柔性顯示器的制造方法
【專(zhuān)利摘要】一種柔性顯示器可抑制無(wú)機(jī)層中裂縫的生成并且抑制裂縫的擴(kuò)散。柔性顯示器包括柔性襯底和形成于該柔性襯底上的無(wú)機(jī)層。顯示單元形成于無(wú)機(jī)層上。顯示單元包括多個(gè)像素。每個(gè)像素包括有機(jī)發(fā)光二極管。薄膜封裝層覆蓋顯示單元。裂縫抑制層沿柔性襯底的邊緣形成。裂縫抑制層設(shè)置在無(wú)機(jī)層上并且位于薄膜封裝層的外側(cè)。
【專(zhuān)利說(shuō)明】柔性顯示器

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本公開(kāi)涉及柔性顯示器，更具體地涉及柔性顯示設(shè)備。

【背景技術(shù)】
[0002]平板顯示器可由襯底和包括形成于襯底上的多個(gè)像素的顯示單元形成。當(dāng)襯底由柔性襯底(例如，塑料膜)而非剛性襯底(例如，玻璃)形成時(shí)，平板顯示器可具有彎曲特性。柔性顯示設(shè)備可以是自發(fā)光型有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)顯示器。
[0003]柔性顯示設(shè)備可通過(guò)在柔性母板上形成多個(gè)顯示單元和多個(gè)薄膜封裝層的過(guò)程制成。上保護(hù)膜和下保護(hù)膜可被層疊在柔性母板中。多個(gè)薄膜封裝層可通過(guò)在多個(gè)薄膜封裝層之間進(jìn)行切割而被分離至單獨(dú)的柔性顯示器。上保護(hù)膜、下保護(hù)膜和柔性母板可通過(guò)使用切割刀的下壓方法被切割。
[0004]在切割過(guò)程中，強(qiáng)的下壓切割力可被傳輸至柔性顯示器，基本與此同時(shí)彎曲力可被施加至柔性顯示器。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明的示例性實(shí)施方式提供了可最小化切割過(guò)程中裂縫的生成并且通過(guò)防止裂縫朝向薄膜封裝層擴(kuò)散而防止故障(例如，面板收縮)的柔性顯示器。
[0006]根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式的柔性顯示器包括柔性襯底和形成于所述柔性襯底上的無(wú)機(jī)層。顯示單元形成于所述無(wú)機(jī)層上。所述顯示單元包括多個(gè)像素。每個(gè)像素包括有機(jī)發(fā)光二極管。薄膜封裝層覆蓋所述顯示單元。裂縫抑制層設(shè)置在所述無(wú)機(jī)層上且位于所述薄膜封裝層的外側(cè)。
[0007]所述裂縫抑制層可被配置為與所述柔性襯底的邊緣接觸。所述裂縫抑制層可設(shè)置在所述柔性襯底的最上面的邊緣處。
[0008]所述無(wú)機(jī)層可包括阻擋層、緩沖層、柵絕緣層和層間絕緣層。
[0009]所述阻擋層、所述緩沖層、所述柵絕緣層和所述層間絕緣層可覆蓋所述柔性襯底的整個(gè)頂面。
[0010]所述阻擋層和所述緩沖層可覆蓋所述柔性襯底的整個(gè)頂面。所述柵絕緣層和所述層間絕緣層可被設(shè)置在所述裂縫抑制層的內(nèi)側(cè)。所述柵絕緣層和所述層間絕緣層可被形成為與所述柔性襯底的邊緣相距恒定距離。
[0011]所述裂縫抑制層可形成于所述柔性襯底的內(nèi)側(cè)。所述裂縫抑制層可覆蓋所述無(wú)機(jī)層的一部分。所述無(wú)機(jī)層可包括阻擋層、緩沖層、柵絕緣層和層間絕緣層。
[0012]所述阻擋層和所述緩沖層可覆蓋所述柔性襯底的整個(gè)頂面。所述柵絕緣層和所述層間絕緣層可被設(shè)置在所述裂縫抑制層的內(nèi)側(cè)且與所述柔性襯底的邊緣相距恒定距離。
[0013]所述阻擋層、所述緩沖層、所述柵絕緣層和所述層間絕緣層可形成于所述裂縫抑制層的內(nèi)側(cè)且位于所述柔性襯底的邊緣與所述裂縫抑制層之間。
[0014]所述裂縫抑制層可包括有機(jī)材料。
[0015]所述顯示單元可包括平坦化層和像素限定層。所述裂縫抑制層可包括與所述平坦化層和所述像素限定層中的至少一個(gè)相同的材料。
[0016]所述裂縫抑制層可包括第一層和第二層，其中所述第一層包括與所述平坦化層相同的材料，所述第二層包括與所述像素限定層相同的材料。
[0017]所述裂縫抑制層可包括UV固化樹(shù)脂和/或熱固樹(shù)脂。
[0018]根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式，可防止因裂縫的擴(kuò)散引起的薄膜封裝層封裝功能的喪失?？煞乐姑姘迨湛s和顯示故障。

【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0019]參考附圖，通過(guò)詳細(xì)描述本發(fā)明構(gòu)思的示例性實(shí)施方式，本發(fā)明構(gòu)思的上面和其它特征將變得更加明顯，在附圖中:
[0020]圖1是根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式的柔性顯示器的俯視圖；
[0021]圖2是沿圖1的線I1-1I切割的部分剖視圖；
[0022]圖3是示出了制造根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式的柔性顯示器的方法的示意性首丨J視圖;
[0023]圖4是根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式的柔性顯示器的部分放大剖視圖；
[0024]圖5A和圖5B是根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式的柔性顯示器的部分放大剖視圖；以及
[0025]圖6是根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式的柔性顯示器的部分放大剖視圖。

【具體實(shí)施方式】
[0026]下文參考附圖更完整地描述本發(fā)明，在附圖中示出了本發(fā)明的示例性實(shí)施方式。本領(lǐng)域技術(shù)人員將認(rèn)識(shí)到，所描述的實(shí)施方式可在不背離本發(fā)明的精神或范圍的情況下以各種不同的形式進(jìn)行修改。
[0027]將理解，當(dāng)例如層、膜、區(qū)域或襯底的元件被稱(chēng)為“位于”另一元件“上”時(shí)，它可直接位于另一元件之上或可存在中間元件。
[0028]圖1是根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式的柔性顯示器的俯視圖，以及圖2是沿線I1-1I截取的圖1的部分剖視圖。
[0029]參考圖1和圖2，根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式的柔性顯示器100包括柔性襯底10、形成于柔性襯底10上的顯示單元20、以及薄膜封裝層30。薄膜封裝層30可覆蓋顯示單元20。顯示單元20可包括多個(gè)像素PE。顯示單元20可通過(guò)從多個(gè)像素PE中的每個(gè)發(fā)出的光的組合而顯示圖像。每個(gè)像素PE可包括像素電路和有機(jī)發(fā)光二極管(0LED)40。從OLED 40發(fā)出的光可由像素電路控制。
[0030]柔性襯底10可包括塑料膜，例如聚酰亞胺或聚碳酸脂。當(dāng)塑料膜具有比玻璃高的濕氣透過(guò)率和氧氣透過(guò)性時(shí)，應(yīng)該阻止外部濕氣和氧氣穿過(guò)柔性襯底10的透過(guò)性。阻擋層11和緩沖層12可形成于柔性襯底10上。
[0031]阻擋層11可由多個(gè)無(wú)機(jī)層(例如，硅氧化層和/或硅氮化層)形成。多個(gè)無(wú)機(jī)層可被交替和重復(fù)地堆疊。當(dāng)阻擋層11具有比可由塑料膜形成的柔性襯底10低的濕氣透過(guò)率和氧氣透過(guò)性時(shí)，可抑制透過(guò)柔性襯底10的濕氣和氧氣滲入顯示單元20。
[0032]緩沖層12可以是無(wú)機(jī)層，并且可包括例如硅氧化物或硅氮化物。緩沖層12可提供用于形成像素電路的平坦表面。緩沖層12可抑制濕氣和異物滲入像素電路和OLED 40。
[0033]薄膜晶體管50和電容器(未示出)可形成于緩沖層12上。薄膜晶體管50可包括半導(dǎo)體層51、柵電極52、源電極53和/或漏電極54。
[0034]半導(dǎo)體層51可包括多晶硅或氧化物半導(dǎo)體。半導(dǎo)體層51可包括未摻雜有雜質(zhì)的溝道區(qū)511、在溝道區(qū)的對(duì)應(yīng)兩側(cè)摻雜有雜質(zhì)的源區(qū)512和漏區(qū)513。當(dāng)半導(dǎo)體層51由氧化物半導(dǎo)體形成時(shí)，可增加用于保護(hù)半導(dǎo)體層51的單獨(dú)保護(hù)層。
[0035]柵絕緣層13可形成于半導(dǎo)體層51與柵電極52之間。層間絕緣層14可形成于柵電極52與源和漏電極53和54之間。柵絕緣層13和層間絕緣層14可以是無(wú)機(jī)層。
[0036]圖2所示的薄膜晶體管50可以是驅(qū)動(dòng)薄膜晶體管。像素電路可包括開(kāi)關(guān)薄膜晶體管(未示出)。開(kāi)關(guān)薄膜晶體管可以是選擇用于發(fā)光的像素的開(kāi)關(guān)元件。驅(qū)動(dòng)薄膜晶體管可將用于使所選像素發(fā)光的功率施加至相應(yīng)像素。
[0037]在圖2中，薄膜晶體管50可形成有例如頂柵結(jié)構(gòu)，但是薄膜晶體管50的結(jié)構(gòu)不限于此。像素電路可包括三個(gè)或更多個(gè)薄膜晶體管和兩個(gè)或更多個(gè)電容器。
[0038]平坦化層15可形成于源和漏電極53和54上。平坦化層15可包括有機(jī)材料。平坦化層15可包括例如丙烯基樹(shù)脂、環(huán)氧樹(shù)脂、酚醛樹(shù)脂、聚酰胺樹(shù)脂等。平坦化層15可具有部分暴露漏電極54的通孔。OLED 40可形成于平坦化層15上。
[0039]OLED 40可包括像素電極41、有機(jī)發(fā)光層42和公共電極43。像素電極41可形成于每個(gè)像素中。像素電極41可與薄膜晶體管50的漏電極54連接。公共電極43可形成于柔性襯底10的整個(gè)顯示區(qū)域DA。像素電極41可被像素限定層16包圍。像素限定層16可分隔像素區(qū)域。有機(jī)發(fā)光層42可形成于暴露的像素電極41上。像素限定層16可由有機(jī)材料(例如，聚酰亞胺)形成。
[0040]有機(jī)發(fā)光層42可以是紅色發(fā)光層、綠色發(fā)光層或藍(lán)色發(fā)光層。有機(jī)發(fā)光層42可以是單個(gè)白色發(fā)光層。有機(jī)發(fā)光層42可具有紅色發(fā)光層、綠色發(fā)光層和/或藍(lán)色發(fā)光層的層疊結(jié)構(gòu)。當(dāng)有機(jī)發(fā)光層42具有層疊結(jié)構(gòu)時(shí)，可包括濾色器(未示出)。
[0041]像素電極和公共電極中的一個(gè)可以是空穴注入電極(陽(yáng)極)而另一個(gè)可以是電子注入電極(陰極)。從陽(yáng)極注入的空穴和從陰極注入的電子可在有機(jī)發(fā)光層42中結(jié)合以生成激子。可在激子釋放能量時(shí)發(fā)出光。
[0042]空穴注入層和/或空穴傳輸層可被設(shè)置在陽(yáng)極與有機(jī)發(fā)光層42之間。電子注入層和/或電子傳輸層可被設(shè)置在陰極與有機(jī)發(fā)光層42之間?？昭ㄗ⑷雽?、空穴傳輸層、電子傳輸層和電子注入層可形成于柔性襯底10的整個(gè)顯示區(qū)域DA上。
[0043]像素電極41和公共電極43中的一個(gè)可由金屬反射層形成并且另一個(gè)可由例如半透射層或透明導(dǎo)電層形成。從有機(jī)發(fā)光層42發(fā)出的光可被金屬反射層反射。從有機(jī)發(fā)光層42發(fā)出的光然后可通過(guò)半透射層或透明導(dǎo)電層被發(fā)射到外部。當(dāng)光由半透射層發(fā)射時(shí)，從有機(jī)發(fā)光層42發(fā)射的光可被部分地反射到反射層，從而形成諧振結(jié)構(gòu)。
[0044]薄膜封裝層30可封裝OLED 40以使其免受外部環(huán)境影響。封裝層30可減少因濕氣和氧氣引起的OLED 40的劣化。薄膜封裝層30可具有多個(gè)有機(jī)層和多個(gè)無(wú)機(jī)層被一一交替堆疊的配置。
[0045]薄膜封裝層30的有機(jī)層可包括聚合物。薄膜封裝層30的有機(jī)層可以是由例如聚對(duì)苯二甲酸乙二酯、聚酰亞胺、聚碳酸脂、環(huán)氧樹(shù)脂、聚乙烯、和/或聚丙烯酸酯形成的單層或堆疊層。薄膜封裝層30的無(wú)機(jī)層可以是包含金屬氧化物或金屬氮化物的單層或堆疊層。例如，無(wú)機(jī)層可包含SiNx、Al203、S12和T12中的任一種。
[0046]柔性襯底10可包括設(shè)置有顯示單元20和薄膜封裝層30的顯示區(qū)域DA。柔性襯底10可包括設(shè)置在薄膜封裝層30外側(cè)的焊盤(pán)區(qū)域PA。與像素電路連接的焊盤(pán)電極(未示出)可被設(shè)置在焊盤(pán)區(qū)域PA中。焊盤(pán)電極可與附接至焊盤(pán)區(qū)域PA的膜61上的芯片或例如柔性印刷電路板電連接。在圖1中，參考標(biāo)號(hào)62表示安裝在焊盤(pán)區(qū)域PA中的集成電路
-H-* I I
心/T O
[0047]在柔性顯示器100中，包括阻擋層11、緩沖層12、柵絕緣層13和層間絕緣層14的無(wú)機(jī)層19可形成于柔性襯底10的整個(gè)上表面上。薄膜封裝層30可設(shè)置在與柔性襯底10的邊緣分離恒定距離的內(nèi)側(cè)，從而無(wú)機(jī)層19被暴露于薄膜封裝層30的外部。薄膜封裝層30可被設(shè)置在柔性襯底10的內(nèi)側(cè)。薄膜封裝層30與柔性襯底10之間可具有大約600 μ m至大約700 μ m的間隙。
[0048]圖3是示出了制造根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式的柔性顯示器的方法的示意性首1J視圖。
[0049]參考圖3，可通過(guò)在柔性母板110上形成多個(gè)顯示單元20和多個(gè)薄膜封裝層30的過(guò)程制造柔性顯示器100?？稍谌嵝阅赴?10中層疊上保護(hù)膜65和下保護(hù)膜66。通過(guò)在多個(gè)薄膜封裝層30之間進(jìn)行切割而將柔性母板110切割成單獨(dú)的柔性顯示器?？蓮姆蛛x的柔性顯示器移除上保護(hù)膜65和下保護(hù)膜66。
[0050]上保護(hù)膜65和下保護(hù)膜66可包括例如塑料膜和/或粘合層。
[0051]當(dāng)切割柔性母板110時(shí)，不需要使用用于切割剛性襯底(例如，玻璃)的滾輪切割或激光切割方法。例如，當(dāng)使用滾輪切割方法時(shí)，在切割過(guò)程中上保護(hù)膜65和下保護(hù)膜66可能被撕扯。例如，當(dāng)使用激光切割方法時(shí)，OLED 40可能會(huì)在初始階段因來(lái)自激光輻射的熱量被損壞?？赏ㄟ^(guò)使用切割刀67的下壓方法切割柔性母板110。
[0052]可在切割過(guò)程中將大約5噸或大約15噸的切割力施加至柔性母板110，從而應(yīng)力集中在設(shè)置在切割線CL處的無(wú)機(jī)層19。切割刀67可穿透上保護(hù)膜65并直接切割無(wú)機(jī)層19?？赡茉谌嵝阅赴?10中生成彎曲應(yīng)力?？赡軗p壞易碎的無(wú)機(jī)層19，由此生成裂縫。
[0053]參考圖1至圖3，根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式的柔性顯示器100包括裂縫抑制層70。可在薄膜封裝層30的外側(cè)在無(wú)機(jī)層19上沿柔性顯示器100的邊緣形成裂縫抑制層70。裂縫抑制層70可與柔性襯底10的對(duì)應(yīng)于切割線CL的邊緣接觸。裂縫抑制層70可被設(shè)置在柔性襯底10的最上面的邊緣處。
[0054]在顯示區(qū)域DA的外側(cè)，裂縫抑制層70可與薄膜封裝層30接觸或者可被設(shè)置為與薄膜封裝層30相距期望距離。在焊盤(pán)區(qū)域PA的外側(cè)，裂縫抑制層70可具有沿柔性襯底10邊緣的期望寬度。
[0055]裂縫抑制層70可包括與包含在平坦化層15和/或像素限定層16的至少一個(gè)中的有機(jī)材料相同的有機(jī)材料。裂縫抑制層70可包括第一層71。第一層71可包括與平坦化層15相同的材料。裂縫抑制層70可包括第二層72。第二層72可包括與像素限定層16相同的材料。第一層71的寬度可等于或大于平坦化層15的寬度，并且第二層72的寬度可等于或大于像素限定層16的寬度。
[0056]裂縫抑制層70可與平坦化層15和像素限定層16同時(shí)形成。不需要使用附加的圖案掩模來(lái)形成裂縫抑制層70。第一層71和平坦化層15可同時(shí)形成，第二層72和像素限定層16可同時(shí)形成。
[0057]當(dāng)由有機(jī)材料形成的裂縫抑制層70被設(shè)置在柔性襯底10的最上面的邊緣時(shí)，在圖3所示的切割過(guò)程中切割刀67可首先與裂縫抑制層70接觸而非與無(wú)機(jī)層19接觸。裂縫抑制層70可充當(dāng)設(shè)置在裂縫抑制層70下面的無(wú)機(jī)層19的緩沖構(gòu)件。裂縫抑制層70可在切割刀67與裂縫抑制層70或無(wú)機(jī)層19接觸時(shí)充當(dāng)緩沖構(gòu)件，可最小化無(wú)機(jī)層19中裂縫的生成。
[0058]兩個(gè)有機(jī)結(jié)構(gòu)(例如，裂縫抑制層70和柔性襯底10)可在柔性襯底10的與切割線CL對(duì)應(yīng)的邊緣處支撐無(wú)機(jī)層19。可防止裂縫通過(guò)無(wú)機(jī)層19向薄膜封裝層30擴(kuò)散?？煞乐挂蛄芽p擴(kuò)散引起的薄膜封裝層30封裝功能的喪失?？煞乐姑姘迨湛s和顯示故障。
[0059]裂縫抑制層可包括用作密封劑的UV固化樹(shù)脂或熱固樹(shù)脂。例如，UV固化樹(shù)脂可以是包含引發(fā)劑的聚酯樹(shù)脂、環(huán)氧樹(shù)脂、氨基甲酸酯樹(shù)脂、聚醚樹(shù)脂或聚丙烯酸酯類(lèi)樹(shù)脂。例如，熱固樹(shù)脂可以是環(huán)氧樹(shù)脂、氨基樹(shù)脂、酚醛樹(shù)脂、或聚酯樹(shù)脂。
[0060]例如，密封劑可比平坦化層15和像素限定層16更能抗外部沖擊。由密封劑形成的裂縫抑制層70可減少在切割過(guò)程中施加的沖擊。
[0061]圖4是根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式的柔性顯示器的部分放大剖視圖。
[0062]參考圖4，除了無(wú)機(jī)層19的一部分被設(shè)置在柔性襯底10的內(nèi)側(cè)且柔性襯底10的邊緣與無(wú)機(jī)層19之間具有間隙之外，根據(jù)本發(fā)明的示例實(shí)施方式的柔性顯示器200與根據(jù)圖1和圖2的示例性實(shí)施方式的柔性顯示器相同。相同的參考標(biāo)號(hào)可用于與圖1和圖2的本發(fā)明的示例性實(shí)施方式的部件相同的部件。
[0063]阻擋層11和緩沖層12可形成于柔性襯底10的整個(gè)頂面上，可阻止?jié)駳夂脱鯕鉂B入柔性襯底10。柵絕緣層13和層間絕緣層14可充當(dāng)絕緣層。柵絕緣層13的邊緣和層間絕緣層14的邊緣可被部分地去除。柵絕緣層13和層間絕緣層14可被設(shè)置在裂縫抑制層70的內(nèi)側(cè)。柵絕緣層13和層間絕緣層14可被設(shè)置為與柔性襯底10的邊緣相距恒定距離。
[0064]柵絕緣層13的邊緣和層間絕緣層14的邊緣可被設(shè)置在柔性襯底10的邊緣與薄膜封裝層30之間。裂縫抑制層70可與暴露的緩沖層12的頂面和層間絕緣層14的上部的一部分接觸。
[0065]由于無(wú)機(jī)層19的厚度在柔性襯底10的與切割線CL對(duì)應(yīng)的邊緣處減小，因此根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式的柔性顯示器200可在切割過(guò)程中抑制裂縫的生成并且在切割過(guò)程之后的過(guò)程中抑制裂縫的擴(kuò)散。
[0066]圖5A和圖5B是根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式的柔性顯示器的部分放大剖視圖。
[0067]參考圖5A和圖5B，除了裂縫抑制層70形成于柔性襯底10的內(nèi)側(cè)且柔性襯底10的邊緣與裂縫抑制層70的一側(cè)具有間隙以外，根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式的柔性顯示器300與圖1和圖2的示例性實(shí)施方式的柔性顯示器相同。相同的參考標(biāo)號(hào)可用于與圖1和圖2的示例性實(shí)施方式的部件相同的部件。
[0068]當(dāng)切割線CL與裂縫抑制層70之間的間隙相對(duì)較小并且柔性襯底10被設(shè)置在裂縫的內(nèi)側(cè)且柔性襯底10的邊緣與裂縫抑制層70之間具有恒定的間隙時(shí)，切割刀67可在切割過(guò)程中與切割線CL兩側(cè)的裂縫抑制層70接觸。裂縫抑制層70可充當(dāng)被設(shè)置在位于它們之間的無(wú)機(jī)層19的緩沖構(gòu)件并且最小化無(wú)機(jī)層19中裂縫的生成。裂縫抑制層70可在切割刀67與裂縫抑制層70接觸時(shí)最小化無(wú)機(jī)層19中裂縫的生成。
[0069]在根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式的柔性顯示器300中，無(wú)機(jī)層19的一部分例如柵絕緣層13的一部分和層間絕緣層14的一部分可被去除，并且柵絕緣層13和層間絕緣層14可形成于裂縫抑制層70的內(nèi)側(cè)且位于柔性襯底10的邊緣與裂縫抑制層70之間。無(wú)機(jī)層19的厚度可在柔性襯底10的邊緣處減小，從而可抑制裂縫的生成和裂縫的擴(kuò)散。
[0070]圖6是根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式的柔性顯示器的部分放大剖視圖。
[0071]參考圖6，除了整個(gè)無(wú)機(jī)層19形成于裂縫抑制層70的內(nèi)側(cè)且位于柔性襯底10的邊緣與裂縫抑制層70之間以外，根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式的柔性顯示器400與圖5A和圖5B的不例性實(shí)施方式的柔性顯不器相同。相同的參考標(biāo)號(hào)可用于指向與圖5A和圖5B的示例性實(shí)施方式的部件相同的部件。
[0072]整個(gè)無(wú)機(jī)層19的一部分可被去除并且無(wú)機(jī)層19可被設(shè)置在裂縫抑制層70的內(nèi)側(cè)且位于柔性襯底10的邊緣與裂縫抑制層70之間。柔性襯底10可在切割線CL周?chē)槐┞叮⑶伊芽p抑制層70可覆蓋無(wú)機(jī)層19的側(cè)表面和上表面的一部分。
[0073]根據(jù)圖6的示例性實(shí)施方式，切割線CL周?chē)臒o(wú)機(jī)層19可被去除，并且切割刀67在切割過(guò)程中不需要與無(wú)機(jī)層19接觸。切割刀67可與切割線CL兩側(cè)的柔性襯底10和裂縫抑制層70接觸。可最小化切割過(guò)程中無(wú)機(jī)層19中裂縫的生成，并且可基本抑制切割過(guò)程之后裂縫的擴(kuò)散。根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式的柔性顯示器可防止因破裂損壞薄膜封裝層30，并且基本防止薄膜封裝層30封裝功能的喪失。
[0074]盡管參考本發(fā)明的示例性實(shí)施方式具體示出和描述了本發(fā)明，但是本領(lǐng)域技術(shù)人員將理解，可在不背離本發(fā)明的精神和范圍的前提下對(duì)其進(jìn)行各種形式和細(xì)節(jié)的改變。
【權(quán)利要求】
1.一種柔性顯不器，包括: 柔性襯底； 無(wú)機(jī)層，設(shè)置在所述柔性襯底上； 顯示單元，設(shè)置在所述無(wú)機(jī)層上，其中，所述顯示單元包括多個(gè)像素，每個(gè)像素包括有機(jī)發(fā)光二極管； 薄膜封裝層，覆蓋所述顯示單元；以及 裂縫抑制層，沿所述柔性襯底的邊緣形成，其中，所述裂縫抑制層設(shè)置在所述無(wú)機(jī)層上且位于所述薄膜封裝層的外側(cè)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的柔性顯示器，其中，所述裂縫抑制層被配置為與所述柔性襯底的邊緣接觸，并且所述裂縫抑制層被設(shè)置在所述柔性襯底的最上面的邊緣處。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的柔性顯示器，其中，所述無(wú)機(jī)層包括阻擋層、緩沖層、柵絕緣層和層間絕緣層。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的柔性顯示器，其中，所述阻擋層、所述緩沖層、所述柵絕緣層和所述層間絕緣層覆蓋所述柔性襯底的整個(gè)頂面。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的柔性顯示器，其中，所述阻擋層和所述緩沖層覆蓋所述柔性襯底的整個(gè)頂面，所述柵絕緣層和所述層間絕緣層被設(shè)置在所述裂縫抑制層的內(nèi)側(cè)，并且所述柵絕緣層和所述層間絕緣層被設(shè)置為與所述柔性襯底的邊緣相距恒定距離。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的柔性顯示器，其中，所述裂縫抑制層形成于所述柔性襯底的內(nèi)側(cè)，并且所述裂縫抑制層覆蓋所述無(wú)機(jī)層的一部分。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的柔性顯示器，其中，所述無(wú)機(jī)層包括阻擋層、緩沖層、柵絕緣層和層間絕緣層。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的柔性顯示器，其中，所述阻擋層和所述緩沖層覆蓋所述柔性襯底的整個(gè)頂面，并且所述柵絕緣層和所述層間絕緣層被設(shè)置在所述裂縫抑制層的內(nèi)側(cè)且與所述柔性襯底的邊緣相距恒定距離。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的柔性顯示器，其中，所述阻擋層、所述緩沖層、所述柵絕緣層和所述層間絕緣層形成于所述裂縫抑制層的內(nèi)側(cè)且位于所述柔性襯底的邊緣與所述裂縫抑制層之間。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的柔性顯示器，其中，所述裂縫抑制層包括有機(jī)材料。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的柔性顯示器，其中，所述顯示單元包括平坦化層和像素限定層，并且所述裂縫抑制層包括與所述平坦化層或所述像素限定層相同的材料。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的柔性顯示器，其中，所述裂縫抑制層包括第一層和第二層，所述第一層包括與所述平坦化層相同的材料，所述第二層包括與所述像素限定層相同的材料。
13.根據(jù)權(quán)利要求10所述的柔性顯示器，其中，所述裂縫抑制層包括UV固化樹(shù)脂和熱固樹(shù)脂中的至少一種。
14.一種柔性顯示器，包括: 柔性襯底； 無(wú)機(jī)層，設(shè)置在所述柔性襯底的一部分上，其中，所述柔性襯底的一部分未被所述無(wú)機(jī)層覆蓋； 薄膜封裝層，設(shè)置在所述顯示單元上，其中，所述顯示單元設(shè)置在所述無(wú)機(jī)層上；以及裂縫抑制層，形成于所述柔性襯底未被所述無(wú)機(jī)層覆蓋的部分上，其中所述裂縫抑制層覆蓋所述無(wú)機(jī)層的側(cè)部和頂部，并且所述裂縫抑制層被配置為在切割過(guò)程中防止裂縫在所述無(wú)機(jī)層中形成。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的柔性顯示器，其中，所述裂縫抑制層被配置為在所述裂縫抑制層的邊緣與所述柔性襯底的外邊緣之間形成間隙。
16.根據(jù)權(quán)利要求14所述的柔性顯示器，還包括設(shè)置在所述薄膜封裝層上的上保護(hù)膜。
17.根據(jù)權(quán)利要求14所述的柔性顯示器，其中，所述無(wú)機(jī)層包括阻擋層、緩沖層、柵絕緣層和層間絕緣層。
18.根據(jù)權(quán)利要求14所述的柔性顯示器，其中，所述裂縫抑制層包括第一層和第二層。
19.根據(jù)權(quán)利要求14所述的柔性顯示器，其中，所述裂縫抑制層包括UV固化樹(shù)脂和熱固樹(shù)脂。
20.根據(jù)權(quán)利要求14所述的柔性顯示器，其中，所述裂縫抑制層包括密封劑。
【文檔編號(hào)】H01L51/52GK104377223SQ201410391889
【公開(kāi)日】2015年2月25日 申請(qǐng)日期:2014年8月11日 優(yōu)先權(quán)日:2013年8月13日
【發(fā)明者】金光年 申請(qǐng)人:三星顯示有限公司