本發(fā)明涉及一種按照權(quán)利要求1的前序部分所述的具有繞組載體的勵(lì)磁線圈以及一種按照獨(dú)立的方法權(quán)利要求的前序部分所述的用于在勵(lì)磁線圈的繞組載體上安裝繞組的方法。
背景技術(shù):
勵(lì)磁線圈被用于不同的應(yīng)用目的。內(nèi)燃機(jī)的啟動(dòng)裝置包括具有勵(lì)磁線圈的接通繼電器,該勵(lì)磁線圈具有用于不同任務(wù)的相同匝數(shù)的彼此處于同心的兩個(gè)繞組。在此,一個(gè)繞組用作所謂的拉入繞組,利用其執(zhí)行啟動(dòng)器的小齒輪的嚙合過程。另一個(gè)繞組用作保持繞組,利用其將已經(jīng)嚙合的小齒輪保持在其位置中。由于描述的兩個(gè)功能(嚙合過程和保持過程)的不同的力需求,拉入繞組和保持繞組的導(dǎo)線直徑不同。DE 10 2008 043 191 A1公開了這樣的接通繼電器。
對(duì)于勵(lì)磁線圈,由于生產(chǎn)技術(shù)的原因,通常需要在線圈的一側(cè)引出繞組末端。這在現(xiàn)有技術(shù)中通過偶數(shù)數(shù)量的繞組層來實(shí)現(xiàn),其中,去向繞組(Hinwicklung)構(gòu)成一個(gè)繞組層,并且接著的回向繞組(Rückwicklung)又構(gòu)成一個(gè)繞組層。此外,要求繞組層盡可能完全以繞組填充,其中,最大填充系數(shù)通過正交循環(huán)(orthozyklisch)繞組實(shí)現(xiàn)。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
根據(jù)本發(fā)明的具有權(quán)利要求1的特征的勵(lì)磁線圈具有如下優(yōu)點(diǎn),即,在繞組載體上可安裝具有高填充系數(shù)的奇數(shù)數(shù)量的繞組層,其中,在勵(lì)磁線圈的一側(cè)可引出繞組的兩個(gè)導(dǎo)線末端。這尤其通過如下方式實(shí)現(xiàn),即,具有匝間距離的去向繞組實(shí)施成使得回向繞組可引入到由此產(chǎn)生的匝間間隙中。由此,第一去向繞組和第一回向繞組構(gòu)成一個(gè)唯一的繞組層。然后可以彼此緊密貼靠的匝實(shí)施另外的繞組層,此時(shí),在其中去向繞組構(gòu)成一個(gè)繞組層,并且回向繞組構(gòu)成另一個(gè)繞組層。本發(fā)明由此能夠?qū)崿F(xiàn)制造具有奇數(shù)的繞組的勵(lì)磁線圈,在其中實(shí)現(xiàn)了高填充系數(shù),并且在勵(lì)磁線圈的一側(cè)可引出繞組末端。
根據(jù)本發(fā)明設(shè)置的定位元件在此確保在去向繞組的繞組層中保持所需的匝間距離,由此回向繞組可盡可能恰好匹配地嵌入匝間間隙中。此外,定位元件限定了交叉區(qū)域,在該交叉區(qū)域中,繞組層的回向繞組與去向繞組交叉。由此在交叉區(qū)域中以及也在由去向繞組和回向繞組組成的繞組層的其余區(qū)域中得出限定的繞組關(guān)系。
優(yōu)選地,定位元件構(gòu)造為窄的導(dǎo)板,其從繞組載體的基體或必要時(shí)也從中間層突出。環(huán)繞的導(dǎo)槽也可作為定位元件構(gòu)造在基體上,各匝具有間距的去向繞組可嵌入該導(dǎo)槽中。在任何情況下定位元件都可如此構(gòu)造,即,可在去向繞組的匝之間平齊地鋪設(shè)回向繞組。這可通過如下方式實(shí)現(xiàn),即,定位元件僅在下方區(qū)域中沿側(cè)向搭接去向繞組的匝。
為了使用于第一繞組層的去向繞組的定位元件不妨礙回向繞組的安裝,規(guī)定,從繞組載體突出的該定位元件的高度小于置于定位元件之間的繞組線的厚度。如果定位元件的高度小于繞組線的厚度的一半,則可實(shí)現(xiàn),去向繞組和回向繞組的繞組線可彼此緊密貼靠地纏繞到繞組載體上。
對(duì)于設(shè)置成在交叉區(qū)域中定位回向繞組的第二定位元件,可有利地如此選擇該第二定位元件的高度,使得該定位元件不高出回向繞組。這意味著,第二定位元件的高度雖然大于去向繞組的厚度,然而小于在交叉區(qū)域中的回向繞組的最大高度。第二定位元件有利地可具有相當(dāng)于繞組線的厚度的1.3倍至1.7倍的高度。
安裝在第一繞組層上的另外的繞組層優(yōu)選地實(shí)施為緊密相鄰的去向繞組和回向繞組,從而每個(gè)另外的去向繞組構(gòu)成一個(gè)繞組層,并且每個(gè)另外的回向繞組構(gòu)成一個(gè)繞組層。由此,具有奇數(shù)的繞組層的繞組可如此實(shí)施,使得可在繞組載體的一側(cè)引出兩個(gè)繞組末端。
勵(lì)磁線圈可具有第一下方繞組和第二上方繞組,其通過中間層彼此分開。此時(shí),在繞組數(shù)為奇數(shù)的情況下,上方繞組可以如下方繞組設(shè)置在勵(lì)磁線圈的基體上的情況相同的方式實(shí)施在中間層上。在此有利的是,中間層又構(gòu)造為具有定位元件的繞組載體,從而在中間層上可安裝由去向繞組和回向繞組組成的第一繞組層。此時(shí),在交叉區(qū)域之外在此錯(cuò)開空隙地并置地在一個(gè)層中實(shí)施去向繞組的匝和回向繞組的匝。由此可無問題地實(shí)現(xiàn),在奇數(shù)數(shù)量的繞組層的情況下同樣完成安裝在中間層上的上方繞組。
特別有利的是,在基體上的交叉區(qū)域和在中間層上的交叉區(qū)域相對(duì)于繞組載體的縱軸線不是沿徑向彼此相疊地布置,而是例如相向地布置,從而不增加兩個(gè)交叉區(qū)域的繞組加厚部。
此外,本發(fā)明涉及一種具有獨(dú)立的方法權(quán)利要求的特征的方法,其能夠?qū)崿F(xiàn)在勵(lì)磁線圈中構(gòu)造奇數(shù)的層數(shù)。由此可使繞組層的數(shù)量最優(yōu)地與相應(yīng)的要求相匹配,其中,盡管可在勵(lì)磁線圈的一側(cè)引出線圈的導(dǎo)線末端,這由于生產(chǎn)技術(shù)的原因通常是需要的或至少非常有利。
但是,通過根據(jù)本發(fā)明的繞組方法也可實(shí)施偶數(shù)的繞組層,該繞組層此時(shí)能夠在勵(lì)磁線圈的相對(duì)側(cè)引出繞組末端,只要這對(duì)于特定應(yīng)用情況是期望的。
附圖說明
下面借助在附圖中所示的實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步地闡述。其中:
圖1示出了具有構(gòu)造為板的定位元件的勵(lì)磁線圈的繞組載體,
圖2示出了圖1的具有安裝的去向繞組的繞組載體,
圖3示出了圖1的具有去向繞組和部分安裝的回向繞組的繞組載體,
圖4示出了圖1的具有完整安裝的去向繞組和回向繞組的繞組載體,
圖5示出了在圖1中顯示出的繞組載體的截面A-A,
圖6示出了圖1的具有中間層的勾畫出的位置的繞組載體,
圖7示出了如可使用在圖6的繞組載體中那樣的中間層的視圖,并且
圖8示出了勵(lì)磁線圈的縱剖面的上半部。
具體實(shí)施方式
圖1中所示的勵(lì)磁線圈的繞組載體1具有基本上旋轉(zhuǎn)對(duì)稱的基體2,該基體具有兩個(gè)側(cè)部的凸緣3、4。為了精確地定位待安裝的第一繞組層的各個(gè)匝,在基體2上可設(shè)置輪廓部或另外的定位元件。在所示的實(shí)施例中,設(shè)置有第一定位元件5和第二定位元件6,其中,第一定位元件5設(shè)置成用于定位待安裝在繞組載體1上的去向繞組7,如其在圖2中所示的那樣。為在圖3中部分地和在圖4中完整地示出的回向繞組8附加地設(shè)置有第二定位元件6,其在交叉區(qū)域9中少許突出超過去向繞組7。在此,可將回向繞組8與去向繞組7的各個(gè)匝在其中交叉的區(qū)域理解為交叉區(qū)域9。
第一定位元件5以小于繞組線10的厚度的高度從基體2突出。而第二定位元件6以大于繞組線10的厚度且小于繞組線10的雙倍厚度的高度從基體2突出。由此實(shí)現(xiàn)了,第二定位元件6一方面為用于在交叉區(qū)域9中的回向繞組8的側(cè)向引導(dǎo)部,并且另一方面不伸過在交叉區(qū)域9中的回向繞組8。
第二定位元件6特別地在圖1和圖2中可良好地看出,更確切地說,作為短的、傾斜示出的導(dǎo)板存在于交叉區(qū)域9中。
第一定位元件5在交叉區(qū)域9之外優(yōu)選地延伸通過基體2的整個(gè)剩余的側(cè)面,從而在交叉區(qū)域9之外,去向繞組7的匝可如此精確地定位,即,使得在留下的匝間間隙11中可恰好匹配地嵌入回向繞組8。在圖3中可看出,怎樣將回向繞組8嵌入匝間間隙11中。
圖4示出了線圈繞組的完整安裝的第一繞組層12,其中,第一繞組層12由去向繞組7和回向繞組8構(gòu)成。繞組線10的導(dǎo)線末端13、14由此可在勵(lì)磁線圈的繞組載體1的一側(cè)引出。然而,如果應(yīng)當(dāng)設(shè)置與圖4的圖示不同的另外的繞組層,則這些層中的每個(gè)可以常規(guī)的方式實(shí)施為去向繞組,并且然后作為另外的層實(shí)施為回向繞組,其中,相應(yīng)的匝彼此緊密貼靠。由此可在繞組載體1上安裝奇數(shù)數(shù)量的繞組層,其中,可一起在繞組載體1的一側(cè)引出導(dǎo)線末端13、14。由此以常規(guī)的方式實(shí)施在第一繞組層之后安裝的另外的繞組層。
圖5示出了根據(jù)圖1的截面A-A。該示圖尤其示出了在繞組載體1的基體2上突出的第一定位元件5和第二定位元件6的延伸和布置。交叉區(qū)域9在此在附圖中處于基體2的右側(cè),第二定位元件6位于此處。
與圖1不同,在圖5的截面視圖A-A中部分地示出了去向繞組7的繞組線10,更確切地說,僅示出了在交叉區(qū)域9之外的繞組線10。示出的繞組線10說明了,其少許突出超過第一定位元件5,然而具有比第二定位元件6的高度更小的厚度,該第二定位元件在交叉區(qū)域9中承擔(dān)對(duì)回向繞組8的定位功能。
圖6和圖7涉及具有中間層15的實(shí)施例,該中間層可安裝在此處未示出的第一繞組上,以便然后可在中間層15上安裝具有同樣奇數(shù)的繞組數(shù)量的第二繞組,在其中同樣可一起在繞組載體1的一側(cè)引出導(dǎo)線末端。在圖7中單獨(dú)示出的中間層15具有同在圖1至圖4和圖6中示出的繞組載體1中設(shè)置在基體2上的那樣的定位元件5、6。在圖6中,中間層15的位置以虛線表示。在基體2與隨后待安裝的中間層15之間的間隙16中可引入第一繞組,其例如設(shè)置成用于接通繼電器。然后在中間層15上可安裝第二繞組,其例如適用于保持接通的繼電器。由此可在繞組載體1上安裝不同的繞組,其能夠?qū)崿F(xiàn)不同強(qiáng)度的磁化。
圖8示出了勵(lì)磁線圈的縱剖面的上半部,其具有三個(gè)繞組層12、17、18?;叵蚶@組作為填滿黑色的導(dǎo)線橫截面示出。另外的圓形電線橫截面表示去向繞組。