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彩膜基板及其制造方法與流程

文檔序號:12275392閱讀:669來源:國知局
彩膜基板及其制造方法與流程

本發(fā)明涉及顯示技術領域,具體涉及一種彩膜基板及其制造方法。



背景技術:

AMOLED(Active-matrix organic light emitting diode,有源矩陣有機發(fā)光二極管)被認為最具有市場應用潛力的顯示技術,特別是在高分辨率顯示方面具有廣闊市場前景。制造AMOLED的濾光片需要FMM(Fine Metal Mask,高精度金屬掩模板),然而受限于FMM的孔徑比和網(wǎng)格寬度等因素,高分辨率的AMOLED難以實現(xiàn),同時FMM的制造工藝十分復雜,導致制造成本較高,因此業(yè)界提出一種AMOLED+CF技術,該技術將濾光片設置于一獨立基體上,不使用FMM。但是,基于該技術的顯示面板在彎折時其濾光片容易損傷。



技術實現(xiàn)要素:

鑒于此,本發(fā)明提供一種彩膜基板及其制造方法,能夠有效防止彎折對濾光片造成損傷,有效提高彩膜基板的使用壽命。

本發(fā)明一實施例的彩膜基板的制造方法,包括:提供一基體;形成覆蓋基體的第一有機聚合物層;在第一有機聚合物層上形成彩色濾光片層,其中彩色濾光片層中的各個顏色的濾光片間隔設置;形成覆蓋彩色濾光片層的第二有機聚合物層。

其中,在第一有機聚合物層上形成彩色濾光片層之前,所述制造方法還包括:將第一有機聚合物層的上表面劃分為交錯設置的第一區(qū)域和第二區(qū)域,第一區(qū)域用于形成各個顏色的濾光片;在第二區(qū)域形成一油墨層。

其中,在第二區(qū)域形成一油墨層的步驟,包括:形成覆蓋第一有機聚合物層的負性光阻層;對負性光阻層進行曝光,以去除未曝光的第二區(qū)域的負性光阻層,且曝光而保留第一區(qū)域的負性光阻層;在第二區(qū)域涂布一油墨層并固化;在油墨層固化后去除第一區(qū)域的負性光阻層。

其中,在第一有機聚合物層上形成彩色濾光片層的步驟,包括:在第一有機聚合物層上形成覆蓋油墨層的負性光阻層;對負性光阻層進行曝光,以在第一區(qū)域形成濾光片。

其中,在形成覆蓋彩色濾光片層的第二有機聚合物層之后,所述制造方法還包括:形成覆蓋第二有機聚合物層的保護層。

其中,基體包括襯底基材以及覆蓋于襯底基材上的隔離層,第一有機聚合物層覆蓋于隔離層上,隔離層用于防止水和氧經(jīng)過隔離層以及第一有機聚合物層進入彩膜基板的內(nèi)部。

其中,彩色濾光片層包括紅色濾光片、綠色濾光片、藍色濾光片以及白色濾光片,或者包括紅色濾光片、綠色濾光片和藍色濾光片。

本發(fā)明一實施例的彩膜基板,包括:基體;覆蓋于基體上的第一有機聚合物層;形成于第一有機聚合物層上的彩色濾光片層,其中彩色濾光片層中的各個顏色的濾光片間隔設置;覆蓋彩色濾光片層上的第二有機聚合物層。

其中,彩膜基板還包括形成于第一有機聚合物層上且位于相鄰兩個顏色的濾光片之間的油墨層。

其中,彩膜基板進一步包括覆蓋于第二有機聚合物層上的保護層。

有益效果:本發(fā)明實施例通過第一有機聚合物層和第二有機聚合物層封裝濾光片,能夠有效防止彎折對濾光片造成損傷,有效提高彩膜基板的使用壽命,有利于實現(xiàn)高分辨率的AMOLED面板。

附圖說明

圖1是本發(fā)明一實施例的彩膜基板的制造方法的流程圖;

圖2是本發(fā)明一實施例制造彩膜基板的場景示意圖。

具體實施方式

下面將結合本發(fā)明實施例中的附圖,對本發(fā)明所提供的各個示例性的實施例的技術方案進行清楚、完整地描述。在不沖突的情況下,下述各個實施例以及實施例中的特征可以相互組合。并且,本發(fā)明全文所采用的方向性術語,例如“上”、“下”等措辭,均是為了更好的描述各個實施例,并非用于限制本發(fā)明的保護范圍。

請參閱圖1,為本發(fā)明一實施例的彩膜基板的制造方法。所述彩膜基板的制造方法可以包括步驟S11~S19。

S11:提供一基體。

所述基體包括但不限于玻璃基材、透明塑料基材和可撓式基材。當然,該基體也可以設置有鈍化保護層,如圖2所示,基體21包括襯底基材211和覆蓋于襯底基材211上的隔離層212。襯底基材211可以為玻璃基材、透明塑料基材或可撓式基材。隔離層212為一隔水隔氧的保護層,用于防止水和氧經(jīng)過隔離層212以及下文的第一有機聚合物層進入彩膜基板的內(nèi)部。該隔離層212的材料包括但不限于Al2O3、TiO2、SiNx、SiCNx、SiOx、ZrO2等無機化合物。

本實施例可采用涂布方式在襯底基材211上形成厚度為0.5~1μm的隔離層212。當然,本實施例也可以通過其他方式,例如PECVD(Plasma Enhanced Chemical vapor deposition,等離子化學氣相沉積)、PLD(Pulsed Laser Deposition,脈沖激光沉積)、ALD(Atomic Layer Deposition,原子層沉積)、Sputter(濺射)等方法形成隔離層212。

S12:形成覆蓋基體的第一有機聚合物層。

本實施例可以采用IJP(Inkjet Printing,噴墨印刷)、Slot-Die Coating(夾縫式擠壓型涂布)等方式在隔離層212上形成第一有機聚合物層22。該第一有機聚合物層22的厚度可以為3~5μm,其材料包括但不限于丙烯酸(Acrylic)、六甲基二硅醚(HMDSO)、聚丙烯酸酯類、聚碳酸脂類、聚苯乙烯等。

所述第一有機聚合物層22優(yōu)選為柔性結構,其與彩膜基板內(nèi)的器件(例如彩色濾光片)對應設置,能夠保護對應的器件不會彎曲或者彎曲較輕微,從而保護該器件不會被彎折破壞。其中,所謂對應設置可理解為:在沿垂直于彩膜基板的視線方向,器件的投影至少部分位于第一有機聚合物層22所在區(qū)域,換言之,所述器件與第一有機聚合物層22至少部分重疊。基于此,當彩膜基板進行彎折時,第一有機聚合物層22可以與對應位置的器件作為一個整體參與彎折,所述器件在彎折時不易遭受破壞,使得彩膜基板具有良好的可彎折性能,進一步使得具有該彩膜基板的顯示面板,例如基于AMOLED技術的顯示面板,具有柔性顯示功能。

S13:形成覆蓋第一有機聚合物層的負性光阻層。

繼續(xù)參閱圖2,本實施例可以采用Slot-Die Coating等方式在第一有機聚合物層22上形成負性光阻層23。

S14:將第一有機聚合物層的上表面劃分為交錯設置的第一區(qū)域和第二區(qū)域,并對負性光阻層進行曝光,以去除未曝光的第二區(qū)域的負性光阻層,且曝光而保留第一區(qū)域的負性光阻層。

如圖2所示,采用光罩30對負性光阻層23進行曝光。該光罩30的透光開口與第一區(qū)域24對應設置,且透光開口與濾光片的開口的相同。曝光的第一區(qū)域24的負性光阻層23得以保留,第二區(qū)域25的負性光阻層23因為未被曝光而被去除。這種曝光技術可視為一種光刻技術,可以使得后續(xù)制得的彩膜基板的分辨率高達600PPI(Pixels Per Inch,像素數(shù)目)以上。

S15:在第二區(qū)域涂布一油墨層并固化。

其中,黑色油墨層26對負性光阻層23有很強的疏水性,并且油墨層26采用低溫固化型或UV固化型的油墨。

S16:在油墨層固化后去除第一區(qū)域的負性光阻層。

在黑色油墨層26固化后,將上述結構浸泡于顯影液中以去除第一區(qū)域24的負性光阻層23,從而定義出濾光片的開口區(qū)。

S17:在第一有機聚合物層上形成覆蓋油墨層的負性光阻層。

S18:對負性光阻層進行曝光,以在第一區(qū)域形成濾光片。

在本發(fā)明實施例中,彩膜基板的彩色濾光片層包括紅色濾光片、綠色濾光片、藍色濾光片以及白色濾光片,或者包括紅色濾光片、綠色濾光片和藍色濾光片。參閱圖2,以彩色濾光片層包括紅色濾光片281、綠色濾光片282和藍色濾光片283為例,采用光罩40對負性光阻層27進行曝光。該光罩40的透光開口與紅色濾光片281之外的區(qū)域?qū)O置,曝光的負性光阻層27得以保留,未被曝光的負性光阻層27被去除,從而定義出紅色濾光片281的開口區(qū)。同理,采用另外兩個光罩繼續(xù)對負性光阻層27進行曝光,該兩個光罩的透光開口分別與綠色濾光片282和藍色濾光片283之外的區(qū)域?qū)O置,曝光的負性光阻層27得以保留,未被曝光的負性光阻層27被去除,從而定義出綠色濾光片282的開口區(qū)和藍色濾光片283的開口區(qū)。

本發(fā)明實施例可以通過間隔設置的黑色油墨層26代替光罩,蒸鍍形成各顏色的濾光片,從而降低制造成本。

S19:形成覆蓋彩色濾光片層的第二有機聚合物層。

本實施例可以采用IJP、Slot-Die Coating等方式在彩色濾光片層上形成第二有機聚合物層29。該第二有機聚合物層29的厚度可以為3~5μm,其材料可以與第一有機聚合物層22的材料相同,也可以不相同。

由上述可知,彩色濾光片層中的各個顏色的濾光片被封裝在第一有機聚合物層22和第二有機聚合物層29之中,從而能夠有效防止彎曲、折疊彩膜基板對濾光片造成損傷,有效提高彩膜基板的使用壽命,有利于實現(xiàn)高分辨率的AMOLED面板。

進一步地,本發(fā)明實施例還可以形成覆蓋第二有機聚合物層29的保護層291。該保護層291為一隔水隔氧的保護層,用于防止水和氧經(jīng)過保護層291以及第二有機聚合物層29進入彩膜基板的內(nèi)部。并且,該保護層291和隔離層212的材料可以相同,也可以不相同。

本發(fā)明還提供一實施例的彩膜基板。該彩膜基板包括:基體;覆蓋于基體上的第一有機聚合物層;形成于第一有機聚合物層上的彩色濾光片層,其中彩色濾光片層中的各個顏色的濾光片間隔設置;覆蓋彩色濾光片層上的第二有機聚合物層。另外,彩膜基板還可以包括形成于第一有機聚合物層上且位于相鄰兩個顏色的濾光片之間的油墨層。進一步地,第二有機聚合物層上還形成有保護層。

本實施例的彩膜基板可以由圖1和圖2所示方法制得,因此具有與上述方法制得的彩膜基板相同的有益效果。

以上所述僅為本發(fā)明的實施例,并非因此限制本發(fā)明的專利范圍,凡是利用本發(fā)明說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結構或等效流程變換,例如各實施例之間技術特征的相互結合,或直接或間接運用在其他相關的技術領域,均同理包括在本發(fā)明的專利保護范圍內(nèi)。

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