亚洲成年人黄色一级片,日本香港三级亚洲三级,黄色成人小视频,国产青草视频,国产一区二区久久精品,91在线免费公开视频,成年轻人网站色直接看

一種柔性基板及其制備方法、柔性顯示裝置與流程

文檔序號:11956392閱讀:204來源:國知局
一種柔性基板及其制備方法、柔性顯示裝置與流程

本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種柔性基板及其制備方法、柔性顯示裝置。



背景技術(shù):

顯示裝置是一種用于顯示文字、數(shù)字、符號、圖片,或者由文字、數(shù)字、符號和圖片中至少兩種組合形成的圖像等畫面的裝置。目前,顯示裝置可以分為剛性顯示裝置和柔性顯示裝置,其中,柔性顯示裝置具有耐沖擊性能較好、抗震能力較強、重量較輕、體積較小且方便攜帶等優(yōu)點,受到人們的廣泛關(guān)注。

柔性顯示裝置通常包括柔性基板、形成在柔性基板上的顯示器件、以及用于封裝顯示器件的柔性封裝層,制備柔性顯示裝置時,先將柔性基板形成在剛性輔助基板(如玻璃基板)上,然后在柔性基板上形成顯示器件,并通過柔性封裝層封裝顯示器件,然后將柔性基板與剛性輔助基板分離,獲得柔性顯示裝置。然而,現(xiàn)有技術(shù)中,柔性基板的膨脹系數(shù)通常遠遠高于剛性輔助基板的膨脹系數(shù),而在制備柔性顯示裝置時,剛性輔助基板和柔性基板所處的環(huán)境的溫度通常會發(fā)生變化,因而在剛性輔助基板和柔性基板所處的環(huán)境的溫度發(fā)生變化時,柔性基板的形變率高于剛性輔助基板的形變率,因而導致剛性輔助基板容易發(fā)生翹曲,從而導致制備顯示器件時的工藝精度較低。



技術(shù)實現(xiàn)要素:

本發(fā)明的目的在于提供一種柔性基板及其制備方法、柔性顯示裝置,用于解決因剛性輔助基板容易發(fā)生翹曲而導致制備顯示器件時的工藝精度較低的技術(shù)問題。

為了實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供如下技術(shù)方案:

本發(fā)明的第一方面提供一種柔性基板,包括依次層疊設(shè)置的第一有機層和無機緩沖層,所述第一有機層與所述無機緩沖層形成有機-無機復合結(jié)構(gòu)。

本發(fā)明的第二方面提供一種柔性顯示裝置,包括如上述技術(shù)方案所述的柔性基板、顯示器件和柔性封裝層,其中,所述顯示器件位于所述柔性基板的無機緩沖層背向所述柔性基板的第一有機層的一側(cè);所述柔性封裝層覆蓋所述柔性基板和所述顯示器件,所述柔性封裝層將所述顯示器件封裝在所述柔性基板與所述柔性封裝層之間。

本發(fā)明的第三方面提供一種柔性基板的制備方法,用于制備如上述技術(shù)方案所述的柔性基板,所述制備方法包括:

在剛性輔助基板上形成第一有機層;

在所述第一有機層上形成無機緩沖層,所述第一有機層與所述無機緩沖層形成有機-無機復合結(jié)構(gòu)。

本發(fā)明提供的柔性基板包括層疊設(shè)置的第一有機層和無機緩沖層,第一有機層與無機緩沖層形成有機-無機復合結(jié)構(gòu),第一有機層與無機緩沖層之間具有層間界面,由于無機材料的膨脹系數(shù)小于有機材料的膨脹系數(shù),因而無機緩沖層的膨脹系數(shù)小于第一有機層的膨脹系數(shù),因而在形成有機-無機復合結(jié)構(gòu)的第一有機層和無機緩沖層的層間界面的相互作用下,本發(fā)明提供的柔性基板的膨脹系數(shù)相對只采用有機材料形成的柔性基板的膨脹系數(shù)降低,因此,本發(fā)明提供的柔性基板的膨脹系數(shù)與剛性輔助基板的膨脹系數(shù)更匹配,從而可以降低剛性輔助基板發(fā)生翹曲的風險,進而提高制備顯示器件時的工藝精度。

附圖說明

此處所說明的附圖用來提供對本發(fā)明的進一步理解,構(gòu)成本發(fā)明的一部分,本發(fā)明的示意性實施例及其說明用于解釋本發(fā)明,并不構(gòu)成對本發(fā)明的不當限定。在附圖中:

圖1位本發(fā)明實施例提供的一種柔性基板的結(jié)構(gòu)示意圖;

圖2為本發(fā)明實施例提供的另一種柔性基板的結(jié)構(gòu)示意圖;

圖3為本發(fā)明實施例提供的柔性基板、單層有機柔性基板和玻璃基板在不同溫度下的形變率的對比圖;

圖4為本發(fā)明實施例提供的柔性顯示裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;

圖5為本發(fā)明實施例提供的柔性基板的制備方法的流程圖一;

圖6為本發(fā)明實施例提供的柔性基板的制備方法的流程圖二;

圖7為本發(fā)明實施例提供的柔性基板的制備方法的流程圖三;

圖8為本發(fā)明實施例提供的柔性顯示裝置的制備方法的流程圖。

附圖標記:

10-剛性輔助基板, 20-柔性基板,

21-第一有機層, 22-無機緩沖層,

23-第二有機層, 30-顯示器件,

40-柔性封裝層。

具體實施方式

為了進一步說明本發(fā)明實施例提供的柔性基板及其制備方法、柔性顯示裝置,下面結(jié)合說明書附圖進行詳細描述。

請參閱圖1,本發(fā)明實施例提供的柔性基板20包括依次層疊設(shè)置的第一有機層21和無機緩沖層22,第一有機層21與無機緩沖層22形成有機-無機復合結(jié)構(gòu)。具體地,在制備柔性基板20時,先在剛性輔助基板10上形成第一有機層21,然后可以對第一有機層21背向剛性輔助基板10的表面進行清潔和活化,例如,采用等離子處理對第一有機層21背向剛性輔助基板10的表面進行清潔和活化,然后在第一有機層21上層疊形成無機緩沖層22,無機緩沖層22與第一有機層21緊密貼合,第一有機層21與無機緩沖層22形成有機-無機復合結(jié)構(gòu)。

本發(fā)明實施例提供的柔性基板20包括層疊設(shè)置的第一有機層21和無機緩沖層22,第一有機層21與無機緩沖層22形成有機-無機復合結(jié)構(gòu),第一有機層21與無機緩沖層22之間具有層間界面,由于無機材料的膨脹系數(shù)小于有機材料的膨脹系數(shù),因而無機緩沖層22的膨脹系數(shù)小于第一有機層21的膨脹系數(shù),因而在形成有機-無機復合結(jié)構(gòu)的第一有機層21和無機緩沖層22的層間界面的相互作用下,本發(fā)明實施例提供的柔性基板20的膨脹系數(shù)相對只采用有機材料形成的柔性基板的膨脹系數(shù)降低,因此,本發(fā)明實施例提供的柔性基板20的膨脹系數(shù)降低,即本發(fā)明實施例提供的柔性基板20的膨脹系數(shù)與剛性輔助基板10的膨脹系數(shù)更匹配,從而可以降低剛性輔助基板10發(fā)生翹曲的風險,進而提高制備顯示器件時的工藝精度。

另外,由于本發(fā)明實施例提供的柔性基板20的膨脹系數(shù)與剛性輔助基板10的膨脹系數(shù)更匹配,可以降低剛性輔助基板10發(fā)生翹曲的風險,從而可以減小制備顯示器件時的工藝誤差。

再者,由于本發(fā)明實施例提供的柔性基板20的膨脹系數(shù)與剛性輔助基板10的膨脹系數(shù)更匹配,可以降低剛性輔助基板10發(fā)生翹曲的風險,從而可以減小制備顯示器件時的工藝誤差,因此,可以便于制備高分辨率的柔性顯示裝置。

對本發(fā)明實施例提供的柔性基板20、單層有機柔性基板和玻璃基板分別進行熱機械分析(Thermal Mechanical Analysis,TMA),如圖3所示,可以看出,玻璃基板作為剛性輔助基板10時,相比于單層有機柔性基板,本發(fā)明實施例提供的柔性基板20在不同溫度下的形變率與剛性輔助基板10即玻璃基板在不同溫度下的形變率更匹配,尤其是在350℃以上的高溫下,相比于單層有機柔性基板,本發(fā)明實施例提供的柔性基板20在不同溫度下的形變率與剛性輔助基板10即玻璃基板在不同溫度下的形變率更匹配,因此,本發(fā)明實施例提供的柔性基板20可以更加適應制備柔性顯示裝置時的高溫要求,例如,對于采用低溫多晶硅(Low Temperature Poly-Silicon,LTPS)技術(shù)的柔性顯示裝置,在制備時,通常需要400℃以上的高溫進行,由于本發(fā)明實施例提供的柔性基板20在350℃以上的溫度下的形變率與剛性輔助基板10即玻璃基板在350℃以上的溫度下的形變率更匹配,因此,柔性顯示裝置采用本發(fā)明實施例提供的柔性基板20時,制備柔性顯示裝置時,可以防止剛性輔助基板10發(fā)生翹曲的現(xiàn)象,從而提高制備顯示器件時的工藝精度,降低制備顯示器件時的工藝誤差。

請繼續(xù)參閱圖2,本發(fā)明實施例提供的柔性基板20還包括設(shè)置在無機緩沖層22背向第一有機層21的表面上的第二有機層23。第二有機層23的設(shè)置,可以對無機緩沖層22進行保護,使無機緩沖層22朝向第一有機層21的表面所受的應力與無機緩沖層22朝向第二有機層23的表面所受的應力相匹配,防止無機緩沖層22因受到的應力不均而導致無機緩沖層22發(fā)生開裂。另外,第二有機層23的設(shè)置,第二有機層23、無機緩沖層22和第一有機層21共同形成有機-無機-有機的層疊結(jié)構(gòu),在第一有機層21與無機緩沖層22之間的作用下,以及在無機緩沖層22與第二有機層23之間的作用下,進一步降低柔性基板20的膨脹系數(shù),從而進一步降低剛性輔助基板10發(fā)生翹曲的風險,進而提高制備顯示器件時的工藝精度。

在實際應用中,第一有機層21可以包括一層有機材料層,也可以包括多層有機材料層;第二有機層23可以包括一層有機材料層,也可以包括多層有機材料層,當?shù)诙袡C層23包括多層有機材料層時,在多層有機材料層內(nèi)也可以插入無機材料層;無機緩沖層22可以包括一層無機材料層,也可以包括多層無機材料層。

在本發(fā)明實施例中,第二有機層23內(nèi)摻雜有納米無機粒子。在第二有機層23內(nèi)摻雜納米無機粒子,可以增加第二有機層23與無機緩沖層22之間的粘接效果,防止第二有機層23與無機緩沖層22之間發(fā)生層間分離的現(xiàn)象。另外,在第二有機層23內(nèi)摻雜納米無機粒子,可以降低第二有機層23的膨脹系數(shù),從而進一步降低柔性基板20的膨脹系數(shù),從而進一步降低剛性輔助基板10發(fā)生翹曲的風險,進而提高制備顯示器件時的工藝精度。

值得一提的是,第一有機層21內(nèi)也可以摻雜納米無機粒子,以增加第一有機層21與無機緩沖層22之間的粘接效果,防止第一有機層21與無機緩沖層22之間發(fā)生層間分離的現(xiàn)象,并同時降低第一有機層21的膨脹系數(shù)。

在上述實施例中,第一有機層21的材料可以為多種,例如,聚酰亞胺、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚芳酯、聚碳酸脂、聚醚酰亞胺或聚醚砜,其中,第一有機層21的材料優(yōu)選為聚酰亞胺。

第二有機層23的材料可以為多種,例如,聚酰亞胺、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚芳酯、聚碳酸脂、聚醚酰亞胺或聚醚砜,其中,第二有機層23的材料優(yōu)選為聚酰亞胺。

納米無機粒子的材料可以為多種,例如,二氧化硅、氧化鋁或氧化鈦,其中納米無機粒子的材料優(yōu)選為二氧化硅。

無機緩沖層22的材料可以為多種,例如,無機緩沖層22可以為氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、氧化鋁等,或者,無機緩沖層22可以為氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、氧化鋁中的多種。優(yōu)選地,無機緩沖層22的材料為氧化硅、氮化硅、氮氧化硅中的至少一種,例如,無機緩沖層22的材料為氧化硅,或者,無機緩沖層22的材料為氮化硅,或者,無機緩沖層22的材料為氮氧化硅,或者,無機緩沖層22的材料為氧化硅和氮化硅,此時,無機緩沖層22包括氧化硅層和氮化硅層,或者,無機緩沖層22的材料為氧化硅和氮氧化硅,此時,無機緩沖層22包括氧化硅層和氮氧化硅層,或者,無機緩沖層22的材料為氮化硅和氮氧化硅,此時,無機緩沖層22包括氮化硅層和氮氧化硅層,或者,無機緩沖層22的材料為氧化硅、氮化硅和氮氧化硅,此時,無機緩沖層22包括氧化硅層、氮化硅層和氮氧化硅層。

在上述實施例中,第一有機層21的厚度、無機緩沖層22的厚度和第二有機層23的厚度可以根據(jù)實際需要和實際制備能力進行設(shè)定,例如,第一有機層21的厚度和第二有機層23的厚度可以大于或等于2μm,無機緩沖層22的厚度可以為100nm~600nm,如無機緩沖層22的厚度可以為100nm、300nm或600nm。

請參閱圖4,本發(fā)明實施例還提供一種柔性顯示裝置,包括如上述實施例所述的柔性基板20、顯示器件30和柔性封裝層40,其中,顯示器件30位于柔性基板20的無機緩沖層22背向柔性基板20的第一有機層21的一側(cè);柔性封裝層40覆蓋柔性基板20和顯示器件30,柔性封裝層40將顯示器件30封裝在柔性基板20與柔性封裝層40之間。

所述柔性顯示裝置與上述柔性基板相對于現(xiàn)有技術(shù)所具有的優(yōu)勢相同,在此不再贅述。

請參閱圖5,本發(fā)明實施例還提供一種柔性基板的制備方法,用于制備如上述實施例所述的柔性基板,柔性基板的制備方法包括:

步驟S100、在剛性輔助基板上形成第一有機層;

步驟S200、在第一有機層上形成無機緩沖層,第一有機層與無機緩沖層形成有機-無機復合結(jié)構(gòu)。

具體實施時,步驟S100中,可以先提供形成第一有機層的有機材料的涂布液,例如,聚酰亞胺涂布液,然后通過涂布、噴涂、印刷等方式,將形成第一有機層的有機材料的涂布液覆在剛性輔助基板例如玻璃基板上,待形成第一有機層的有機材料的涂布液干燥固化后,即可以形成第一有機層;完成第一有機層的形成后,可以對第一有機層背向剛性輔助基板的表面進行等離子處理,以對第一有機層背向剛性輔助基板的表面進行清潔和活化,便于無機緩沖層與第一有機層緊密貼合;步驟S200中,完成第一有機層的形成后,可以采用等離子體增強化學氣相沉積法(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition,PECVD),在第一有機層上形成無機緩沖層,無機緩沖層與第一有機層緊密貼合,第一有機層與無機緩沖層形成有機-無機復合結(jié)構(gòu)。

本說明書中的各個實施例均采用遞進的方式描述,各個實施例之間相同相似的部分互相參見即可,每個實施例重點說明的都是與其他實施例的不同之處。尤其,對于方法實施例而言,由于其基本相似于產(chǎn)品實施例,所以描述得比較簡單,相關(guān)之處參見產(chǎn)品實施例的部分說明即可。

在發(fā)明實施例中,柔性基板還包括層疊設(shè)置在無機緩沖層背向第一有機層的表面上的第二有機層。請繼續(xù)參閱圖5,步驟S200、在第一有機層上形成無機緩沖層之后,本發(fā)明實施例提供的柔性基板的制備方法還包括:

步驟S300、在無機緩沖層上形成第二有機層,第二有機層內(nèi)摻雜有納米無機粒子。

在上述實施例中,步驟S300、在無機緩沖層上形成第二有機層時,可以采用如下兩種方式,具體地:

方式一,請參閱圖6,步驟S300、在無機緩沖層上的形成第二有機層包括:

步驟S310、提供形成第二有機層的有機材料的涂布液;

步驟S320、向形成涂布液中添加納米無機粒子,并混合均勻;

步驟S330、在無機緩沖層上涂覆混合有納米無機粒子的涂布液,混合有納米無機粒子的涂布液固化后,形成第二有機層。

舉例來說,形成第二有機層的有機材料可以為聚酰亞胺,即第二有機層的材料為聚酰亞胺,納米無機粒子的材料為二氧化硅,在無機緩沖層上形成第二有機層時,可以先提供聚酰亞胺涂布液,然后向聚酰亞胺涂布液中添加納米二氧化硅粒子,并混合均勻;然后采用涂布、噴涂、印刷等方式,將混合有納米二氧化硅粒子的聚酰亞胺涂布液涂覆在無機緩沖層上,混合有納米二氧化硅粒子的聚酰亞胺涂布液干燥固化后,形成第二有機層。

在無機緩沖層上形成第二有機層還可以采用下列方式。

方式二,請參閱圖7,步驟S300、在無機緩沖層上的形成第二有機層包括:

步驟S310、提供形成第二有機層的有機材料的涂布液;

步驟S350、向涂布液中添加納米無機粒子前驅(qū)體,并混合均勻;

步驟S360、在無機緩沖層上涂覆混合有納米無機粒子前驅(qū)體的涂布液,混合有納米無機粒子前驅(qū)體的涂布液固化,納米無機粒子前驅(qū)體轉(zhuǎn)化為納米無機粒子,形成第二有機層。

舉例來說,形成第二有機層的有機材料可以為聚酰亞胺,即第二有機層的材料為聚酰亞胺,納米無機粒子的材料為二氧化硅,此時,納米無機粒子前驅(qū)體可以為正硅酸乙酯(Si(OC2H5)4),在無機緩沖層上形成第二有機層時,可以先提供聚酰亞胺涂布液,然后向聚酰亞胺涂布液中添加正硅酸乙酯,并混合均勻;然后采用涂布、噴涂、印刷等方式,將混合有正硅酸乙酯的聚酰亞胺涂布液涂覆在無機緩沖層上,混合有正硅酸乙酯的聚酰亞胺涂布液干燥固化過程中,正硅酸乙酯在聚酰亞胺中發(fā)生原位反應,生成納米二氧化硅粒子,納米二氧化硅粒子摻雜在聚酰亞胺中,形成第二有機層。

請參閱圖8,本發(fā)明實施例還提供一種柔性顯示裝置的制備方法,包括上述實施例所述的柔性基板的制備方法,具體地,柔性顯示裝置的制備方法包括:

步驟S100、在剛性輔助基板上形成第一有機層;

步驟S200、在第一有機層上形成無機緩沖層,第一有機層與無機緩沖層形成有機-無機復合結(jié)構(gòu);

步驟S300、在無機緩沖層上形成第二有機層,第二有機層內(nèi)摻雜有納米無機粒子;

步驟S400、在第二有機層上形成顯示器件;

步驟S500、在第二有機層和顯示器件上形成柔性封裝層;

步驟S600、將第一有機層與剛性輔助基板分離,完成柔性顯示裝置的制備。

上述實施例中,顯示器件包括驅(qū)動器件和OLED發(fā)光器件,其中,驅(qū)動器件可以為薄膜晶體管,OLED發(fā)光器件可以包括陽極、陰極以及位于陽極和陰極之間的有機發(fā)光層。

在上述實施方式的描述中,具體特征、結(jié)構(gòu)、材料或者特點可以在任何的一個或多個實施例或示例中以合適的方式結(jié)合。

以上所述,僅為本發(fā)明的具體實施方式,但本發(fā)明的保護范圍并不局限于此,任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi),可輕易想到變化或替換,都應涵蓋在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。因此,本發(fā)明的保護范圍應以所述權(quán)利要求的保護范圍為準。

當前第1頁1 2 3 
網(wǎng)友詢問留言 已有0條留言
  • 還沒有人留言評論。精彩留言會獲得點贊!
1