)的正反兩面,所述氧化硅薄膜(3)也為兩層,兩層氧化硅薄膜(3)分別貼合在氧化鈦薄膜(2)的外表面。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高強(qiáng)度雙層減反膜,其特征在于,所述氧化鈦薄膜(2)的厚度為110-130nm。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種高強(qiáng)度雙層減反膜,其特征在于,所述氧化硅薄膜(3)的厚度為90-110nm。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高強(qiáng)度雙層減反膜,其特征在于,所述氧化鈦薄膜(2)的折射率為1.94-1.96。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高強(qiáng)度雙層減反膜,其特征在于,所述氧化硅薄膜(3)的折射率為1.41-1.43。

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