技術(shù)領(lǐng)域

一個或更多個實施例涉及一種柔性顯示裝置。

背景技術(shù)：

作為自發(fā)光顯示裝置的有機(jī)發(fā)光顯示裝置由于它們的寬視角、優(yōu)異的對比度和快響應(yīng)速度的優(yōu)點而作為下一代顯示裝置已備受廣泛關(guān)注。

有機(jī)發(fā)光顯示裝置被制造為輕質(zhì)且纖薄，以便可攜帶且可用于室外。當(dāng)在室外觀察圖像時，由于諸如以陽光為例的強(qiáng)外部光而會使由平板顯示裝置呈現(xiàn)的對比度和可視性劣化。另外，當(dāng)在室內(nèi)使用平板顯示裝置時，由于包括例如室內(nèi)熒光燈的各種外部光而會使可視性劣化。

為了防止由于外部光而導(dǎo)致可視性的劣化，已經(jīng)使用了附著在有機(jī)發(fā)光顯示裝置的整個表面上的圓形偏振膜。這是為了防止入射到有機(jī)發(fā)光顯示裝置上的外部光的反射，使得降低了反射的外部光的亮度，從而防止由于外部光而導(dǎo)致可視性的劣化。

然而，由于圓形偏振膜通過結(jié)合多層膜來制造，因此圓形偏振膜的制造工藝復(fù)雜，并且圓形偏振膜的制造成本高。另外，由于圓形偏振膜較厚，因此難以制造薄的顯示裝置。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

一個或更多個實施例包括一種柔性顯示裝置。

另外的方面將在隨后的描述中進(jìn)行部分地闡述，并且部分地通過描述將是明顯的，或者可以通過給出的實施例的實踐而獲知。

根據(jù)一個或更多個實施例，柔性顯示裝置包括：柔性基底；顯示器，設(shè)置在柔性基底上方；薄膜包封層，設(shè)置在顯示器上方并氣密地密封顯示器；相位延遲層，設(shè)置在薄膜包封層上方；偏振膜，設(shè)置在相位延遲層上方，其中，相位延遲層包括第一取向膜和液晶層，其中，液晶層包括液晶和反應(yīng)性液晶，液晶層中未硬化反應(yīng)性液晶的量為大約100ppm/inch²至大約220ppm/inch²。

反應(yīng)性液晶可以以大約3wt％至大約30wt％的比率包括在液晶層中。

反應(yīng)性液晶可以包括向列相液晶，向列相液晶包括丙烯酸酯基團(tuán)或甲基丙烯酸酯基團(tuán)的端基。

反應(yīng)性液晶可以包括單丙烯酸酯型反應(yīng)性液晶和二丙烯酸酯型反應(yīng)性液晶，單丙烯酸酯型反應(yīng)性液晶和二丙烯酸酯型反應(yīng)性液晶的含量比可以為大約1:1.5至大約1:4。

相位延遲層還可以包括設(shè)置在液晶層上的第二取向膜。

顯示器可以包括顯示區(qū)域和位于顯示區(qū)域外側(cè)的非顯示區(qū)域，非顯示區(qū)域可以包括電源布線和壩部，壩部可以通過與電源布線的至少一部分外邊緣疊置來接觸電源布線的所述至少一部分外邊緣。

顯示器可以包括薄膜晶體管、電連接到薄膜晶體管的有機(jī)發(fā)光器件、位于薄膜晶體管與有機(jī)發(fā)光器件之間的平坦化膜和限定有機(jī)發(fā)光器件的像素區(qū)域的像素限定膜，壩部可以包括與平坦化膜和像素限定膜中的至少一個的材料相同的材料。

薄膜包封層可以包括至少一個無機(jī)層和至少一個有機(jī)層，所述至少一個有機(jī)層可以設(shè)置在壩部的內(nèi)側(cè)。

所述至少一個無機(jī)層可以覆蓋壩部。

根據(jù)一個或更多個實施例，柔性顯示裝置包括：柔性基底；顯示器，設(shè)置在柔性基底上方，顯示器包括顯示區(qū)域和位于顯示區(qū)域外側(cè)的非顯示區(qū)域；薄膜包封層，設(shè)置在顯示器上方并氣密地密封顯示器；偏振層，設(shè)置在薄膜包封層上方，其中，偏振層可以包括第一取向膜、第二取向膜和位于第一取向膜與第二取向膜之間的液晶層，液晶層可以包括非反應(yīng)性液晶和反應(yīng)性液晶，反應(yīng)性液晶以大約3wt％至大約30wt％的比率包括在液晶層中。

液晶層中未硬化反應(yīng)性液晶的量可以為大約100ppm/inch²至大約220ppm/inch²。

反應(yīng)性液晶可以包括向列相液晶，向列相液晶包括丙烯酸酯基團(tuán)和甲基丙烯酸酯基團(tuán)的端基。

反應(yīng)性液晶可以包括單丙烯酸酯型反應(yīng)性液晶和二丙烯酸酯型反應(yīng)性液晶，單丙烯酸酯型反應(yīng)性液晶和二丙烯酸酯型反應(yīng)性液晶的含量比為大約1:1.5至大約1:4。

偏振層還可以包括設(shè)置在第一取向膜或第二取向膜上的偏振膜。

非顯示區(qū)域可以包括電源布線和壩部，壩部可以通過與電源布線的至少一部分外邊緣疊置來接觸電源布線的所述至少一部分外邊緣。

顯示器可以包括：薄膜晶體管；有機(jī)發(fā)光器件，電連接到薄膜晶體管；平坦化膜，位于薄膜晶體管與有機(jī)發(fā)光器件之間；像素限定膜，限定有機(jī)發(fā)光器件的像素區(qū)域，壩部可以包括與平坦化膜和像素限定膜中的至少一個的材料相同的材料。

薄膜包封層可以包括多個無機(jī)層和與所述多個無機(jī)層交替堆疊的多個有機(jī)層，所述多個有機(jī)層可以設(shè)置在壩部的內(nèi)側(cè)，所述多個無機(jī)層可以覆蓋壩部。

所述多個無機(jī)層可以在壩部的外側(cè)彼此接觸。

附圖說明

通過結(jié)合附圖對以下的實施例的描述，這些和/或其它方面將變得明顯且更容易理解，在附圖中：

圖1是根據(jù)實施例的柔性顯示裝置的示意性平面圖；

圖2是沿圖1的線I-I’截取的示意性剖視圖；

圖3是示意性地示出圖2的柔性顯示裝置的顯示器和薄膜包封層的示例的剖視圖；

圖4是沿圖1的線II-II’截取的示意性剖視圖；

圖5是示意性地示出圖2的柔性顯示裝置的偏振層的示例的剖視圖；

圖6是示意性地示出制造圖5的偏振層的方法的剖視圖；

圖7是示意性地示出圖1的柔性顯示裝置的相位差的變化的曲線圖。

具體實施方式

由于發(fā)明構(gòu)思允許各種改變和多個實施例，因此示例實施例將示出在附圖中并且在書面描述中進(jìn)行詳細(xì)地描述。然而，這并不意圖將本發(fā)明構(gòu)思限制為實踐的具體形式，并且將理解的是，在本發(fā)明構(gòu)思中包含不脫離本發(fā)明構(gòu)思的精神和技術(shù)范圍的所有變化、等同物和替換物。在本發(fā)明構(gòu)思的描述中，當(dāng)認(rèn)為相關(guān)領(lǐng)域的特定詳細(xì)解釋會不必要地使發(fā)明構(gòu)思的本質(zhì)不清楚時，省略相關(guān)領(lǐng)域的特定詳細(xì)解釋。

盡管諸如“第一”、“第二”等的術(shù)語可以用來描述各種組件，但是這樣的組件并不一定局限于上面的術(shù)語。上面的術(shù)語僅用來將一個組件與另一組件區(qū)分開。

本說明書中使用的術(shù)語僅用來描述特定實施例，而不意圖限制本發(fā)明構(gòu)思。除非單數(shù)中使用的表述在上下文中有明確的不同含義，否則單數(shù)中使用的表述包含復(fù)數(shù)的表述。另外，為了便于描述和清楚，可以夸大、省略或示意性地示出附圖中示出的每個元件。示出的每個元件的尺寸基本不反映它的實際尺寸。

現(xiàn)在將詳細(xì)地參照特定實施例，在附圖中示出了特定實施例的示例，其中，同樣的附圖標(biāo)記通常始終指示同樣的元件。就這點而言，給出的實施例可以具有不同的形式，而不應(yīng)被認(rèn)為限于這里闡述的描述。因此，實施例通過參照附圖僅在下面描述，以解釋本描述的各方面。如這里使用的，術(shù)語“和/或”包括一個或更多個相關(guān)所列項的任意組合和所有組合。諸如“……中的至少一個(種/者)”的表述在一列元件之后時，修飾整列元件，而不是修飾該列的個別元件。

圖1是根據(jù)實施例的柔性顯示裝置10的示意性平面圖。圖2是沿圖1的線I-I’截取的示意性剖視圖。圖3是示意性地示出圖2的柔性顯示裝置10的顯示器和薄膜包封層的示例的剖視圖。圖4是沿圖1的線II-II’截取的示意性剖視圖。圖5是示意性地示出圖2的柔性顯示裝置10的偏振層的示例的剖視圖。圖6是示意性地示出制造圖5的偏振層的方法的剖視圖。圖7是示意性地示出圖1的柔性顯示裝置10的相位差的變化的曲線圖。

首先，參照圖1至圖5，根據(jù)實施例的柔性顯示裝置10可以包括基底100、位于基底100上的顯示器200、用于氣密地密封顯示器200的薄膜包封層300、位于薄膜包封層300上的偏振層400。另外，還可以在偏振層400上布置覆蓋層500。

基底100可以包括具有柔性的塑料材料。例如，基底100可以包括聚醚砜(PES)、聚丙烯酸酯(PAR)、聚醚酰亞胺(PEI)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚苯硫醚(PPS)、聚芳酯、聚酰亞胺、聚碳酸酯(PC)、三醋酸纖維素(TAC)或醋酸丙酸纖維素(CAP)。

當(dāng)柔性顯示裝置10是在朝基底100的方向上實現(xiàn)圖像的底發(fā)射型時，基底100包括透明材料。然而，當(dāng)柔性顯示裝置10是在朝薄膜包封層300的方向上實現(xiàn)圖像的頂發(fā)射型時，基底100不需要包括透明材料，基底100可以包括具有柔性的不透明金屬。當(dāng)基底100包括金屬時，基底100可以包括鐵、鉻、錳、鎳、鈦、鉬、不銹鋼(SUS)、因瓦合金(Invar alloy)、因科鎳合金(Inconel alloy)和可伐合金(Kovar alloy)中的一種或更多種材料。另外，基底100可以包括金屬箔。

顯示器200可以設(shè)置在基底100上。顯示器200可以包括實現(xiàn)被用戶識別的圖像的顯示區(qū)域DA和位于顯示區(qū)域DA外側(cè)的非顯示區(qū)域。電源布線(power wire)220可以布置在非顯示區(qū)域中。另外，用于將電信號從電源裝置(未示出)或信號產(chǎn)生裝置(未示出)傳輸?shù)斤@示區(qū)域DA的墊部(也稱焊盤部，pad portion)150可以布置在非顯示區(qū)域中。

顯示器200可以包括例如薄膜晶體管200a和有機(jī)發(fā)光器件200b。然而，本公開不限于此，顯示器200可以包括各種類型的顯示器件。在隨后的描述中，參照圖3詳細(xì)地描述顯示器200。

緩沖層212可以形成在基底100上。緩沖層212防止雜質(zhì)向基底100中的侵入并在基底100上提供平坦的表面。緩沖層212可以包括例如以氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、氧化鋁、氮化鋁、氧化鈦或氮化鈦為例的無機(jī)材料或者以聚酰亞胺、聚酯或亞克力為例的有機(jī)材料，并可以包括以上描述的材料的層。

薄膜晶體管200a可以形成在基底100上方。薄膜晶體管200a可以包括有源層221、柵電極222、源電極223和漏電極224。

有源層221可以包括諸如以硅為例的無機(jī)半導(dǎo)體或者有機(jī)半導(dǎo)體。另外，有源層221具有源區(qū)、漏區(qū)和位于源區(qū)與漏區(qū)之間的溝道區(qū)。例如，當(dāng)使用非晶硅形成有源層221時，在基底100的整個表面上方形成非晶硅層并使其結(jié)晶以形成多晶硅層。將多晶硅層圖案化，然后，使位于有源層221的邊緣側(cè)處的源區(qū)和漏區(qū)摻雜有雜質(zhì)，從而形成包括源區(qū)、漏區(qū)和位于源區(qū)與漏區(qū)之間的溝道區(qū)的有源層221。

柵極絕緣膜213形成在有源層221上方。柵極絕緣膜213可以包括諸如SiN_x或SiO₂的無機(jī)材料，以使有源層221與柵電極222彼此絕緣。

柵電極222形成在柵極絕緣膜213的上表面上的特定區(qū)域中。柵電極222連接到用于向薄膜晶體管200a施加導(dǎo)通/截止信號的柵極線(未示出)。柵電極222可以包括例如Au、Ag、Cu、Ni、Pt、Pd、Al或Mo或者諸如以Al:Nd合金或Mo:W合金為例的合金。然而，本公開不限于此，考慮到設(shè)計條件，柵電極222可以包括各種材料。

形成在柵電極222上方的層間絕緣膜214可以包括諸如SiN_x或SiO₂的無機(jī)材料，以使柵電極222與源電極223之間以及柵電極222與漏電極224之間絕緣。

源電極223和漏電極224形成在層間絕緣膜214上方。層間絕緣膜214和柵極絕緣膜213暴露有源層221的源區(qū)和漏區(qū)。源電極223和漏電極224分別接觸有源層221的暴露的源區(qū)和漏區(qū)。

源電極223和漏電極224可以以單層或多層來包括鋁(Al)、鉑(Pt)、鈀(Pd)、銀(Ag)、鎂(Mg)、金(Au)、鎳(Ni)、釹(Nd)、銥(Ir)、鉻(Cr)、鋰(Li)、鈣(Ca)、鉬(Mo)、鈦(Ti)、鎢(W)和銅(Cu)中的一種或更多種。

盡管圖3示出順序地包括有源層221、柵電極222、源電極223和漏電極224的頂柵型的薄膜晶體管200a，但是本公開不限于此。在其它實施例中，柵電極222可以位于有源層221下方。

薄膜晶體管200a電連接到有機(jī)發(fā)光器件200b，并向有機(jī)發(fā)光器件200b施加信號以驅(qū)動有機(jī)發(fā)光器件200b。薄膜晶體管200a可以通過覆蓋有平坦化膜215而被保護(hù)。

平坦化膜215可以是無機(jī)絕緣膜和/或有機(jī)絕緣膜。無機(jī)絕緣膜可以包括例如SiO₂、SiN_x、SiON、Al₂O₃、TiO₂、Ta₂O₅、HfO₂、ZrO₂、BST或PZT，而有機(jī)絕緣膜可以包括例如通用的聚合物(PMMA、PS)、具有苯酚類基團(tuán)的聚合物衍生物、丙烯酸類聚合物、酰亞胺類聚合物、烯丙基醚類聚合物、酰胺類聚合物、氟類聚合物、對二甲苯類聚合物、乙烯醇類聚合物及其混合物。另外，平坦化膜215可以包括無機(jī)絕緣膜和有機(jī)絕緣膜的復(fù)合疊層。

有機(jī)發(fā)光器件200b可以形成在平坦化膜215上方。有機(jī)發(fā)光器件200b可以包括像素電極231、中間層232和對電極233。

像素電極231形成在平坦化膜215上，并經(jīng)由形成在平坦化膜215中的接觸孔230電連接到漏電極224。

像素電極231可以是反射電極，并可以包括反射膜和形成在反射膜上的透明或半透明電極層，所述反射膜包括例如Ag、Mg、Al、Pt、Pd、Au、Ni、Nd、Ir、Cr和它們的混合物。透明或半透明電極層可以包括例如氧化銦錫(ITO)、氧化銦鋅(IZO)、氧化鋅(ZnO)、氧化銦(In₂O₃)、氧化銦鎵(IGO)和氧化鋁鋅(AZO)中的至少一種。

設(shè)置為面對像素電極231的對電極233可以是透明或半透明電極，并可以包括具有低逸出功的金屬薄膜，所述金屬薄膜包括例如Li、Ca、LiF/Ca、LiF/Al、Al、Ag、Mg以及它們的混合物。另外，可以在金屬薄膜上形成輔助電極層或匯流電極，所述輔助電極層或所述匯流電極包括用于形成透明電極的材料(諸如以ITO、IZO、ZnO或In₂O₃為例)。

因此，對電極233可以經(jīng)由其透射從包括在中間層232中的有機(jī)發(fā)光層(未示出)發(fā)射的光。換言之，從有機(jī)發(fā)光層發(fā)射的光可以直接朝對電極233行進(jìn)或者通過被作為反射電極的像素電極231反射而朝對電極233行進(jìn)。

然而，顯示器200不限于頂發(fā)射型，可以是從有機(jī)發(fā)光層發(fā)射的光朝基底100行進(jìn)的底發(fā)射型。在此情況下，像素電極231可以是透明或半透明電極，對電極233可以是反射電極。另外，顯示器200可以是在朝頂表面和底表面的兩個方向上發(fā)射光的雙向發(fā)射型。

像素限定膜216在像素電極231上包括絕緣材料。像素限定膜216可以包括諸如聚酰亞胺、聚酰胺、丙烯酸樹脂、苯并環(huán)丁烯和酚醛樹脂的一種或更多種有機(jī)絕緣材料，并通過諸如以旋涂為例的方法來形成。像素限定膜216暴露像素電極231的特定區(qū)域，包括有機(jī)發(fā)光層的中間層232位于像素電極231的暴露區(qū)域中。

包括在中間層232中的有機(jī)發(fā)光層可以是低分子有機(jī)材料或聚合物有機(jī)材料。除了有機(jī)發(fā)光層之外，中間層232還可以選擇性地包括諸如空穴傳輸層(HTL)、空穴注入層(HIL)、電子傳輸層(ETL)和電子注入層(EIL)的功能層。

薄膜包封層300布置在對電極233上方。薄膜包封層300覆蓋整個顯示器200，并防止外部濕氣和氧向顯示器200中的侵入。薄膜包封層300可以以比顯示器200的面積大的尺寸形成，使得薄膜包封層300的所有邊緣可以接觸基底100，從而進(jìn)一步堅固地防止外部空氣的侵入。

薄膜包封層300可以包括有機(jī)層310和330中的至少一個以及無機(jī)層320和340中的至少一個。有機(jī)層310和330中的至少一個以及無機(jī)層320和340中的至少一個可以彼此交替堆疊。盡管圖3示出薄膜包封層300包括兩個無機(jī)層320和340以及兩個有機(jī)層310和330，但是本公開不限于此。薄膜包封層300還可以包括交替布置的多個額外的無機(jī)層和有機(jī)層，無機(jī)層和有機(jī)層的堆疊的數(shù)量不限于圖3中所示出的數(shù)量。

無機(jī)層320和340可以包括氮化硅、氮化鋁、氮化鋯、氮化鈦、氮化鉿、氮化鉭、氧化硅、氧化鋁、氧化鈦、氧化錫、氧化鈰和氮氧化硅(SiON)中的至少一種。

有機(jī)層310和330使由于像素限定膜216導(dǎo)致的臺階平坦化，并可以釋放在無機(jī)層320中產(chǎn)生的應(yīng)力。另外，當(dāng)在無機(jī)層320上存在顆粒時，有機(jī)層310和330可以覆蓋無機(jī)層320。

無機(jī)層320和340可以形成為比有機(jī)層310和330大。因此，如圖4中所示，無機(jī)層320和340可以在有機(jī)層310和330的邊緣的外側(cè)彼此接觸。因此，可以更有效地防止外部濕氣或氧的侵入。

如圖4中所示，壩部(dam portion)120可以位于顯示區(qū)域DA外側(cè)的非顯示區(qū)域中。另外，非顯示區(qū)域可以包括諸如電源布線220的各種電路圖案和防靜電圖案。

電源布線220可以包括共電壓ELVSS線和驅(qū)動電壓ELVDD線，并可以包括與源電極223和漏電極224的材料相同的材料。盡管圖4示出電源布線220的共電壓ELVSS線以及共電壓ELVSS線和對電極233經(jīng)由布線116連接的示例，但是本公開不限于此。在一些實施例中，共電壓ELVSS線和對電極233可以彼此直接接觸。

當(dāng)形成薄膜包封層300的有機(jī)層310和330時，壩部120阻擋用于形成有機(jī)層310和330的有機(jī)材料在朝基底100的邊緣的方向上的流動，以防止有機(jī)層310和330的邊緣尾部的形成。壩部120可以形成為圍繞顯示區(qū)域DA。

壩部120可以包括與平坦化膜215和像素限定膜216中的至少一個的材料相同的材料。在示例中，壩部120可以包括第一層121和第二層122，第一層121包括與平坦化膜215的材料相同的材料，第二層122形成在第一層121上并包括與像素限定膜216的材料相同的材料。然而，本公開不限于此，壩部120可以以單層形成。另外，壩部120可以包括兩個或更多個層。當(dāng)壩部120是多層時，壩部120的高度可以隨著壩部120位于基底100中的外部位置而增加。

壩部120可以形成為與電源布線220的至少一部分疊置。例如，壩部120可以至少疊置地接觸電源布線220的外邊緣。與無機(jī)材料相比，包括與平坦化膜215和像素限定膜216中的至少一個的材料相同的材料的壩部120可以與金屬具有優(yōu)異的結(jié)合力。因此，當(dāng)壩部120與由金屬材料形成的電源布線220接觸形成時，壩部120可以具有優(yōu)異的結(jié)合力并可以穩(wěn)定地形成。盡管圖4示出壩部120與電源布線220的外邊緣疊置的示例，但是本公開不限于此，壩部120可以僅形成在電源布線220上以覆蓋電源布線220。

當(dāng)形成有機(jī)層310和330時，由于壩部120阻擋有機(jī)材料在朝基底100的邊緣的方向上的流動，因此有機(jī)層310和330位于壩部120的內(nèi)側(cè)。

相反，無機(jī)層320和340可以延伸到壩部120的外側(cè)，并且無機(jī)層320和340可以在壩部120的外側(cè)彼此接觸。另外，無機(jī)層320和340中的至少一個可以在壩部120的外側(cè)與層間絕緣膜214接觸。因此，可以防止穿過側(cè)表面的外部濕氣的侵入，并且可以改善薄膜包封層300的結(jié)合力。另外，無機(jī)層320和340中的至少一個可以通過穿過層間絕緣膜214的端部而接觸基底100的上表面，此外可以接觸柵極絕緣膜213和層間絕緣膜214的側(cè)邊。因此，可以防止由于無機(jī)層320和340的邊緣的層壓而導(dǎo)致的薄膜包封層300的去除以及薄膜包封層300的包封特性的劣化。

在從顯示器200輸出的光之中，偏振層400經(jīng)由其僅透射在與偏振軸相同的方向上振動的光，并吸收或反射在其它方向上振動的光。

在下面的描述中，參照圖5和圖6描述偏振層400及其制造方法。

偏振層400可以包括相位延遲層410和偏振膜440，相位延遲層410通過將λ/4的相位差提供到彼此垂直的兩個偏振光分量來將線偏振光變成圓偏振光或?qū)A偏振光變成線偏振光，偏振膜440使透過相位延遲層410的光的方向取向，并將所述光劃分為彼此垂直的兩個偏振分量以經(jīng)由其僅透射兩個偏振分量中的一個偏振分量并吸收或散射另一偏振分量。

相位延遲層410可以包括第一取向膜412、位于第一取向膜412上的液晶層416和位于液晶層416上的第二取向膜414。

可以通過在基體構(gòu)件450上涂覆用于形成取向膜的復(fù)合物，然后對該復(fù)合物干燥并硬化來形成第一取向膜412。第一取向膜412可以具有大約0.1μm至大約0.5μm的厚度，但是本公開不限于此。

基體構(gòu)件450可以包括玻璃或透明塑料膜。塑料膜可以是聚醚砜(PES)、聚丙烯酸酯(PAR)、聚醚酰亞胺(PEI)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚苯硫醚(PPS)、聚芳酯、聚酰亞胺、聚碳酸酯(PC)、三醋酸纖維素(TAC)或醋酸丙酸纖維素(CAP)。

用于形成取向膜的復(fù)合物可以是如聚合物或偶聯(lián)劑溶解在有機(jī)溶劑中獲得的溶液的形式，并通過旋涂或凹版涂覆(gravure coating)來涂覆在基體構(gòu)件450上。在涂覆之后，將偏振光照射到涂覆的表面上，因此可以在偏振光的偏振方向上將取向力提供到第一取向膜412。

包括在用于形成取向膜的復(fù)合物中的聚合物可以是例如聚甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸-甲基丙烯酸共聚物、苯乙烯-馬來酰亞胺共聚物、聚乙烯醇、改性的聚乙烯醇、明膠、苯乙烯-乙烯基甲苯共聚物、氯磺化聚乙烯、硝化纖維素、聚氯乙烯、氯化聚烯烴、聚酯、聚酰亞胺、乙酸乙烯酯-氯乙烯共聚物、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、羧甲基纖維素、聚乙烯、聚丙烯或聚碳酸酯。另外，偶聯(lián)劑可以是硅烷偶聯(lián)劑。

液晶層416可以包括液晶和反應(yīng)性液晶。液晶的示例可以是非反應(yīng)性的并不具有反應(yīng)基團(tuán)的向列相液晶。反應(yīng)性液晶可以包括例如作為表現(xiàn)向列相液晶相的液晶基元(mesogen)的能夠執(zhí)行自由基聚合的端基。可聚合的端基可以包括丙烯酸酯基團(tuán)或甲基丙烯酸酯基團(tuán)。在示例中，反應(yīng)性液晶可以包括單丙烯酸酯型反應(yīng)性液晶和二丙烯酸酯型反應(yīng)性液晶。在該狀態(tài)下，單丙烯酸酯型反應(yīng)性液晶與二丙烯酸酯型反應(yīng)性液晶的含量比可以為大約1:1.5至大約1:4。

可以通過在第一取向膜412上涂覆用于形成包括液晶和反應(yīng)性液晶的液晶層的復(fù)合物，然后對該復(fù)合物干燥并硬化來形成液晶層416。用于形成液晶層的復(fù)合物是如將除了液晶和反應(yīng)性液晶之外的諸如聚合引發(fā)劑或硬化劑的添加劑溶解在有機(jī)溶劑中得到的溶液的形式，并通過旋涂或凹版涂覆來涂覆在第一取向膜412上，然后硬化。

當(dāng)將紫外線照射到涂覆在第一取向膜412上的用于形成液晶層的復(fù)合物上時，反應(yīng)性液晶被聚合并在與第一取向膜412的取向方向相同的方向上被取向，并且在第一取向膜412的取向方向上形成光軸。另外，包括在用于形成液晶層的復(fù)合物中的不具有反應(yīng)基團(tuán)的液晶通過與形成光軸的反應(yīng)性液晶的π-π相互作用而在與反應(yīng)性液晶的取向方向相同的方向上被取向，液晶層416可以執(zhí)行λ/4相位膜的功能。如此，由于液晶層416可以通過涂覆工藝來形成并具有大約0.5μm至大約1.5μm的盡可能薄的厚度，因此與將λ/4相位膜附著到相關(guān)領(lǐng)域中的偏振元件上的情況相比，可以簡化偏振層400的制造，并且可以減小偏振層400的厚度。

反應(yīng)性液晶可以以大約3wt％至大約30wt％的比率包括在液晶層416中。當(dāng)反應(yīng)性液晶的含量小于3wt％時，液晶層416難以被取向有總體上一致的方向性。相反，當(dāng)反應(yīng)性液晶的含量大于大約30wt％時，液晶層416中的未硬化反應(yīng)性液晶的剩余量會增加。當(dāng)液晶層416中的未硬化反應(yīng)性液晶的量增加時，液晶層416的硬化程度降低，并且在高溫和高濕度環(huán)境中，液晶層416的相位差減小，從而產(chǎn)生色彩感的變化。因此，反應(yīng)性液晶可以以大約3wt％至大約30wt％的比率包括在液晶層416中，從而液晶層416可以穩(wěn)定地保持一致的方向性。

另外，未硬化反應(yīng)性液晶可以以大約100ppm/inch²至大約220ppm/inch²的比率包括在液晶層416中。當(dāng)未硬化反應(yīng)性液晶的含量大于大約220ppm/inch²時，在高溫和高濕度環(huán)境中，液晶層416的相位差減小，從而產(chǎn)生色彩感的變化。相反，當(dāng)未硬化反應(yīng)性液晶以小于大約100ppm/inch²的比率包括在液晶層416中時，液晶層416的硬化程度提高過高，從而在處理相位延遲層410或偏振層400期間會在液晶層416中產(chǎn)生諸如裂紋的損壞。

下面的表1示出根據(jù)液晶層416中剩余的反應(yīng)性液晶的量而液晶層416的相位差的變化的結(jié)果。圖7示出根據(jù)反應(yīng)性液晶的量來表示光穿過偏振層400的色彩感在色彩坐標(biāo)系上的變化的結(jié)果。液晶層416可以包括向列相液晶和未硬化液晶。未硬化液晶可以包括比例為1:4的單丙烯酸酯型向列相反應(yīng)性液晶和二丙烯酸酯型向列相反應(yīng)性液晶。

在下面的表1中，未硬化液晶的含量表示最初包括在液晶層416中的未硬化液晶的量。剩余的未硬化液晶的量表示在硬化之后液晶層416中剩余的未硬化液晶的量。相位差的變化量表示將偏振層400在大約60℃的高溫和大約93％的高濕度的條件下放置24小時時在透射波長為550nm的光期間相位差的變化值。

[表1]

剩余的未硬化液晶的量根據(jù)硬化條件是可調(diào)節(jié)的。如從上面的表1可以看出，隨著液晶層416中剩余的未硬化液晶的含量增加，相位差的變化量增加。具體地，當(dāng)剩余的未硬化液晶的量大于220ppm/inch²時，相位差的變化量大于4nm，從而會識別色彩感的變化。圖7的箭頭(a)表示剩余的未硬化液晶的量為大約153ppm/inch²的情況，圖7的箭頭(b)表示剩余的未硬化液晶的量為大約350ppm/inch²的情況。圖7的箭頭(b)可以表示色彩感朝向紅色變化。

因此，在高溫和高濕度環(huán)境下，為了減小液晶層416的相位差的變化，液晶層416中剩余的未硬化液晶的量保持為等于或小于220ppm/inch²。相反，當(dāng)未硬化反應(yīng)性液晶以小于100ppm/inch²的比率包括在液晶層416中時，液晶層416的硬化程度提高過高，從而在處理相位延遲層410或偏振層400期間會在液晶層416中產(chǎn)生諸如裂紋的損壞。因此，液晶層416中剩余的未硬化液晶的量可以在大約100ppm/inch²與大約220ppm/inch²之間。

在對比示例1的情況下，剩余的未硬化液晶的量為大約107ppm/inch²，相位差的變化量為大約2nm，因此，沒有識別到色彩感的變化。然而，在對比示例1的情況下，由于最初包含的未硬化液晶的量為大約1wt％，因此液晶層416難以大致取向有一致的方向性。換言之，為了使液晶層416穩(wěn)定地保持有一致的方向性，反應(yīng)性液晶可以以大約3wt％至大約30wt％的比率包括在液晶層416中。

返回參照圖5和圖6，在液晶層416上形成第二取向膜414。在示例中，第二取向膜414可以形成為與第一取向膜412相同。換言之，可以通過在液晶層416上涂覆用于形成取向膜的復(fù)合物，然后對該復(fù)合物干燥并硬化來形成第二取向膜414。在另一示例中，可以通過在液晶層416上涂覆聚酰亞胺或聚酰胺并烘焙聚酰亞胺或聚酰胺來形成第二取向膜414，然后可以通過使用研磨輥研磨燒結(jié)的聚酰亞胺或聚酰胺來形成第二取向膜414的取向方向。

如此，可以通過在液晶層416上形成第二取向膜414來進(jìn)一步改善液晶層416的取向性能。第二取向膜414可以執(zhí)行阻擋層的功能，以防止液晶層416中的液晶朝將相位延遲層410和偏振膜440結(jié)合的結(jié)合層(未示出)的遷移。

偏振膜440和相位延遲層410可以在結(jié)合層上彼此結(jié)合。丙烯酸類、聚氨酯類、聚異丁烯類、丁苯橡膠(SBR)類、橡膠類、聚乙烯基醚類、環(huán)氧類、三聚氰胺類、聚酯類、苯酚類或硅類樹脂或者它們的共聚物可以用于結(jié)合層。

在將偏振膜440與相位延遲層410彼此結(jié)合之后，去除基體構(gòu)件450，從而制造偏振層400。

盡管圖中未示出，但是偏振層400還可以包括λ/2相位延遲層。盡管λ/2相位延遲層可以與相位延遲層410具有相同的結(jié)構(gòu)，但是液晶可以被取向為執(zhí)行λ/2相位膜的功能。

返回參照圖2，覆蓋層500位于偏振層400上方并保護(hù)柔性顯示裝置10免受外部沖擊并防止使用期間產(chǎn)生的劃痕。覆蓋層500可以包括聚甲基丙烯酸甲酯、聚二甲基硅氧烷、聚酰亞胺、丙烯酸酯、聚對苯二甲酸乙二醇酯或聚萘二甲酸乙二醇酯。然而，本公開不限于此，覆蓋層500可以包括諸如以金屬構(gòu)件為例的各種材料。在一些實施例中，可以通過使用諸如不銹鋼(SUS)的薄金屬箔來形成覆蓋層500。

如上所述，偏振層可以具有薄的厚度以適用于柔性顯示裝置，可以在高溫和高濕度環(huán)境下降低穿過相位延遲層的偏振分量之間的相位差的減小。

應(yīng)理解的是，這里描述的實施例應(yīng)被認(rèn)為僅是描述性的含義，而不是用于限制的目的。每個實施例內(nèi)的特征或方面的描述通常應(yīng)被認(rèn)為可用于其它實施例中的其它相似特征或方面。

盡管已經(jīng)參照附圖描述了一個或更多個實施例，但是本領(lǐng)域中的普通技術(shù)人員將理解的是，在不脫離如由權(quán)利要求限定的精神和范圍的情況下，在這里可以做出形式上和細(xì)節(jié)上的各種改變。