技術(shù)總結(jié)
在一個實施方式的等離子體處理裝置中，在載置臺與處理容器之間設(shè)置有擋板構(gòu)造。擋板構(gòu)造具有第一構(gòu)件和第二構(gòu)件。第一構(gòu)件具有在載置臺與處理容器之間延伸的第一圓筒部，在鉛垂方向上長的多個貫通孔以沿周向排列的方式形成于該第一圓筒部。第二構(gòu)件具有第二圓筒部，該第二圓筒部具有比第一構(gòu)件的圓筒部的外徑大的內(nèi)徑。第二構(gòu)件通過驅(qū)動裝置而在包括第一構(gòu)件與處理容器之間的間隙的區(qū)域中上下移動。

技術(shù)研發(fā)人員：保坂勇貴;梅澤義弘;中島俊希
受保護(hù)的技術(shù)使用者：東京毅力科創(chuàng)株式會社
文檔號碼：201580025777
技術(shù)研發(fā)日：2015.06.05
技術(shù)公布日：2017.02.22