本發(fā)明涉及一種兩面發(fā)光OLED顯示屏，屬于電子器件領(lǐng)域。

背景技術(shù)：

有機(jī)電致發(fā)光器件OLED作為一種新產(chǎn)品，和現(xiàn)在主要的平板顯示器產(chǎn)品液晶相比，擁有很多優(yōu)點(diǎn)并具有很強(qiáng)的競(jìng)爭(zhēng)力，極有可能成為下一代平板顯示器的主流產(chǎn)品，有機(jī)電致發(fā)光器件的一般結(jié)構(gòu)是一種類似三明治結(jié)構(gòu)的薄膜器件，其上、下分別是負(fù)、正電極（對(duì)應(yīng)的也稱之為上電極和下電極），大多數(shù)有機(jī)電致發(fā)光器件使用透明的ITO薄膜作為正電極，光從這一側(cè)發(fā)出來，并且以剛性或柔性基板如玻璃、塑料、不銹鋼片等作為ITO薄膜和有機(jī)材料、上電極的支撐襯底；上電板一般采用具有反射功能的金屬膜作為負(fù)電板，二電極之間夾著單層或多層不同材料種類和不同結(jié)構(gòu)的有機(jī)材料功能層，依次為空洞注入層、空洞傳輸層、發(fā)光層、電子傳輸層、電子注入層。有機(jī)電致發(fā)光器件是電注入形發(fā)光組件，在正電極和負(fù)電極加上工作電壓之后，空穴從正電極，電子從負(fù)電極注入到工作器件有機(jī)材料層中，兩種載流子在有機(jī)發(fā)光材料中形成空穴--電子對(duì)發(fā)光，且光從下電極一側(cè)發(fā)出。

目前，市場(chǎng)上的產(chǎn)品基本都是以下發(fā)光顯示屏為主，若OLED顯示屏能同時(shí)滿足兩面通過獨(dú)立驅(qū)動(dòng)實(shí)現(xiàn)分別獨(dú)立發(fā)光，則會(huì)大大提高OLED顯示屏產(chǎn)品附加價(jià)。因此研發(fā)一種既可以實(shí)現(xiàn)兩面發(fā)光功能，又不增加制成本的設(shè)計(jì)是有意義的。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的是提出一種兩面發(fā)光OLED顯示屏。

為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明在同一玻璃基板至少分成了兩個(gè)發(fā)光區(qū)域，每個(gè)發(fā)光區(qū)陽(yáng)極位于同一玻璃基板上，其中一個(gè)發(fā)光區(qū)采用透明的電極作為陽(yáng)極，采用不透光的電極作為陰極；另一個(gè)發(fā)光區(qū)采用不透明的金屬作這陽(yáng)極，采用不透光的電極作為陰極；另一個(gè)發(fā)光區(qū)采用不透明的金屬作為陽(yáng)極，采半透光或透光的電極作為陰極；對(duì)應(yīng)陰陽(yáng)電極之間設(shè)置各個(gè)有機(jī)材料功能層，位于同一玻璃基板的陽(yáng)極各自控制對(duì)應(yīng)的陰極，實(shí)現(xiàn)各個(gè)發(fā)光區(qū)域獨(dú)立驅(qū)動(dòng)，獨(dú)立發(fā)光。

兩面發(fā)光OLED顯示屏的制作方法，包括以下步驟：

1、采用透光材料的襯底，在襯底上面覆蓋一層透明導(dǎo)電薄膜，然后再覆蓋一層不透光的金屬電極，形成基板；在基板上酸刻一部分不透光的金屬；

2、酸刻出陽(yáng)極圖案，暴露出的透明導(dǎo)電薄膜區(qū)作為一個(gè)發(fā)光的陽(yáng)極，其余的不透光的金屬區(qū)作為另一個(gè)發(fā)光區(qū)的陽(yáng)極；

3、在基板上同時(shí)依次增鍍各個(gè)有機(jī)材料功能層；

4、分別在對(duì)應(yīng)透明導(dǎo)電薄膜區(qū)蒸鍍一層不透光的陰極，對(duì)就不透光的金屬區(qū)蒸鍍一層半透明或透明的陰極后，封裝。

本發(fā)明采用一個(gè)芯片，對(duì)各個(gè)發(fā)光顯示屏分別獨(dú)立驅(qū)動(dòng)、獨(dú)立發(fā)光，而且顯示發(fā)光區(qū)域的分布根據(jù)產(chǎn)品的要求，可以靈活多變。十分適用于手機(jī)主屏和副屏，或者其它需要雙面顯示功能的顯示屏。

附圖說明

圖1是兩面發(fā)光OLED顯示屏的平面視圖：

圖2是兩面發(fā)光OLED顯示屏的截面圖；

圖3是透明ITO電極區(qū)的OLED器件結(jié)構(gòu)；

圖4是不透光金屬電極區(qū)OLED器件結(jié)構(gòu)；

圖5是本發(fā)明的發(fā)光區(qū)域分布實(shí)施例一的平面視圖；

圖6是本發(fā)明的發(fā)光區(qū)域分布實(shí)施例二的平面視圖。

具體實(shí)施方式

如圖1所示，一種兩面發(fā)光OLED顯示屏，在玻璃基板上分布了兩個(gè)區(qū)域，分別對(duì)應(yīng)下發(fā)光區(qū)和上發(fā)光區(qū)，采用透明的ITO電極作為下發(fā)光區(qū)OLED器件的陽(yáng)極，透明陽(yáng)極還可以用AZO，半透明金屬薄膜及高分子有機(jī)膜，采用不透光的電極作為下發(fā)光區(qū)OLED器件的陰極，實(shí)現(xiàn)下發(fā)光，不透光陰極主要是利用電子注入的一些低功函數(shù)的金屬材料，如Al、Mg：Ag或Ca、Ba等。采用不透明的金屬作為上發(fā)光區(qū)OLED器件的陽(yáng)極，不透光陽(yáng)極為高功函數(shù)的金屬材料，如Cr、Ag、Cu、Au、Pt、Mo等；采用半透光或透光的電極作為上發(fā)光區(qū)OLED器件的陰極，實(shí)現(xiàn)上發(fā)光。上述的OLED器件可以為普通結(jié)構(gòu)器件，PII結(jié)構(gòu)器件，PIN結(jié)構(gòu)器件或者Stacked結(jié)構(gòu)器件。兩個(gè)陽(yáng)極即下發(fā)光區(qū)透明ITO電和上發(fā)光區(qū)不透明的電極位于同一個(gè)基板上，分別控制下發(fā)光區(qū)的不透光陰極和上發(fā)光區(qū)的透光陰極，實(shí)現(xiàn)雙面發(fā)光。

上述不透明或透明陰極為兩種金屬材料組成的兩層復(fù)合電極結(jié)構(gòu)，為了利于電子的注入，首先增鍍一層相對(duì)薄的、透明的低功函數(shù)的金屬，如Al，然后再增鍍一層透明的或半透明的金屬如Ag作為輔助電極，目的是減小電極的電阻。

為了使下發(fā)光區(qū)和上發(fā)光區(qū)分隔清晰，在兩發(fā)光區(qū)平面之間設(shè)置一個(gè)圖案隔離區(qū)30，因?yàn)橄掳l(fā)光區(qū)和上發(fā)光區(qū)的陰極是分別獨(dú)立蒸鍍完成的，所以可以通過設(shè)計(jì)鍍膜檔板實(shí)現(xiàn)；圖案隔離區(qū)可以使用高電率的、不透光的光刻膠保護(hù)，減小下發(fā)光區(qū)和上發(fā)光區(qū)在驅(qū)動(dòng)時(shí)的漏電流。

如圖2所示，表征了基板的基本組成結(jié)構(gòu)，有襯底10、透明電極11和不透明金屬電極20三部分組成。如圖3、圖4所示，透明ITO陽(yáng)極區(qū)的OLED器件結(jié)構(gòu)包括玻璃襯底10，置于襯底上的透明ITO陽(yáng)極11，置于陽(yáng)極上的空洞注入層12，置于空洞注入層上的空洞傳輸層13，置于空洞傳輸層上的發(fā)光層14，置于發(fā)光層上的電子傳輸層15，置于電子傳輸層上的電子注入層16，置于電子注入層上面的陰極17，不透光的金屬陽(yáng)極區(qū)的OLED器件結(jié)構(gòu)包括作為陽(yáng)極的不透明電極，置于陽(yáng)極上的空洞注入層12，置于空洞注入層上的空洞傳輸層13，置于空洞傳輸層上的發(fā)光層14，置于發(fā)光層上的電子傳輸層15，置于電子傳輸層上的電子注入層16，置于電子注入層上面的陰極18。其中透明ITO電極區(qū)的電子層上的陰極17是不透光的，面置于不透光金屬陽(yáng)極區(qū)的電子注入層的陰極18卻是透明或半透明的，兩者是分別獨(dú)立制作完成的，通過調(diào)節(jié)兩者的不同膜厚來調(diào)節(jié)光的透過率，制作時(shí)，兩對(duì)陰陽(yáng)極之間的上述各有機(jī)功能層可以同時(shí)依次增鍍。

制作時(shí)在同一基板上還可以設(shè)置多對(duì)陰陽(yáng)極結(jié)構(gòu)，使發(fā)光OLED顯示屏中的獨(dú)立發(fā)光區(qū)域的分布可以靈活多變（如圖5），以滿足具體產(chǎn)品設(shè)計(jì)的各種需要，各發(fā)光面獨(dú)立發(fā)光，獨(dú)立驅(qū)動(dòng)，可以制作單色、雙色、三色甚至全彩顯示屏。圖6中在顯示屏中另外設(shè)置一個(gè)背景光源或信息顯示背景燈，使顯示屏發(fā)光區(qū)域的分布更加豐富。

上述兩面發(fā)光OLED顯示屏的詳細(xì)制作過程，主要包括以下步驟：

1、采用玻璃透明襯底，在襯底上面覆蓋一層透明ITO導(dǎo)電薄膜，然后現(xiàn)覆蓋一層不透光的Ag金屬薄膜，形成基板；

2、基板經(jīng)過前清洗，旋涂一層光刻膠，固化、曝光、顯影以后，在基板上酸刻部分不透光的Ag金屬薄膜；

3、然后再經(jīng)過前清洗，旋涂一層光刻膠，固化、曝光、顯影后，酸刻出條形陽(yáng)極圖案；暴露出的透明ITO導(dǎo)電薄膜區(qū)作為一個(gè)下發(fā)光區(qū)的陽(yáng)極，其作的不透光的Ag金屬區(qū)作為上發(fā)光區(qū)的陽(yáng)極；

4、制作陰極隔離柱；

5、采用相同的掩膜板在基板上同時(shí)依次蒸鍍空洞注入層、空洞傳輸層、發(fā)光層、電子傳輸層、電子注入層這些有機(jī)材料功能層；

6、最后，采用不同的掩膜板分別在對(duì)應(yīng)于透明導(dǎo)電薄膜區(qū)蒸鍍一層不透光的陰極，對(duì)應(yīng)于不透光的Ag金屬區(qū)蒸鍍一層透明的陰極后，封裝。

另外，在對(duì)應(yīng)不透光的金屬區(qū)也可以蒸鍍一層半透明陰極，蒸鍍后在半透明陰極上可再蒸鍍一層用于減少電極電阻的透明電極。或在半透明陰極上現(xiàn)蒸鍍一層用來減少微共振腔效應(yīng)的SiNx薄膜。