測(cè)定裝置、基板處理系統(tǒng)和測(cè)定方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種能夠?qū)崿F(xiàn)輕量化且廉價(jià)的測(cè)定裝置、基板處理系統(tǒng)和測(cè)定方法。實(shí)施方式的一個(gè)方式所涉及的測(cè)定裝置包括搬送部、拍攝部和測(cè)定部。搬送部搬送形成有圖案的基板。拍攝部配置于搬送部的上方，對(duì)載置于搬送部上的基板的圖案進(jìn)行拍攝。另外，測(cè)定部根據(jù)由拍攝部所拍攝的圖案的圖像信息來(lái)測(cè)定圖案的形狀。
【專利說(shuō)明】測(cè)定裝置、基板處理系統(tǒng)和測(cè)定方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明公開(kāi)的實(shí)施方式涉及測(cè)定裝置、基板處理系統(tǒng)和測(cè)定方法。

【背景技術(shù)】
[0002]近年來(lái)，在FPD(Flat Panel Display)制造中，通過(guò)光刻工藝在基板上形成圖案。在上述的光刻工藝中，在玻璃基板等被處理基板上形成規(guī)定的膜后，涂敷抗蝕劑，使用掩膜對(duì)形成于基板上的抗蝕劑膜進(jìn)行曝光使其成規(guī)定的圖案。然后，將曝光后的基板浸潰在顯影液中進(jìn)行顯影處理，從而在基板上形成圖案。
[0003]然而，提案有一種對(duì)于如上述方式形成的基板的圖案測(cè)定圖案的線寬的裝置。例如，在專利文獻(xiàn)I中公開(kāi)了一種技術(shù)，在石質(zhì)平臺(tái)之上載置吸附基板的吸附板，在吸附板之上載置并固定基板的狀態(tài)下，測(cè)定基板的圖案的線寬。
[0004]現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
[0005]專利文獻(xiàn)
[0006]專利文獻(xiàn)1:日本特開(kāi)2008 - 140816號(hào)公報(bào)


【發(fā)明內(nèi)容】

[0007]發(fā)明想要解決的技術(shù)問(wèn)題
[0008]但是，在上述現(xiàn)有技術(shù)中，石質(zhì)平臺(tái)采用大理石等制作，因此，有可能導(dǎo)致線寬測(cè)定裝置整體重量的增加，裝置價(jià)格變得昂貴。
[0009]實(shí)施方式的一個(gè)方式的目的在于，提供一種能夠?qū)崿F(xiàn)輕量化且廉價(jià)的測(cè)定裝置、基板處理系統(tǒng)和測(cè)定方法。
[0010]用于解決技術(shù)課題的技術(shù)方案
[0011]實(shí)施方式的一個(gè)方式所涉及的測(cè)定裝置包括搬送部、拍攝部和測(cè)定部。搬送部搬送形成有圖案的基板。拍攝部配置于上述搬送部的上方，對(duì)載置于上述搬送部上的上述基板的圖案進(jìn)行拍攝。另外，測(cè)定部根據(jù)由上述拍攝部所拍攝的所述圖案的圖像信息來(lái)測(cè)定上述圖案的形狀。
[0012]發(fā)明效果
[0013]根據(jù)實(shí)施方式的一個(gè)方式，在測(cè)定裝置中，能夠?qū)崿F(xiàn)輕量化且降低價(jià)格。

【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0014]圖1是表示第I實(shí)施方式所涉及的基板處理系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)的示意說(shuō)明圖。
[0015]圖2是表示圖1所示的線寬測(cè)定裝置的結(jié)構(gòu)的示意立體圖。
[0016]圖3是圖1所示的線寬測(cè)定裝置的塊圖。
[0017]圖4是基板的示意放大圖。
[0018]圖5是表示線寬測(cè)定處理的處理順序的流程圖。
[0019]圖6A是基板的示意平面圖。
[0020]圖6B是將圖6A所不的基板的一部分放大表不的不意放大平面圖。
[0021 ]圖7是表不基板的振動(dòng)的圖表。
[0022]圖8是表示在基板與第2基板測(cè)定的測(cè)定點(diǎn)的變形例的示意說(shuō)明圖。
[0023]圖9是表示第2實(shí)施方式所涉及的線寬測(cè)定裝置的結(jié)構(gòu)的示意立體圖。
[0024]圖10是表示第3實(shí)施方式所涉及的線寬測(cè)定處理的處理順序的流程圖。
[0025]圖11是表示第4實(shí)施方式所涉及的線寬測(cè)定處理的處理順序的流程圖。
[0026]附圖標(biāo)記說(shuō)明
[0027]I基板處理系統(tǒng)
[0028]11抗蝕劑涂敷裝置
[0029]12減壓干燥裝置
[0030]13預(yù)烘焙裝置
[0031]14冷卻裝置
[0032]15曝光裝置
[0033]16局部曝光裝置
[0034]17顯影裝置
[0035]18線寬測(cè)定裝置
[0036]20搬送部
[0037]30拍攝部
[0038]40移動(dòng)部
[0039]50測(cè)定控制裝置
[0040]51測(cè)定部
[0041]52存儲(chǔ)部
[0042]53反饋部
[0043]Cl ?C9 區(qū)域
[0044]D、Da、Db 測(cè)定點(diǎn)
[0045]G 基板

【具體實(shí)施方式】
[0046]下面，參照附圖，詳細(xì)的說(shuō)明本發(fā)明所公開(kāi)的測(cè)定裝置、基板處理系統(tǒng)和測(cè)定方法的實(shí)施方式。此外，本發(fā)明并不限于以下所示的實(shí)施方式。
[0047](第I實(shí)施方式)
[0048]< 1.基板處理系統(tǒng)>
[0049]首先，參照?qǐng)D1，對(duì)第I實(shí)施方式所涉及的基板處理系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)進(jìn)行說(shuō)明。圖1是表示第I實(shí)施方式所涉及的基板處理系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)的示意說(shuō)明圖。
[0050]圖1所示的第I實(shí)施方式所涉及的基板處理系統(tǒng)I是在被處理基板G(以下稱作“基板G”。圖1中未圖示)上進(jìn)行通過(guò)光刻工藝形成圖案的處理的單元。
[0051]基板處理系統(tǒng)I包括:抗蝕劑涂敷裝置11 ;減壓干燥裝置12 ;預(yù)烘焙裝置13 ;冷卻裝置14 ;曝光裝置15 ;局部曝光裝置16 ;顯影裝置17 ;和線寬測(cè)定裝置18。上述各個(gè)裝置11?18在X軸正方向上以該順序連接為一體。此外，上述線寬測(cè)定裝置18相當(dāng)于測(cè)定裝置的一個(gè)例子。
[0052]此外，對(duì)于局部曝光裝置16的配置位置，并不限于上述的曝光裝置15的后級(jí)。即，例如也可以將局部曝光裝置16配置于預(yù)烘焙裝置13的后級(jí)、或者冷卻裝置14的后級(jí)。
[0053]上述各個(gè)裝置11?18沿著X軸正方向搬送基板G。用圖1中未圖示的搬送機(jī)構(gòu)連接。因此，基板G由搬送機(jī)構(gòu)搬送，并通過(guò)各個(gè)裝置11?18，從而形成圖案。如上所述，在基板處理系統(tǒng)I中，將各個(gè)裝置11?18內(nèi)聯(lián)機(jī)化，進(jìn)行光刻工藝。另外，在基板處理系統(tǒng)I中，每規(guī)定時(shí)間或者以規(guī)定的間隔依次利用搬送機(jī)構(gòu)搬送基板G。
[0054]基板處理系統(tǒng)I的抗蝕劑涂敷裝置11在基板G上涂敷具有感光性的抗蝕劑。此夕卜，作為上述抗蝕劑，也能夠適用正性抗蝕劑和負(fù)性抗蝕劑的任意一種。
[0055]減壓干燥裝置12在被減壓后的腔內(nèi)配置基板G，使形成于基板G上的抗蝕劑膜干燥。預(yù)烘焙裝置13對(duì)基板G進(jìn)行加熱處理以使抗蝕劑膜的溶劑蒸發(fā)，將抗蝕劑膜固定在基板G上。冷卻裝置14將在預(yù)烘焙裝置13中被加熱的基板G冷卻至規(guī)定溫度。
[0056]曝光裝置15使用掩膜對(duì)形成于基板G上的抗蝕劑膜進(jìn)行曝光使其成規(guī)定的圖案。為了抑制例如在形成于基板G上的圖案中產(chǎn)生不均，局部曝光裝置16對(duì)抗蝕劑膜進(jìn)行局部曝光。即，例如，假設(shè)在形成于基板G上的圖案的線寬與所期待的線寬不同的情況下，在局部曝光裝置16中，對(duì)該不同的部位進(jìn)行局部曝光，使得對(duì)圖案的線寬進(jìn)行修正。
[0057]顯影裝置17將被曝光裝置15和局部曝光裝置16曝光后的基板G浸潰在顯影液中進(jìn)行顯影處理，在基板G上形成圖案。線寬測(cè)定裝置18根據(jù)顯影裝置17中的顯影處理來(lái)測(cè)定形成于基板G上的圖案的線寬。
[0058]此外，在上述說(shuō)明中，測(cè)定對(duì)象為圖案的線寬，但是這僅是舉例并不限于此。S卩，作為測(cè)定對(duì)象，只要是關(guān)于圖案的形狀，也可以是任意的。具體而言，測(cè)定圖案的長(zhǎng)度和粗度等尺寸、曲率、布局、以及圖案的缺損和變形等有關(guān)圖案的形狀的方面。
[0059]但是，作為測(cè)定基板的圖案的線寬的裝置，例如已知有一種現(xiàn)有技術(shù)，在石質(zhì)平臺(tái)上載置吸附板，在吸附板之上載置并固定基板的狀態(tài)下，測(cè)定基板的圖案的線寬。但是，在這種現(xiàn)有技術(shù)的情況下，石質(zhì)平臺(tái)采用大理石等制作，因此，有可能導(dǎo)致線寬測(cè)定裝置整體重量的增加并且裝置變得昂貴。
[0060]因此，在第I實(shí)施方式所涉及的線寬測(cè)定裝置18中，在搬送基板G的搬送部的上方配置拍攝部，對(duì)載置在搬送部上的基板G的圖案進(jìn)行拍攝。根據(jù)由拍攝部所拍攝的圖案的圖像信息來(lái)測(cè)定圖案的線寬。由此，與配備石質(zhì)平臺(tái)等的裝置相比，能夠?qū)崿F(xiàn)線寬測(cè)定裝置18的輕量化，并且能夠降低線寬測(cè)定裝置18的價(jià)格。
[0061]另外，在現(xiàn)有技術(shù)中，在載置基板的部位使用石質(zhì)平臺(tái)和衰減機(jī)構(gòu)等，由此抑制基板的振動(dòng)，并且測(cè)定圖案的線寬。與此相反，在第I實(shí)施方式所涉及的線寬測(cè)定裝置18中，將基板G載置在搬送部中，因此，搬送部的振動(dòng)進(jìn)行傳播，使基板G也振動(dòng)。
[0062]因此，對(duì)于本實(shí)施方式，根據(jù)由拍攝部所拍攝的圖案的圖像信息計(jì)算圖案的邊緣強(qiáng)度。而且，在計(jì)算出的邊緣強(qiáng)度在規(guī)定的邊緣強(qiáng)度以上的情況下、即由拍攝部所拍攝的圖像對(duì)焦的情況下，根據(jù)所拍攝的圖像信息來(lái)測(cè)定圖案的線寬。由此，在基板G被載置在搬送部之上發(fā)生振動(dòng)的情況下，也能夠測(cè)定圖案的線寬。
[0063]< 2.線寬測(cè)定裝置的結(jié)構(gòu)>
[0064]下面，對(duì)線寬測(cè)定裝置18的結(jié)構(gòu)以及使用線寬測(cè)定裝置18所進(jìn)行的基板G的圖案的線寬測(cè)定處理進(jìn)行詳細(xì)的說(shuō)明。圖2是表示線寬測(cè)定裝置18的結(jié)構(gòu)的示意立體圖。此夕卜，在以下說(shuō)明中，如圖2所示，規(guī)定與上述X軸方向正交的Y軸方向和Z軸方向，將Z軸正方向作為鉛垂向上方向。
[0065]如圖2所示，線寬測(cè)定裝置18包括:搬送部20 ;拍攝部30 ;移動(dòng)部40 ;和測(cè)定控制裝置50。搬送部20例如是輥式輸送機(jī)，通過(guò)使多個(gè)輥21旋轉(zhuǎn)，將載置在輥21上的基板G在水平方向、具體而言向X軸的正方向上搬送。此外，在圖2中，將輥21透視表示。
[0066]搬送部20是上述基板處理系統(tǒng)I的搬送機(jī)構(gòu)的一部分。因此，搬送部20在基板處理系統(tǒng)I中搬送從配置于線寬測(cè)定裝置18的前級(jí)的顯影裝置17搬出的基板G。
[0067]另外，搬送部20的操作、詳細(xì)而言輥21的旋轉(zhuǎn)操作由測(cè)定控制裝置50控制。此夕卜，此處，搬送部20采用輥式輸送機(jī)，但是并不限于此，例如也可以是皮帶輸送機(jī)和鏈?zhǔn)捷斔蜋C(jī)等其它的搬送機(jī)構(gòu)。
[0068]另外，在搬送部20中，在搬送基板G的搬送面附近設(shè)置有多個(gè)(例如4個(gè))由虛線所示的基板位置檢測(cè)部22。在基板G位于上方的情況下，基板位置檢測(cè)部22將檢測(cè)信號(hào)向測(cè)定控制裝置50輸出。作為基板位置檢測(cè)部22，例如能夠使用光學(xué)式負(fù)載傳感器。
[0069]此外，如后所述，在測(cè)定控制裝置50中，根據(jù)基板位置檢測(cè)部22的檢測(cè)信號(hào)，判定基板G是否被載置在規(guī)定的位置，因此，基板位置檢測(cè)部22配置于載置在規(guī)定位置的基板G的下方。另外，在上述說(shuō)明中，基板位置檢測(cè)部22的個(gè)數(shù)為4個(gè)，但這只是例示，也可以是3個(gè)以下或者5個(gè)以上。
[0070]拍攝部30配置于搬送部20的Z軸方向上的上方，從上方對(duì)載置在搬送部20上的基板G的圖案進(jìn)行拍攝。作為拍攝部30，例如能夠使用CCD (Charge Coupled Device，電荷耦合元件)照相機(jī)。將由拍攝部30所拍攝的圖像信息輸入測(cè)定控制裝置50。
[0071]在拍攝部30的附近設(shè)置照相機(jī)高度測(cè)定部31。照相機(jī)高度測(cè)定部31是對(duì)從拍攝部30的透鏡至在基板G中形成圖案的圖案面(上表面)Ga的Z軸方向高度進(jìn)行測(cè)定的測(cè)定部。將照相機(jī)高度測(cè)定部31的測(cè)定結(jié)果輸入測(cè)定控制裝置50，用于調(diào)整拍攝部30的高度。此外，作為照相機(jī)高度測(cè)定部31，例如能夠使用激光位移計(jì)。
[0072]移動(dòng)部40將攝影部30相對(duì)于基板G的圖案面Ga在水平方向(X — Y軸方向)和垂直方向(Z方向)上移動(dòng)。具體而言，移動(dòng)部40包括:導(dǎo)軌部41 ;滑動(dòng)部42 ;和連結(jié)部43。
[0073]導(dǎo)軌部41分別配置于搬送部20的Y軸方向的兩端側(cè)，以沿著X軸方向延伸的方式設(shè)置?；瑒?dòng)部42以能夠滑動(dòng)的方式(能夠滑動(dòng))與各個(gè)導(dǎo)軌部41連接，由此能夠沿著導(dǎo)軌部41在X軸方向上直線運(yùn)動(dòng)。
[0074]連結(jié)部43連結(jié)滑動(dòng)部42彼此，并且以架設(shè)于基板G的上方的方式配置。拍攝部30以及照相機(jī)高度測(cè)定部31均隔著安裝板44以能夠在Y軸和Z軸方向上移動(dòng)的方式與連結(jié)部43連接。
[0075]省略了圖示，但是，移動(dòng)部40包括:使滑動(dòng)部42相對(duì)于導(dǎo)軌部41在X軸方向上移動(dòng)的驅(qū)動(dòng)源；和使拍攝部30等相對(duì)于連結(jié)部43在Y軸方向和Z軸方向上移動(dòng)的驅(qū)動(dòng)源。作為上述的驅(qū)動(dòng)源，例如能夠使用電動(dòng)機(jī)。由此，例如，測(cè)定控制裝置50控制移動(dòng)部40的驅(qū)動(dòng)源，從而能夠使拍攝部30相對(duì)于基板G在X、Y、Z軸方向的三個(gè)方向上移動(dòng)。
[0076]測(cè)定控制裝置50是控制線寬測(cè)定裝置18的操作的裝置。圖3是線寬測(cè)定裝置18的塊圖。
[0077]如圖3所示，測(cè)定控制裝置50是包括測(cè)定部51、存儲(chǔ)部52、反饋部53的計(jì)算機(jī)。此外，測(cè)定控制裝置50以能夠通信的方式分別與上述的局部曝光裝置16、搬送部20、基板位置檢測(cè)部22、拍攝部30、照相機(jī)高度測(cè)定部31、移動(dòng)部40等連接。
[0078]在存儲(chǔ)部52中收納控制線寬測(cè)定處理的程序。測(cè)定部51讀出并運(yùn)行存儲(chǔ)在存儲(chǔ)部52中的程序，由此來(lái)控制線寬測(cè)定裝置18的操作。
[0079]此外，該程序也可以存儲(chǔ)在計(jì)算機(jī)能夠讀取的存儲(chǔ)介質(zhì)中，從該存儲(chǔ)介質(zhì)將其安裝在測(cè)定控制裝置50的存儲(chǔ)部52中。作為計(jì)算機(jī)能夠讀取的存儲(chǔ)介質(zhì)，例如具有硬盤(HD)、軟盤(FD)、光盤(CD)、磁光盤(MO)、存儲(chǔ)卡等。
[0080]在存儲(chǔ)部52中還預(yù)先存儲(chǔ)有基板G的圖案信息(以下稱作“存儲(chǔ)圖案形狀”)和在基板G中測(cè)定了的圖案的位置信息。圖4是用來(lái)說(shuō)明該存儲(chǔ)圖案形狀與位置信息的基板G的示意放大圖。此外，此處，以要測(cè)定形成于基板G上的多個(gè)圖案中的、圖4中符號(hào)A所示的圖案P的線寬的情況為例進(jìn)行說(shuō)明。另外，在圖4中，為了便于理解，在圖案上標(biāo)注斜線表不。
[0081]如圖4所示，在測(cè)定了的圖案P的附近，如虛線包圍所示，存在相對(duì)于圖案P能夠作為標(biāo)記的形狀的圖案B。存儲(chǔ)部52將該圖案B的形狀作為“存儲(chǔ)圖案形狀B”預(yù)先存儲(chǔ)。存儲(chǔ)圖案形狀B是在線寬測(cè)定處理中，在推定由拍攝部30所拍攝的圖像信息是否包括所要測(cè)定的圖案P時(shí)而利用的，將在后面對(duì)此進(jìn)行說(shuō)明。
[0082]此外，存儲(chǔ)圖案形狀B在后述的每個(gè)測(cè)定點(diǎn)中都設(shè)定并存儲(chǔ)在存儲(chǔ)部52中。但是，例如在2個(gè)以上的測(cè)定點(diǎn)中，在存儲(chǔ)圖案形狀B為相同形狀的情況下，也可以在2個(gè)以上的測(cè)定點(diǎn)中共用存儲(chǔ)圖案形狀B。
[0083]另外，上述位置信息例如是在所拍攝的圖像中，表示測(cè)定點(diǎn)和與存儲(chǔ)圖案形狀B一致的圖案的相對(duì)位置的像素坐標(biāo)信息。詳細(xì)而言，在存儲(chǔ)圖案形狀B中，設(shè)定圖4所示的原點(diǎn)0，在像素坐標(biāo)信息中包括相對(duì)于原點(diǎn)O的測(cè)定點(diǎn)的起點(diǎn)位置XYl和終點(diǎn)位置XY2的信肩、O
[0084]具體而言，作為起點(diǎn)位置XYl，設(shè)定所要測(cè)定的圖案P的其中一方(圖4中上側(cè)的圖案P)的下端位置，作為終點(diǎn)位置XY2，設(shè)定所要測(cè)定的圖案P的另一方(圖4中下側(cè)的圖案P)的上端位置。測(cè)定上述起點(diǎn)位置XYl與終點(diǎn)位置XY2之間的距離作為“線寬A”。將在后面對(duì)該線寬A的測(cè)定進(jìn)行說(shuō)明。此外，例如在像素有4000X2000像素構(gòu)成的情況下，上述起點(diǎn)位置XYl和終點(diǎn)位置XY2的信息用該像素X、Y坐標(biāo)表示。
[0085]返回圖3的說(shuō)明，反饋部53將表示在線寬測(cè)定處理中測(cè)定了的圖案的線寬的數(shù)據(jù)向局部曝光裝置16反饋(送出)。在局部曝光裝置16中，比較所測(cè)定了的圖案的線寬與所期待的線寬，在具有偏差的情況下，計(jì)算其偏差量，根據(jù)計(jì)算出的偏差量，修正曝光的照度和在基板G中局部曝光的位置等。由此，修正后向局部曝光裝置16搬送的基板G，能夠在所修正的照度和基板G的位置進(jìn)行局部曝光，由此能夠?qū)⒒錑的圖案的線寬修正成所期待的線寬。
[0086]< 3.線寬測(cè)定裝置的處理>
[0087]下面，參照?qǐng)D5，對(duì)線寬測(cè)定裝置18所進(jìn)行的線寬測(cè)定處理的具體內(nèi)容進(jìn)行說(shuō)明。圖5是表示線寬測(cè)定處理的處理順序的流程圖。此外，在線寬測(cè)定裝置18中，根據(jù)測(cè)定控制裝置50的測(cè)定部51的控制，實(shí)施圖5所示的各個(gè)處理順序。
[0088]測(cè)定部51控制搬送部20的操作，搬送顯影處理后的基板G (步驟SI)。接下來(lái)，測(cè)定部51根據(jù)從基板位置檢測(cè)部22輸出的檢測(cè)信號(hào)，判定基板G是否載置于規(guī)定的位置(步驟S2)。此處，規(guī)定位置是指通過(guò)拍攝部30能夠拍攝圖案的基板G的位置。
[0089]測(cè)定部51判定基板G未載置于規(guī)定位置的情況下(步驟S2，否)，直接結(jié)束處理。另一方面，測(cè)定部51判定基板G載置于規(guī)定位置的情況下(步驟S2，是)，終止搬送部20的操作，使基板G停止(步驟S3)。
[0090]接下來(lái)，測(cè)定部51決定基板G中的圖案的測(cè)定點(diǎn)的位置，詳細(xì)而言這次要測(cè)定的圖案的位置(以下也稱作“測(cè)定點(diǎn)”)(步驟S4)。此處，對(duì)基板G的測(cè)定點(diǎn)進(jìn)行說(shuō)明。圖6A是基板G的示意平面圖。圖6B是將圖6A所示的基板G的一部分放大表示的示意放大平面圖。此外，在圖6A、圖6B中，為了便于理解，用X標(biāo)記表示測(cè)定點(diǎn)。
[0091]如圖6A所示，在基板G的圖案面Ga中存在多個(gè)測(cè)定點(diǎn)D。但是，如果對(duì)所有的這些測(cè)定點(diǎn)D測(cè)定圖案的線寬，則測(cè)定所需要的時(shí)間有可能變長(zhǎng)。
[0092]因此，在本實(shí)施方式中，將基板G的圖案面Ga劃分成多個(gè)區(qū)域，在所劃分的區(qū)域中的一個(gè)規(guī)定區(qū)域內(nèi)進(jìn)行線寬的測(cè)定。具體而言，如在圖6A中由虛線所示，將基板G的圖案面Ga分成多個(gè)(例如9個(gè))區(qū)域Cl?C9，在測(cè)定部51中能夠識(shí)別區(qū)域Cl?C9。而且，測(cè)定部51在區(qū)域Cl?C9中的一個(gè)規(guī)定區(qū)域(例如區(qū)域Cl)內(nèi)進(jìn)行線寬的測(cè)定。
[0093]圖6B放大表示區(qū)域Cl?C9中的一個(gè)區(qū)域Cl。如圖6B所示，在區(qū)域Cl中設(shè)定有多個(gè)(例如9個(gè))測(cè)定點(diǎn)D。上述步驟S4是決定該區(qū)域Cl內(nèi)的多個(gè)測(cè)定點(diǎn)D中的這次將要測(cè)定的測(cè)定點(diǎn)D的位置、具體而言測(cè)定點(diǎn)D的X軸方向位置、Y軸方向位置。
[0094]繼續(xù)說(shuō)明測(cè)定點(diǎn)D，測(cè)定部51依次測(cè)定該區(qū)域Cl內(nèi)的測(cè)定點(diǎn)D，在9個(gè)測(cè)定點(diǎn)D的測(cè)定結(jié)束時(shí)，結(jié)束這次的基板G的測(cè)定處理。
[0095]在線寬測(cè)定裝置18中，搬出結(jié)束測(cè)定的基板G，搬入下一個(gè)要測(cè)定的第2基板G2。在此情況下，測(cè)定部51通過(guò)移動(dòng)部40使拍攝部30向在第2基板G2中與規(guī)定區(qū)域(此處是基板G的區(qū)域Cl)對(duì)應(yīng)的區(qū)域、即不同于第2基板G2的區(qū)域Gl的區(qū)域(例如第2基板G2的區(qū)域C2)移動(dòng)，在其它的區(qū)域C2內(nèi)進(jìn)行圖案線寬的測(cè)定。
[0096]此外，在圖6A中，為了便于理解，將基板G與第2基板G2表示成相同的基板，第2基板G2是在搬出基板G后被搬入線寬測(cè)定裝置18的基板，因此，這些基板G與第2基板G2是不同的基板。
[0097]如上所述，測(cè)定部51將所要測(cè)定的區(qū)域例如依次從Cl變更為C2，從C2變更為C3。由此，例如在圖6A所示的將區(qū)域分成9個(gè)的例子中，測(cè)定9個(gè)傳送來(lái)的基板時(shí)，測(cè)定整個(gè)基板、詳細(xì)而言測(cè)定區(qū)域Cl?C9的測(cè)定點(diǎn)D中的線寬。由此，能夠整體有效地測(cè)定基板上的多個(gè)測(cè)定點(diǎn)D。另外，在一個(gè)基板中進(jìn)行測(cè)定的是一個(gè)區(qū)域，因此，測(cè)定所需的時(shí)間也不會(huì)變長(zhǎng)。
[0098]此外，在上述說(shuō)明中，采用將基板G分成多個(gè)區(qū)域Cl?C9然后逐一進(jìn)行測(cè)定的結(jié)構(gòu)，但是并不限于此，只要進(jìn)行測(cè)定的時(shí)間允許，也可以測(cè)定所有測(cè)定點(diǎn)D的線寬。另外，上述的區(qū)域Cl?C9和測(cè)定點(diǎn)D的數(shù)量是例子，并沒(méi)有限定。
[0099]返回圖5的說(shuō)明，接來(lái)下，測(cè)定部51控制移動(dòng)部40的操作，使拍攝部30向在步驟S4中所決定的測(cè)定點(diǎn)D的上方移動(dòng)(步驟S5)。接下來(lái)，測(cè)定部51調(diào)整拍攝部30的Z軸方向上的高度(步驟S6)。詳細(xì)而言，在步驟S6中，根據(jù)照相機(jī)高度測(cè)定部31的測(cè)定結(jié)果，控制移動(dòng)部40的操作，使從拍攝部30的透鏡至基板G的圖案面Ga的距離成為拍攝部30的工作距離。
[0100]更詳細(xì)地來(lái)講，測(cè)定部51使用照相機(jī)高度測(cè)定部31，多次測(cè)定拍攝部30至基板G的Z軸方向高度。測(cè)定部51根據(jù)所得到的測(cè)定結(jié)果，計(jì)算振動(dòng)的基板G的振幅，根據(jù)計(jì)算出的振幅的中央值，控制移動(dòng)部40的操作，使拍攝部30的透鏡至基板G的圖案面Ga的距離變成拍攝部30的工作距離。
[0101]由此，即使在基板G振動(dòng)的情況下，在后述的處理中，也能容易地拍攝對(duì)焦的圖像。此外，在上述說(shuō)明中，使用了振幅的中央值，但是并不限于此，例如也可以是算術(shù)平均值和眾數(shù)。
[0102]接下來(lái)，測(cè)定部51判定拍攝部30的圖案的攝像次數(shù)是否在規(guī)定的次數(shù)以上(步驟S7)。此處的規(guī)定次數(shù)例如設(shè)定成2以上的整數(shù)。
[0103]在測(cè)定部51判定攝像次數(shù)不到規(guī)定次數(shù)的情況下(步驟S7，否)，操作拍攝部30，拍攝基板G的圖案(步驟S8)。接下來(lái)，測(cè)定部51進(jìn)行圖案搜索處理(步驟S9)。
[0104]在圖案搜索處理中，計(jì)算例如包含于由拍攝部30所拍攝的圖像信息中的圖案形狀(以下稱作“圖像圖案形狀”)、與存儲(chǔ)在存儲(chǔ)部52中的存儲(chǔ)圖案形狀B的相關(guān)值。此外，此處的相關(guān)值是表示圖像圖案形狀與存儲(chǔ)圖案形狀B的類似性的值。
[0105]接下來(lái)，測(cè)定部51判定計(jì)算出的相關(guān)值是否在規(guī)定的相關(guān)值以上(步驟S10)。此處，對(duì)步驟SlO的處理進(jìn)行說(shuō)明，在相關(guān)值不到規(guī)定的相關(guān)值且較低的情況下，推定由拍攝部30所拍攝的圖像信息不包括與存儲(chǔ)圖案形狀B—致的圖案，作為結(jié)果也不包括將要測(cè)定的圖案P。另一方面，在相關(guān)值在規(guī)定的相關(guān)值以上且較高的情況下，推定由拍攝部30所拍攝的圖像信息包括與存儲(chǔ)圖案形狀B—致的圖案，由此，也包括與該一致的圖案接近的將要測(cè)定的圖案P。
[0106]S卩，步驟SlO也可以說(shuō)是判定拍攝部30的位置是否與將要測(cè)定的圖案P(測(cè)定點(diǎn)D)偏離的處理。因此，測(cè)定部51在相關(guān)值不到規(guī)定的相關(guān)值的情況下(步驟S10，否)，推定圖像信息不包括將要測(cè)定的圖案P，拍攝部30位于與測(cè)定點(diǎn)D不同的位置，因此，調(diào)整拍攝部30的位置(步驟SI I)。
[0107]在步驟Sll的處理中，例如，使拍攝部30在預(yù)先設(shè)定的規(guī)定方向(例如X軸方向)上移動(dòng)規(guī)定距離進(jìn)行調(diào)整位置。測(cè)定部51調(diào)整拍攝部30的位置后，返回步驟S8，再次進(jìn)行拍攝。
[0108]此外，在上述說(shuō)明中，使其在規(guī)定方向上移動(dòng)規(guī)定位置來(lái)調(diào)整拍攝部30的位置，但是并不限于此。即，例如，也可以降低拍攝部30的透鏡的倍率，擴(kuò)大照相機(jī)視野，根據(jù)所擴(kuò)大的照相機(jī)視野的圖像信息，使拍攝部30移動(dòng)至測(cè)定點(diǎn)D進(jìn)行調(diào)整。
[0109]如上所述，在相關(guān)值不到規(guī)定的相關(guān)值的情況下，使拍攝部30再次實(shí)施基板G的圖案的拍攝，因此，能夠防止錯(cuò)誤地測(cè)定將要測(cè)定的圖案P的線寬A以外的線寬。
[0110]另一方面，測(cè)定部51在相關(guān)值在規(guī)定的相關(guān)值以上的情況下(步驟S10，是)，根據(jù)由拍攝部30所拍攝的圖案的圖像信息計(jì)算圖案的邊緣強(qiáng)度，判定計(jì)算出的邊緣強(qiáng)度是否在規(guī)定的邊緣強(qiáng)度以上(步驟S12)。
[0111]此處的邊緣強(qiáng)度是指，所拍攝的圖案中的邊界(輪廓)的濃淡的變化程度，表示隨著邊緣強(qiáng)度增強(qiáng)而濃淡變得清晰，即，圖像的焦點(diǎn)對(duì)準(zhǔn)。
[0112]測(cè)定部51在邊緣強(qiáng)度不到規(guī)定的邊緣強(qiáng)度且較低的情況下(步驟S12，否)，由拍攝部30所拍攝的圖像的焦點(diǎn)未對(duì)準(zhǔn)，因此，返回步驟S7。而且，如果拍攝次數(shù)不到規(guī)定次數(shù)，換言之，在拍攝次數(shù)未達(dá)到規(guī)定次數(shù)的情況下，則在步驟S8中再次實(shí)施基板G的圖案的攝像，再次進(jìn)行步驟S9以后的處理。
[0113]另一方面，測(cè)定部51在邊緣強(qiáng)度在規(guī)定的邊緣強(qiáng)度以上且較高的情況下(步驟S12，是)，所拍攝的圖像的焦點(diǎn)對(duì)準(zhǔn)，因此，接下來(lái)使用該圖像，計(jì)算測(cè)定點(diǎn)D的起點(diǎn)位置XYl和終點(diǎn)位置XY2 (步驟S13)。
[0114]具體而言，測(cè)定部51在焦點(diǎn)對(duì)準(zhǔn)的圖像中，與存儲(chǔ)圖案形狀B相比相關(guān)值較高，根據(jù)與存儲(chǔ)圖案形狀B —致的圖案的位置，算出測(cè)定點(diǎn)D的起點(diǎn)位置XYl和終點(diǎn)位置XY2。
[0115]如果詳細(xì)進(jìn)行說(shuō)明，則如上所述，在存儲(chǔ)圖案形狀B中設(shè)定原點(diǎn)0(參照?qǐng)D4)。測(cè)定部51在所拍攝的圖像中，在與存儲(chǔ)圖案形狀B —致的圖案中，將與原點(diǎn)O對(duì)應(yīng)的位置作為“基準(zhǔn)點(diǎn)”。測(cè)定部51根據(jù)基準(zhǔn)點(diǎn)和作為存儲(chǔ)部52的位置信息的像素坐標(biāo)信息,測(cè)定點(diǎn)D的起點(diǎn)位置XYl和終點(diǎn)位置XY2。
[0116]測(cè)定部51測(cè)定在步驟S13中計(jì)算出的起點(diǎn)位置XYl和終點(diǎn)位置XY2之間的距離，作為測(cè)定點(diǎn)D中的圖案P的線寬A(步驟S14)。
[0117]如上所述，在本實(shí)施方式中，在所拍攝的圖像中，根據(jù)與存儲(chǔ)圖案形狀B—致的圖案、以及表示測(cè)定點(diǎn)D與該圖案的相對(duì)位置的位置信息，計(jì)算測(cè)定點(diǎn)D的起點(diǎn)位置XYl和終點(diǎn)位置XY2，測(cè)定圖案P的線寬A。由此，例如，與存儲(chǔ)圖案形狀B—致的圖案在所拍攝的圖像內(nèi)的哪個(gè)位置拍攝的情況下，也能夠計(jì)算出起點(diǎn)位置XYl和終點(diǎn)位置XY2，測(cè)定圖案P的線寬A。
[0118]另外，如上所述，測(cè)定部51根據(jù)由拍攝部30所拍攝的圖案的圖像信息計(jì)算圖案的邊緣強(qiáng)度，在計(jì)算出的邊緣強(qiáng)度在規(guī)定的邊緣強(qiáng)度以上的情況下，根據(jù)圖案的圖像信息，測(cè)定圖案P的線寬A。
[0119]由此，在基板G振動(dòng)的情況下，也能選擇邊緣強(qiáng)度較高的圖像、即對(duì)焦的圖像，因此，能夠正確地對(duì)測(cè)定點(diǎn)D的圖案P的線寬A進(jìn)行測(cè)定。
[0120]參照?qǐng)D7，對(duì)基于該邊緣強(qiáng)度的線寬的測(cè)定(步驟S12?S14以及S8)的處理再次進(jìn)行說(shuō)明。圖7是表示基板G的振動(dòng)的圖表。此外，圖7中的附圖標(biāo)記Tl?T4表示由測(cè)定部51進(jìn)行拍攝的時(shí)刻、即攝像的時(shí)間。
[0121]本實(shí)施方式中的基板G載置于搬送部20上，因此，受到搬送部20的振動(dòng)和空調(diào)等外部因素的影響，如圖7所示，在Z軸方向上振動(dòng)。另一方面，在拍攝部30中，如果基板G的圖案面Ga的位置不在拍攝部30的景深的范圍E，則無(wú)法拍攝對(duì)焦的圖像。此外，在基板G的圖案面Ga進(jìn)入景深的范圍E的情況下，邊緣強(qiáng)度增強(qiáng)，在景深的范圍E外的情況下，邊緣強(qiáng)度降低。
[0122]在圖7所示的例子中，從第一次的拍攝時(shí)刻Tl至第三次的拍攝時(shí)刻T3，在基板G的圖案Ga的位置未進(jìn)入被拍攝深度的范圍E的狀態(tài)下拍攝。因此，在拍攝時(shí)刻T1、T2、T3，邊緣強(qiáng)度不到規(guī)定的邊緣強(qiáng)度，反復(fù)實(shí)施步驟S8的處理進(jìn)行攝像的修改。
[0123]在第四次的拍攝時(shí)刻Τ4，在基板G的圖案面Ga的位置進(jìn)入景深的范圍E中時(shí)進(jìn)行拍攝，因此，邊緣強(qiáng)度變成規(guī)定的邊緣強(qiáng)度。在本實(shí)施方式中，在拍攝時(shí)刻Τ4，根據(jù)邊緣強(qiáng)度增強(qiáng)的圖像、即根據(jù)對(duì)焦的圖像來(lái)測(cè)定線寬，因此，在基板G載置于搬送部20上而振動(dòng)的情況下，也能夠可靠地測(cè)定圖案的線寬。
[0124]另外，如上所述，在邊緣強(qiáng)度不到規(guī)定的邊緣強(qiáng)度的情況下，使拍攝部30再次實(shí)施基板G的圖案拍攝，因此，能夠根據(jù)焦點(diǎn)可靠地對(duì)準(zhǔn)的圖像測(cè)定線寬。
[0125]返回圖5的說(shuō)明，測(cè)定部51判定上述的規(guī)定區(qū)域Cl內(nèi)的規(guī)定測(cè)定點(diǎn)D的測(cè)定是否結(jié)束，在圖6B所示的例子中，判定9個(gè)測(cè)定點(diǎn)D的測(cè)定是否結(jié)束(步驟S15)。在測(cè)定部51判定規(guī)定的測(cè)定點(diǎn)D的測(cè)定未結(jié)束的情況下(步驟S15，否)，返回步驟S4，決定規(guī)定區(qū)域Cl內(nèi)的其它的測(cè)定點(diǎn)D的位置，進(jìn)行上述步驟S5?S14的線寬測(cè)定。
[0126]另外，測(cè)定部51在拍攝次數(shù)成為規(guī)定次數(shù)以上的情況下(步驟S7，是)，跳過(guò)步驟S8?S14的處理，進(jìn)行步驟S15的處理。詳細(xì)而言，測(cè)定部51在步驟S12中在邊緣強(qiáng)度不到規(guī)定的邊緣強(qiáng)度的情況下、即所拍攝的圖像未對(duì)焦的情況下，返回步驟S7，反復(fù)進(jìn)行拍攝，直至拍攝次數(shù)達(dá)到規(guī)定的次數(shù)。
[0127]但是，因所拍攝的時(shí)刻和基板G的振動(dòng)狀態(tài)等，即使反復(fù)拍攝，有時(shí)也不能獲得對(duì)焦的圖像。因此，對(duì)于本實(shí)施方式所涉及的測(cè)定部51，在拍攝次數(shù)成為規(guī)定的次數(shù)以上的情況下(步驟S7，是)，對(duì)于現(xiàn)在將要測(cè)定的測(cè)定點(diǎn)D，判定無(wú)法拍攝對(duì)焦的圖像，跳過(guò)S8?S14的處理(中止拍攝)。
[0128]測(cè)定部51在步驟S15中判定9個(gè)測(cè)定點(diǎn)D的測(cè)定是否結(jié)束，在將要測(cè)定的測(cè)定點(diǎn)D以外，如果有未進(jìn)行測(cè)定的測(cè)定點(diǎn)D，則進(jìn)入該測(cè)定點(diǎn)D的測(cè)定(返回步驟S4)。
[0129]如上所述，在拍攝次數(shù)中設(shè)置上限值(規(guī)定的次數(shù))，例如對(duì)于一個(gè)測(cè)定點(diǎn)D，繼續(xù)拍攝處理直至拍攝到對(duì)焦的圖像，能夠避免發(fā)生處理時(shí)間變長(zhǎng)等情況。
[0130]此外，在進(jìn)行測(cè)定的9處的測(cè)定點(diǎn)D(參照?qǐng)D6B)中、例如僅有一處無(wú)法測(cè)定的測(cè)定點(diǎn)D的情況下，根據(jù)能夠測(cè)定的其余8處的測(cè)定點(diǎn)D的測(cè)定結(jié)果，補(bǔ)充并求出無(wú)法測(cè)定的測(cè)定點(diǎn)D的線寬A。
[0131]下面，在測(cè)定部51判定規(guī)定的測(cè)定點(diǎn)D的測(cè)定結(jié)束的情況下(步驟S15，是)，結(jié)束圖5的處理，然后，例如操作搬送部20，將基板G從線寬測(cè)定裝置18中搬出。
[0132]此外，如上所述，測(cè)定控制裝置50將表示在線寬測(cè)定處理中測(cè)定了的圖案的線寬的數(shù)據(jù)向局部曝光裝置16反饋，在局部曝光裝置16中，修正曝光的照度等，修改圖案的線寬。
[0133]如以上所述，第I實(shí)施方式所涉及的線寬測(cè)定裝置18包括搬送部20、拍攝部30和測(cè)定部51。搬送部20將形成有圖案的基板G在水平方向上搬送。拍攝部30配置于搬送部20的上方，對(duì)載置于搬送部20上的基板G的圖案進(jìn)行拍攝。測(cè)定部51根據(jù)由拍攝部30所拍攝的圖案的圖像信息來(lái)測(cè)定圖案的形狀(例如線寬)。因此，根據(jù)第I實(shí)施方式所涉及的線寬測(cè)定裝置18，能夠?qū)崿F(xiàn)輕量化，并且能夠使其廉價(jià)。
[0134]然而，在上述說(shuō)明中，在這次測(cè)定的基板G與接下來(lái)要測(cè)定的第2基板G2中，將進(jìn)行測(cè)定的區(qū)域從區(qū)域Cl變更為區(qū)域C2，全部改變測(cè)定點(diǎn)D，但是并不限于此。S卩，例如也可以在基板G和第2基板G2中測(cè)定圖6A的附圖標(biāo)記Da所不的測(cè)定點(diǎn)。
[0135]S卩，測(cè)定部51在于，第2基板G2中的多個(gè)測(cè)定點(diǎn)D包括與在基板G中測(cè)定了的測(cè)定點(diǎn)Da對(duì)應(yīng)的位置的測(cè)定點(diǎn)Da。此外，在第2基板G2后進(jìn)行測(cè)定，對(duì)于下一個(gè)基板也同樣，對(duì)測(cè)定點(diǎn)Da進(jìn)行測(cè)定。
[0136]如上所述，繼續(xù)測(cè)定共通的(重復(fù)的)測(cè)定點(diǎn)Da的圖案的線寬，從而能夠使測(cè)定了的線寬的數(shù)據(jù)具有連續(xù)性，例如也能容易地檢測(cè)測(cè)定了的線寬的細(xì)微變化。
[0137]另外，在上述說(shuō)明中，對(duì)于測(cè)定線寬的所有基板，測(cè)定了共通的測(cè)定點(diǎn)Da，但是并不限于此，例如，也可以僅對(duì)連續(xù)測(cè)定的基板采用共通的測(cè)定點(diǎn)。
[0138]圖8是表示在基板G與第2基板G2中測(cè)定的測(cè)定點(diǎn)的示意說(shuō)明圖。在圖8中，用虛線Fl包圍在基板G中測(cè)定的測(cè)定點(diǎn)，而用雙點(diǎn)劃線F2包圍在第2基板G2中測(cè)定的測(cè)定點(diǎn)。
[0139]如圖8所示，在基板G與第2基板G2中測(cè)定的多個(gè)測(cè)定點(diǎn)D中的一部分測(cè)定點(diǎn)Db變成相同的測(cè)定點(diǎn)，正確來(lái)講，一部分變成對(duì)應(yīng)的位置的測(cè)定點(diǎn)。在采用這種結(jié)構(gòu)的情況下，也與上述同樣，能夠使測(cè)定了的線寬的數(shù)據(jù)具有連續(xù)性，例如也能容易地檢測(cè)所測(cè)定了的線寬的細(xì)微變化。
[0140](第2實(shí)施方式)
[0141]圖9是表示第2實(shí)施方式所涉及的線寬測(cè)定裝置18的結(jié)構(gòu)的、與圖2同樣的示意立體圖。此外，在以下說(shuō)明中，對(duì)于與第I實(shí)施方式共通的結(jié)構(gòu)，標(biāo)注相同的附圖標(biāo)記并省略說(shuō)明。
[0142]重點(diǎn)說(shuō)明與第I實(shí)施方式的不同點(diǎn)，在第2實(shí)施方式所涉及的線寬測(cè)定裝置18中，包括第2拍攝部130和第2照相機(jī)高度測(cè)定部131。第2拍攝部130和第2照相機(jī)高度測(cè)定部131是與拍攝部30以及照相機(jī)測(cè)定部31大體相同的結(jié)構(gòu)，由此，能夠使其相對(duì)于基板G在X、Y、Z軸方向的三個(gè)方向上移動(dòng)。此外，在圖9中，用“Υ1”表示拍攝部30的Y軸方向上的可移動(dòng)范圍，用“Υ2”表示第2拍攝部130的Y軸方向上的可移動(dòng)范圍。
[0143]測(cè)定部51根據(jù)第2拍攝部130的圖像信息測(cè)定線寬。由此，能夠根據(jù)第2拍攝部130的圖像信息測(cè)定了的測(cè)定點(diǎn)D，相應(yīng)地增加一個(gè)基板G中的測(cè)定點(diǎn)D的數(shù)量，由此也能夠增加在一個(gè)基板G上測(cè)定線寬的圖案的數(shù)量。
[0144]另外，也可以采用由拍攝部30與第2拍攝部130分擔(dān)進(jìn)行具有多個(gè)測(cè)定點(diǎn)D的拍攝的結(jié)構(gòu)，在采用這種結(jié)構(gòu)的情況下，能夠縮短攝像處理以及線寬測(cè)定處理所需的時(shí)間。
[0145]另外，如圖9所示，拍攝部30的可移動(dòng)范圍Yl與第2拍攝部130的可移動(dòng)范圍Υ2以重置規(guī)定徂圍的方式設(shè)定。由此，在基板G中，能夠消除拍攝部30和弟2拍攝部130都不能拍攝的區(qū)域、所謂的死角區(qū)域，從而能夠使用拍攝部30和第2拍攝部130可靠地測(cè)定基板G的圖案的線寬。
[0146]另外，在第2拍攝部130的安裝板144上，在與拍攝部30的安裝板44相對(duì)的面上安裝保護(hù)部145。保護(hù)部145是例如采用具有彈性的原材料制作的板狀部件。利用該保護(hù)部145，例如即使拍攝部30與第2拍攝部130接觸的情況下，也能夠緩解作用在拍攝部30以及第2拍攝部130上的沖擊力。
[0147]此外，在上述說(shuō)明中，將保護(hù)部145安裝在第2拍攝部130—側(cè)，但是也可以安裝于拍攝部30上，而且也可以安裝于拍攝部30 —側(cè)和第2拍攝部130 —側(cè)。此外，其余的結(jié)構(gòu)以及效果與第I實(shí)施方式相同，所以省略其說(shuō)明。
[0148](第3實(shí)施方式)
[0149]圖10是表示第3實(shí)施方式所涉及的線寬測(cè)定裝置18的線寬測(cè)定處理的處理順序的流程圖。此外，圖10所示的步驟SlOl?S106的處理與圖5所示的步驟SI?S6的處理相同，因此，省略其說(shuō)明。
[0150]在第3實(shí)施方式中，分別判定在所拍攝的圖像信息中、有無(wú)與存儲(chǔ)圖案形狀B—致的圖案以及有無(wú)測(cè)定點(diǎn)D，在沒(méi)有與存儲(chǔ)圖案形狀B —致的圖案或測(cè)定點(diǎn)D的情況下，調(diào)整拍攝部30的位直。
[0151]具體而言，如圖10所示，測(cè)定部51在步驟S106中調(diào)整拍攝部30的Z軸方向的高度后，操作拍攝部30，拍攝基板G的圖案(步驟S107)。接下來(lái)，測(cè)定部51進(jìn)行圖案搜索處理，計(jì)算相關(guān)值(步驟S108)。
[0152]接下來(lái)，測(cè)定部51判定計(jì)算出的相關(guān)值是否為O (步驟S109)。如上所述，相關(guān)值是表示圖像圖案形狀與存儲(chǔ)圖案形狀B的類似性的值，因此，在相關(guān)值為O的情況下，表示類似性低，在所拍攝的圖像信息中不存在存儲(chǔ)圖案形狀B。
[0153]測(cè)定部51在相關(guān)值為0(步驟S109，否)的情況下，調(diào)整拍攝部30的位置(步驟S110)。在步驟SllO的處理中，例如，移動(dòng)拍攝部30，以使拍攝部30的照相機(jī)視角錯(cuò)開(kāi)一半。測(cè)定部51調(diào)整拍攝部30的位置后，返回步驟S107，再次進(jìn)行拍攝。
[0154]如上所述，進(jìn)行拍攝部30的位置調(diào)整，由此能夠盡快且容易地獲得包括與存儲(chǔ)圖案形狀B—致的圖案的圖像信息。此外，在上述說(shuō)明中，在調(diào)整位置時(shí)，移動(dòng)拍攝部30以使照相機(jī)視角錯(cuò)開(kāi)一半，但是這僅是例子，并不限于此，總之，只要移動(dòng)拍攝部30使得照相機(jī)視角錯(cuò)開(kāi)即可。
[0155]此外，在調(diào)整位置后所拍攝的圖像信息中也不存在存儲(chǔ)圖案性裝B，再次進(jìn)行步驟SllO的處理的情況下，優(yōu)選以最初拍攝的拍攝部30的坐標(biāo)為中心，以繞其外周的方式使拍攝部30移動(dòng)，并且再次進(jìn)行位置調(diào)整。由此，能夠通過(guò)較少的拍攝次數(shù)容易地獲得包括與存儲(chǔ)圖案形狀B—致的圖案的圖像信息。
[0156]在測(cè)定部51判定相關(guān)值不為O的情況下(步驟S109，是)，即，在所拍攝的圖像信息中包含與存儲(chǔ)圖案形狀B—致的圖案的情況下，判定在圖像信息中是否有測(cè)定點(diǎn)D(步驟Sm)。
[0157]此處，將表示測(cè)定點(diǎn)D與存儲(chǔ)圖案形狀B的相對(duì)位置的信息(圖案的位置信息)預(yù)先存儲(chǔ)在存儲(chǔ)部52中。因此，在步驟Slll中，根據(jù)與存儲(chǔ)圖案形狀B—致的圖案的位置信息、以及表示相對(duì)位置的信息，判定在所拍攝的圖像信息內(nèi)是否有測(cè)定點(diǎn)D。
[0158]在測(cè)定部51判定在所拍攝的圖像信息內(nèi)沒(méi)有測(cè)定點(diǎn)D的情況下(步驟S111，否)，調(diào)整拍攝部30的位置(步驟S112)。在步驟S112的處理中，例如，計(jì)算存儲(chǔ)圖案形狀B的位置和與存儲(chǔ)圖案形狀B—致的圖案的位置的偏移量，移動(dòng)拍攝部30以使計(jì)算出的偏移量為O。
[0159]測(cè)定部51調(diào)整拍攝部30的位置后，返回步驟S107，再次實(shí)施拍攝。由此，能夠盡快取得包含測(cè)定點(diǎn)D的圖像信息。
[0160]另一方面，在測(cè)定部51判定在所拍攝的圖像信息中具有測(cè)定點(diǎn)D的情況下(步驟S111，是)，判定拍攝部30拍攝圖像的次數(shù)是否為規(guī)定的次數(shù)以上(步驟S113)。該步驟SI 13的處理與圖5所示的步驟S7相同，因此，省略其說(shuō)明。
[0161]在測(cè)定部51判定拍攝次數(shù)不到規(guī)定次數(shù)的情況下(步驟S113，否)，判定相關(guān)值是否為規(guī)定的相關(guān)值以上(步驟S114)。步驟S114的處理與圖5所示的步驟SlO相同，因此，省略其說(shuō)明。
[0162]在相關(guān)值不到規(guī)定的相關(guān)值的情況下(步驟S114，否)，返回步驟S107測(cè)定部51再次實(shí)施拍攝。另一方面，在相關(guān)值在規(guī)定的相關(guān)值以上的情況下(步驟S114，是)，判定邊緣強(qiáng)度是否在規(guī)定的邊緣強(qiáng)度以上(步驟S115)。步驟S115?S118與圖5所示的步驟S12?S15同樣，因此，省略其說(shuō)明。
[0163]如上所述，在第3實(shí)施方式中，分別在步驟S109、S111中判定在所拍攝的圖像信息中有無(wú)與存儲(chǔ)圖案形狀B —致的圖案以及有無(wú)測(cè)定點(diǎn)D。
[0164]在沒(méi)有與存儲(chǔ)圖案形狀B—致的圖案的情況下，在調(diào)整拍攝部30的位置后，再次進(jìn)行拍攝。由此，能夠盡快且容易地獲得包括與存儲(chǔ)圖案形狀B —致的圖案的圖像信息。
[0165]另外，在所拍攝的圖像信息內(nèi)沒(méi)有測(cè)定點(diǎn)D的情況下，根據(jù)存儲(chǔ)在存儲(chǔ)部52中的表示測(cè)定點(diǎn)D的相對(duì)位置的信息，調(diào)整拍攝部30的位置后，再次進(jìn)行拍攝。由此，能夠盡快獲得包括測(cè)定點(diǎn)D的圖像信息。此外，其余的結(jié)構(gòu)以及效果與第I實(shí)施方式相同，所以，省略其說(shuō)明。
[0166](第4實(shí)施方式)
[0167]圖11是表示第4實(shí)施方式所涉及的線寬測(cè)定裝置18的線寬測(cè)定處理的處理順序的流程圖。此外，圖11所示的步驟S201?S212的處理與圖10所示的步驟SlOl?S112的處理相同，因此，省略其說(shuō)明。
[0168]在上述實(shí)施方式中，對(duì)進(jìn)行一次拍攝，判定在所拍攝的圖像信息中有無(wú)測(cè)定點(diǎn)D的處理等的例子進(jìn)行了說(shuō)明，但是，也可以進(jìn)行多次拍攝，進(jìn)行所拍攝的多個(gè)圖像信息中有無(wú)測(cè)定點(diǎn)D的判定以及線寬測(cè)定。
[0169]采用這種方式構(gòu)成，例如，在拍攝部30向下一個(gè)測(cè)定點(diǎn)D移動(dòng)的期間，能夠根據(jù)已經(jīng)拍攝的多個(gè)圖像信息來(lái)測(cè)定線寬，這樣就能進(jìn)一步縮短一個(gè)基板G的線寬測(cè)定處理所需的時(shí)間。
[0170]如果詳細(xì)說(shuō)明，則如圖11所示，測(cè)定部51在判定在步驟S207中所拍攝的圖像信息中具有測(cè)定點(diǎn)D的情況下(步驟S211，是)，拍攝N次基板G，將所拍攝的多個(gè)圖像信息存儲(chǔ)在存儲(chǔ)部52中(步驟S213)。
[0171]此處，將上述N設(shè)定成2以上的整數(shù)。具體而言，拍攝次數(shù)例如優(yōu)選數(shù)次至數(shù)十次左右。此外，拍攝N次時(shí)的拍攝時(shí)間(拍攝周期)既可以是一定，也可以改變。
[0172]此處，在改變拍攝時(shí)刻的情況下，例如，優(yōu)選根據(jù)基板G的振動(dòng)改變。S卩，例如，檢測(cè)并解析基板G的振動(dòng)的振幅和頻率，根據(jù)解析結(jié)果，使拍攝時(shí)刻與基板G的振動(dòng)偏離。由此，能夠防止拍攝時(shí)刻與基板G的振動(dòng)同步，能夠容易地拍攝對(duì)焦的圖像。
[0173]接下來(lái)，測(cè)定部51判定在存儲(chǔ)部52中是否具有未進(jìn)行相關(guān)值的計(jì)算和線寬測(cè)定的圖相信息(以下記作“為測(cè)定圖像”)(步驟S214)。在測(cè)定部51判定具有未測(cè)定圖像的情況下(步驟S214，是)，從存儲(chǔ)部52中讀出該未測(cè)定圖像，進(jìn)行圖案搜索處理，計(jì)算相關(guān)值(步驟S215)。
[0174]接下來(lái)，測(cè)定部51判定相關(guān)值是否在規(guī)定的相關(guān)值以上(步驟S216)，在規(guī)定的相關(guān)值以上的情況下(步驟S216，是)，判定邊緣強(qiáng)度是否在規(guī)定的邊緣強(qiáng)度以上(步驟S217)。
[0175]測(cè)定部51在邊緣強(qiáng)度在規(guī)定的邊緣強(qiáng)度以上的情況下(步驟S217，是)，計(jì)算測(cè)定點(diǎn)D的起點(diǎn)位置XYl和終點(diǎn)位置XY2 (步驟S218)。此外，步驟S218?S220與圖5所示的步驟S13?S15的處理相同，因此，省略其說(shuō)明。
[0176]另外，測(cè)定部51在相關(guān)值不到規(guī)定的相關(guān)值的情況下(步驟S216，否)，或者在邊緣強(qiáng)度不到規(guī)定的邊緣強(qiáng)度的情況下(步驟S217，否)，返回S214的處理。
[0177]另一方面，在測(cè)定部51判定沒(méi)有未測(cè)定圖像的情況下(步驟S214，否)，S卩，在對(duì)存儲(chǔ)在存儲(chǔ)部52中的所有圖像信息進(jìn)行相關(guān)值的計(jì)算和線寬測(cè)定的情況下，跳過(guò)步驟S215 ?S219。
[0178]如上所述，在第4實(shí)施方式中，根據(jù)使拍攝部30拍攝多次(N次)基板G的圖案而獲得的多個(gè)圖案的圖像信息，測(cè)定圖案的形狀(例如線寬)。
[0179]由此，例如，在拍攝部30向下一個(gè)測(cè)定點(diǎn)D移動(dòng)的期間，能夠根據(jù)已經(jīng)拍攝的多個(gè)圖像信息來(lái)測(cè)定線寬，從而能夠進(jìn)一步縮短一個(gè)基板G的線寬測(cè)定處理所需的時(shí)間。此外，其余的結(jié)構(gòu)以及效果與上述實(shí)施方式相同，所以，省略其說(shuō)明。
[0180]此外，在上述的實(shí)施方式中，例如，也可以在拍攝部30的透鏡上設(shè)置阻尼。通過(guò)設(shè)置該阻尼，圖7所示的景深的范圍E擴(kuò)大，因此，在拍攝部30中，邊緣強(qiáng)度增強(qiáng)，也能夠容易拍攝對(duì)焦的圖像。
[0181]另外，在圖7所示的例子中，以相同的周期進(jìn)行拍攝部30的拍攝，但是并不限于此，也可以以不同的周期拍攝。另外，例如，也可以檢測(cè)并解析基板G的振動(dòng)周期和頻率，根據(jù)解析結(jié)果，在基板G的圖案面Ga的位置進(jìn)入景深的范圍E中的時(shí)刻進(jìn)行拍攝。由此，在拍攝部30中，邊緣強(qiáng)度增強(qiáng)，也能夠容易拍攝對(duì)焦的圖像。
[0182]另外，也可以利用拍攝部30拍攝基板G之如，檢測(cè)拍攝部30的照相機(jī)軸與基板G的圖案面Ga的傾斜，根據(jù)所檢測(cè)出的傾斜來(lái)修正拍攝部30的位置。S卩，例如在圖案面Ga上設(shè)置傾斜檢測(cè)用的標(biāo)記，將該標(biāo)記存儲(chǔ)在存儲(chǔ)部52中。而且，使用拍攝部30、或者其它的拍攝部拍攝圖案面Ga上的標(biāo)記，比較所拍攝的標(biāo)記與所存儲(chǔ)的標(biāo)記，檢測(cè)拍攝部30的照相機(jī)軸與基板G的圖案面Ga的傾斜。接下來(lái)，也可以根據(jù)所檢測(cè)出的傾斜，修正拍攝部30的位置，以使拍攝部30的照相機(jī)軸與圖案面Ga正交。由此，拍攝部30能夠精確地拍攝基板G的圖案，并且測(cè)定部51能夠根據(jù)所拍攝的圖像正確地識(shí)別基板G的圖案的形狀。
[0183]另外，在上述說(shuō)明中，測(cè)定相鄰的圖案P的間隔作為圖案P的線寬A，但是并不限于此，例如，既可以測(cè)定不相鄰的圖案的間隔作為線寬，還可以測(cè)定圖案寬度等。
[0184]對(duì)于本行業(yè)的技術(shù)人員而言能夠很容易得出其它的效果以及變形例。因此，本發(fā)明的更大范圍的方式并不限于以上表述的特定的詳細(xì)內(nèi)容以及代表性的實(shí)施方式。因此，不脫離附加的權(quán)利要求書及其均等物所定義的總的發(fā)明概念精神或范圍，能夠進(jìn)行各種各樣的變更。
【權(quán)利要求】
1.一種測(cè)定裝置，其特征在于，包括: 搬送形成有圖案的基板的搬送部； 配置于所述搬送部的上方、對(duì)載置于所述搬送部上的所述基板的圖案進(jìn)行拍攝的拍攝部；和 根據(jù)由所述拍攝部所拍攝的所述圖案的圖像信息來(lái)測(cè)定所述圖案的形狀的測(cè)定部。
2.如權(quán)利要求1所述的測(cè)定裝置，其特征在于: 所述測(cè)定部，根據(jù)由所述拍攝部所拍攝的所述圖案的圖像信息計(jì)算所述圖案的邊緣強(qiáng)度，當(dāng)計(jì)算出的所述邊緣強(qiáng)度在規(guī)定的邊緣強(qiáng)度以上時(shí)，根據(jù)所述圖案的圖像信息測(cè)定所述圖案的形狀。
3.如權(quán)利要求2所述的測(cè)定裝置，其特征在于: 在所述邊緣強(qiáng)度不到所述規(guī)定的邊緣強(qiáng)度的情況下，所述測(cè)定部使所述拍攝部再次實(shí)施所述基板的圖案的拍攝。
4.如權(quán)利要求1?3中任一項(xiàng)所述的測(cè)定裝置，其特征在于: 包括預(yù)先存儲(chǔ)所述基板的圖案形狀的存儲(chǔ)部， 所述測(cè)定部計(jì)算由所述拍攝部所拍攝的所述圖案的圖像信息與存儲(chǔ)在所述存儲(chǔ)部中的圖案形狀的相關(guān)值，當(dāng)計(jì)算出的所述相關(guān)值在規(guī)定的相關(guān)值以上時(shí)，根據(jù)所述圖案的圖像信息測(cè)定所述圖案的形狀。
5.如權(quán)利要求4所述的測(cè)定裝置，其特征在于: 在所述相關(guān)值不到所述規(guī)定的相關(guān)值的情況下，所述測(cè)定部使所述拍攝部再次實(shí)施所述基板的圖案的拍攝。
6.如權(quán)利要求4所述的測(cè)定裝置，其特征在于: 在所述相關(guān)值為O的情況下，所述測(cè)定部在調(diào)整所述拍攝部的位置后，使所述拍攝部再次實(shí)施所述基板的圖案的拍攝。
7.如權(quán)利要求1?3中任一項(xiàng)所述的測(cè)定裝置，其特征在于: 包括使所述拍攝部相對(duì)于在所述基板上形成所述圖案的圖案面在水平方向上移動(dòng)的移動(dòng)部， 所述測(cè)定部，在將所述基板的圖案面分成多個(gè)區(qū)域進(jìn)行識(shí)別，在多個(gè)所述區(qū)域中的一個(gè)規(guī)定區(qū)域內(nèi)測(cè)定所述圖案的形狀，在所述規(guī)定區(qū)域中的測(cè)定結(jié)束后利用所述搬送部搬送接下來(lái)進(jìn)行測(cè)定的第2基板的情況下，通過(guò)所述移動(dòng)部使所述拍攝部向在所述第2基板中不同于與所述規(guī)定區(qū)域?qū)?yīng)的區(qū)域的其它的區(qū)域移動(dòng)，在所述其它的區(qū)域內(nèi)進(jìn)行所述圖案的形狀的測(cè)定。
8.如權(quán)利要求7所述的測(cè)定裝置，其特征在于: 所述測(cè)定部在所述第2基板中在多個(gè)測(cè)定點(diǎn)進(jìn)行所述圖案的形狀的測(cè)定，并且所述第2基板中的多個(gè)測(cè)定點(diǎn)包括與在所述基板中測(cè)定了的測(cè)定點(diǎn)對(duì)應(yīng)的位置的測(cè)定點(diǎn)。
9.如權(quán)利要求1?3中任一項(xiàng)所述的測(cè)定裝置，其特征在于: 所述拍攝部具有多個(gè)， 所述測(cè)定部根據(jù)由多個(gè)所述拍攝部所拍攝的圖像信息，分別測(cè)定所述圖案的形狀。
10.如權(quán)利要求1?3中任一項(xiàng)所述的測(cè)定裝置，其特征在于: 所述測(cè)定部根據(jù)使所述拍攝部多次拍攝所述基板的圖案而獲得的多個(gè)所述圖案的圖像信息，測(cè)定所述圖案的形狀。
11.一種基板處理系統(tǒng)，其特征在于，包括: 在基板上涂敷抗蝕劑的抗蝕劑涂敷裝置； 對(duì)由所述抗蝕劑涂敷裝置所形成的抗蝕劑膜進(jìn)行曝光使其成規(guī)定的圖案形狀的曝光裝置； 對(duì)由所述抗蝕劑涂敷裝置所形成的抗蝕劑膜局部曝光的局部曝光裝置； 將由所述曝光裝置和所述局部曝光裝置曝光后的基板顯影而形成圖案的顯影裝置；和 對(duì)形成于所述基板上的圖案的形狀進(jìn)行測(cè)定的測(cè)定裝置， 所述測(cè)定裝置包括: 搬送形成有所述圖案的所述基板的搬送部； 配置于所述搬送部的上方、對(duì)載置于所述搬送部上的所述基板的圖案進(jìn)行拍攝的拍攝部；和 根據(jù)在所述拍攝部中拍攝的所述圖案的圖像信息來(lái)測(cè)定所述圖案的形狀的測(cè)定部。
12.一種測(cè)定方法，其特征在于，包括: 利用搬送形成有圖案的基板的搬送部來(lái)搬送所述基板的搬送步驟； 利用配置于所述搬送部的上方、對(duì)載置于所述搬送部上的所述基板的圖案進(jìn)行拍攝的拍攝部，拍攝所述基板的圖案的拍攝步驟；和 根據(jù)在所述拍攝步驟中所拍攝的所述圖案的圖像信息，測(cè)定所述圖案的形狀的測(cè)定步驟。
【文檔編號(hào)】H01L21/02GK104425308SQ201410455722
【公開(kāi)日】2015年3月18日 申請(qǐng)日期:2014年9月9日 優(yōu)先權(quán)日:2013年9月9日
【發(fā)明者】森山茂, 尾上幸太朗, 后藤英昭, 藤原真樹(shù) 申請(qǐng)人:東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社