用于有機(jī)電子器件的基板的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種用于有機(jī)電子器件的基板、一種有機(jī)電子設(shè)備、一種制造所述基板或所述設(shè)備的方法、以及一種照明設(shè)備。本申請的用于有機(jī)電子器件的基板例如可用于制造一種有機(jī)電子設(shè)備，其防止外界物質(zhì)例如濕氣和氧氣滲入，且具有增加的耐久性和優(yōu)異的光提取效率。另外，通過使用所述基板，封裝結(jié)構(gòu)用于密封有機(jī)電子設(shè)備，所述基板可穩(wěn)定地粘附于所述封裝結(jié)構(gòu)，能夠制造在電極層被磨損或從外部施加壓力的環(huán)境下具有優(yōu)異的耐久性的器件。并且有機(jī)電子設(shè)備的外部端子部的表面硬度可保持在合適的水平。
【專利說明】用于有機(jī)電子器件的基板
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本申請涉及用于有機(jī)電子器件的基板、有機(jī)電子設(shè)備、制造所述設(shè)備或所述基板 的方法、以及照明設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002] 有機(jī)電子器件（OED;0rganicElectronicDevice)是一種包括至少一個能夠傳導(dǎo) 電流的有機(jī)材料層的器件。有機(jī)電子器件的類型包括有機(jī)發(fā)光器件（0LED)、有機(jī)太陽能電 池、有機(jī)光導(dǎo)體（0PC)或有機(jī)晶體管等。
[0003] 有機(jī)發(fā)光器件，作為有機(jī)電子器件的代表，通常依次包括基板、第一電極層、有機(jī) 層和第二電極層。在一種已知為底部發(fā)光器件（bottomemittingdevice)的結(jié)構(gòu)中，第一 電極層可形成為透明電極層，且第二電極層可形成為反射電極層。此外，在一種已知為頂部 發(fā)光器件（topemittingdevice)的結(jié)構(gòu)中，第一電極層可形成為反射電極層，且第二電 極層可形成為透明電極層。由電極層注入的電子（electron)和空穴（hole)在存在于有 機(jī)層的發(fā)光層中重新結(jié)合（recombination)以產(chǎn)生光子。對于底部發(fā)光器件，光子可向基 板側(cè)發(fā)射，而對于頂部發(fā)光器件，光子可向第二電極層側(cè)發(fā)射。在有機(jī)發(fā)光器件的結(jié)構(gòu)中， 通常用作透明電極層的銦錫氧化物（IT0,IndiumTinOxide)、有機(jī)層和通常為玻璃的基板 的折射率分別為約2. 0、1. 8或1. 5。由于這些折射率之間的關(guān)系，例如，底部發(fā)光器件的發(fā) 光層中產(chǎn)生的光子可被介于有機(jī)層和第一電極層的界面中或在基板中的全內(nèi)反射（total internalreflection)現(xiàn)象等而捕獲（trap),因此，僅發(fā)射極少量的光子。
[0004] 有機(jī)電子器件中應(yīng)考慮的另一重要問題在于耐久性。由于有機(jī)層或電極層等極易 被濕氣或氧氣等的外界物質(zhì)氧化，因此確保對環(huán)境因素的耐久性是非常重要的。為此，例 如，專利文獻(xiàn)1至4提出可阻止外界物質(zhì)侵入的結(jié)構(gòu)。
[0005] 現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn) [0006] 專利文獻(xiàn)
[0007] 專利文獻(xiàn)1:美國專利第6, 226, 890號 [0008] 專利文獻(xiàn)2 :美國專利第6, 808, 828號
[0009] 專利文獻(xiàn)3 :日本公開專利第2000-145627號
[0010] 專利文獻(xiàn)4 :日本公開專利第2001-252505號
【發(fā)明內(nèi)容】
[0011] 技術(shù)課題
[0012] 本發(fā)明提供一種用于有機(jī)電子器件的基板、有機(jī)電子設(shè)備、制造所述基板或所述 設(shè)備的方法以及照明設(shè)備。
[0013] 技術(shù)方案
[0014] 用于有機(jī)電子器件的示例性的基板包括基礎(chǔ)層、光學(xué)功能層、及電極層。本文中， 光學(xué)功能層和電極層可依次層疊于基礎(chǔ)層上，因此，光學(xué)功能層可位于基礎(chǔ)層和電極層之 間。圖1和圖2示出示例性的基板，其中，光學(xué)功能層103和電極層102依次形成于基礎(chǔ)層 101上。所述光學(xué)功能層可以具有與所述基礎(chǔ)層相比小的投影面積，電極層可以具有與所 述光學(xué)功能層相比大的投影面積。本說明書中使用的術(shù)語"投影面積"是指，從所述基板表 面的法線方向的上方觀察基板時可分辨的對象物的投影面積，例如，所述基礎(chǔ)層、光學(xué)功能 層、電極層、或下文所述的中間層的面積。因此，例如，由于光學(xué)功能層的表面形成為凹-凸 形狀等，因此，在所述光學(xué)功能層的實際表面積比電極層大的情況下，如果從上方觀察所述 光學(xué)功能層時可分辨的面積與從上方觀察所述電極層時可分辨的面積相比更小，則理解為 所述光學(xué)功能層具有與所述電極層相比小的投影面積。
[0015] 若光學(xué)功能層的投影面積比基礎(chǔ)層小，且其投影面積比電極層小，則光學(xué)功能層 可以以各種形態(tài)存在。例如，如圖1所示，光學(xué)功能層103可以僅在不包括基礎(chǔ)層101的外 圍的區(qū)域形成，或如圖2所述，光學(xué)功能層103可以在基礎(chǔ)層101的外圍上部分地保留。
[0016] 圖3是示出從上方觀察圖1中的基板的示例性實施方案的示意圖。如圖3所示， 從上部觀察基板時可以分辨的電極層面積（A)，即電極層的投影面積（A)大于位于電極層 下部的光學(xué)功能層的投影面積（B)。電極層的投影面積（A)與光學(xué)功能層的投影面積（B) 之比值（A/B)可以為例如1. 04以上、1. 06以上、1. 08以上、1. 1以上或1. 15以上。若光學(xué) 功能層的投影面積與所述電極層的投影面積相比小時，則可以實現(xiàn)下文所述的光學(xué)功能層 不暴露在外部的結(jié)構(gòu)，因此，所述投影面積的比值（A/B)的上限不作特別限制?？紤]到基板 的一般制作環(huán)境，所述比值（A/B)的上限值可以為，例如約2. 0、約1. 5、約1. 4、約1. 3或約 1.25。在所述基板中，電極層還可形成于未形成光學(xué)功能層的所述基礎(chǔ)層的上方。所述電 極層以接觸所述基礎(chǔ)層的方式形成，或在電極層與基礎(chǔ)層之間包括附加的元件如下文所述 的中間層等的方式形成。通過上述方式，在制造有機(jī)電子器件時，所述結(jié)構(gòu)中的光學(xué)功能層 可不暴露于外界環(huán)境。
[0017]例如，如圖3所示，電極層可以為在從上方觀察時在超出光學(xué)功能層的全部外圍 區(qū)域的區(qū)域形成。此時，例如，如圖2所示，在基礎(chǔ)層上存在多個光學(xué)功能層的情況下，電極 層可形成至超過至少一個光學(xué)功能層的全部外圍的區(qū)域，例如，如下所述，光學(xué)功能層為例 如包括至少一個其上待形成有機(jī)層的光學(xué)功能層。例如，如果在圖2結(jié)構(gòu)的右側(cè)和左側(cè)的 光學(xué)功能層上也將形成有機(jī)層，則圖2的結(jié)構(gòu)可發(fā)生變化，以使電極層通過延伸至光學(xué)功 能層的右側(cè)和左側(cè)而形成至超過位于所述右側(cè)和左側(cè)的光學(xué)功能層的全部外圍的區(qū)域。在 上述結(jié)構(gòu)中，光學(xué)功能層不暴露于外部的結(jié)構(gòu)，可通過將后述的封裝結(jié)構(gòu)粘附于在下方未 形成光學(xué)功能層的電極層或形成導(dǎo)電層而形成。
[0018]光學(xué)功能層的投影面積與電極層的投影面積不相同，電極層也形成在未形成有光 學(xué)功能層的基礎(chǔ)層的上方的情況下，通過在未形成有光學(xué)功能層的基礎(chǔ)層上形成的電極層 (下面，可簡稱為基礎(chǔ)層上的電極層）和在光學(xué)功能層上形成的電極層（下面，可簡稱為光 學(xué)功能層上的電極層）的界面的高度差（例如，在圖1中以附圖標(biāo)記X表示的區(qū)域中的高 度差），可能會導(dǎo)致增加電極層的電阻。在使用所述基板而制造有機(jī)電子設(shè)備的情況下， 這種電阻的增加可能會導(dǎo)致使施加于所述設(shè)備的電壓上升，由此產(chǎn)生降低效率的問題。因 此，考慮到這種問題，需要將在所述光學(xué)功能層上形成的電極層和在未形成有所述光學(xué)功 能層的基礎(chǔ)層上形成的電極層之間的電阻調(diào)節(jié)在適當(dāng)?shù)姆秶鷥?nèi)。例如，以平行于在所述光 學(xué)功能層上形成的電極層和在未形成所述光學(xué)功能層的基礎(chǔ)層上形成的電極層的界面的 方式，在所述界面兩側(cè)的規(guī)定距離形成平行電極，在所述兩個平行電極之間測量的電阻率 (resistivity)為：8. 5Q?cm至 20Q?cm、8. 5Q?cm至 15Q?cm、8. 5Q?cm至 13Q?cm、 或9Q至12Q 的程度。本說明書中使用的術(shù)語"電阻率"是指以如下方式測量的 電阻值。即，首先，切割用于有機(jī)電子器件的基板而制作試樣。例如，如圖4所示，試樣可以 形成平行電極401而制作，其中平行電極401是以在光學(xué)功能層上形成的電極層1022和在 未形成有光學(xué)功能層的基礎(chǔ)層上形成的電極層1021的界面為基準(zhǔn)，橫向長度（D1+D2，D1 = D2)為3mm、縱向長度（D4)為10mm程度的平行電極401。如上所述的平行電極與待測量的 電極層1021U022相比，可以以面電阻低10倍以上的物質(zhì)形成，例如，可以使用銀焊膏而形 成，其橫向長度0)3)為約3mm或3mm以上。接著，在該平行電極401連接電阻測量儀402后， 通過所述測量儀402可以測量電阻率。即，所述電阻率是，在所述平行電極401之間測量的 電阻除以所述平行電極401間的寬度的數(shù)值。上述的長度方向是電流流動的方向，即為垂 直于所述平行電極的長度方向的方向，寬度方向是指與所述平行電極平行的方向。另一方 面，對在形成有所述高度差的電極層上用所述方法測量的電阻率值（R1)和不具有高度差 而平坦地形成的電極層，以相同的方式測量的電阻率值（R2)的差（R1-R2)例如為，10Q 以下、9Q.cm以下、7Q.cm以下、或5Q.cm以下。所述電阻值的差（R1-R2)，其數(shù)值越小 越優(yōu)選，并且其下限沒有特別的限定。
[0019]在所述基板中，對將電極層間的電阻調(diào)節(jié)在所述范圍的方法沒有特別的限定。作 為一種方法，例如，可以示出調(diào)節(jié)所述光學(xué)功能層和電極層的厚度的方法。上述的電極層的 厚度是指，在未形成有光學(xué)功能層的基礎(chǔ)層上形成的電極層的厚度。通過適當(dāng)?shù)卣{(diào)節(jié)所述 光學(xué)功能層和電極層的厚度，能夠調(diào)節(jié)電極層間的電阻。例如，在所述基板中，所述光學(xué)功 能層的厚度（T1)和在未形成有所述光學(xué)功能層的基礎(chǔ)層的上方形成的電極層的厚度（T2) 的比值（T1/T2)為，約3至15、約4至12、或約5至10。上述的光學(xué)功能層及電極層的厚度 是指各自的平均厚度。若在上述范圍內(nèi)適當(dāng)?shù)卣{(diào)節(jié)所述比值（T1/T2)，則能夠調(diào)節(jié)電極層間 的電阻。
[0020] 在所述基板中，所述基礎(chǔ)層上的電極層可以具有6H以上、7H以上、或8H以上的鉛 筆硬度。如下所述，所述基礎(chǔ)層上的電極層與封裝結(jié)構(gòu)等一同可以形成光學(xué)功能層不暴露 于外部的結(jié)構(gòu)，另外，在如有機(jī)電子設(shè)備等器件中可以與外部電源等連接。由于電極層可 能會持續(xù)地被磨損或暴露在壓力環(huán)境中，因此，為了制造電連接等穩(wěn)定的器件，需要高耐久 性。若基礎(chǔ)層上的電極層具有上述范圍內(nèi)的鉛筆硬度，則能夠?qū)崿F(xiàn)在被持續(xù)磨損或暴露在 壓力環(huán)境下具有優(yōu)異的耐久性的結(jié)構(gòu)。另外，鉛筆硬度越高，能夠制造出在被持續(xù)磨損或暴 露于環(huán)境下具有越優(yōu)異的耐久性的結(jié)構(gòu)，因此，對所述鉛筆硬度的上限沒有特別的限制。例 如，常用的所述鉛筆硬度的上限可以是10H或9H左右。在所述基板，所述光學(xué)功能層上的 電極層與所述基礎(chǔ)層上的電極層可以具有互不相同的鉛筆硬度。例如，在所述基板中，基礎(chǔ) 層上的電極層可以具有上述范圍內(nèi)的鉛筆硬度，光學(xué)功能層上的電極層可以具有2B至5H、 1H至5H、或1H至4H程度的鉛筆硬度。本說明書中的鉛筆硬度是，根據(jù)ASTMD3363,以500g 的鉛筆荷重和250mm/min的鉛筆移動速度來測量的。
[0021] 就所述基板而言，例如，還可以包括均與所述光學(xué)功能層上的電極層及所述基礎(chǔ) 層上的電極層電連接的導(dǎo)電層。圖5示出一種基板的示例性實施方案，其中基板進(jìn)一步包 含導(dǎo)電物質(zhì)，導(dǎo)電物質(zhì)501通過均與基礎(chǔ)層上的電極層1021和光學(xué)功能層上的電極層1022 這兩者物理接觸而實現(xiàn)電連接。本說明書中使用的術(shù)語"電連接"是指，在所連接的對象 之間電流可以流動的所有的連接狀態(tài)。若導(dǎo)電物質(zhì)以如上方式形成，則如上所述，能夠解 決在基礎(chǔ)層上的電極層和光學(xué)功能層上的電極層的界面的高度差所產(chǎn)生的電極層的電阻 增加的問題，從而不局限在上述的光學(xué)功能層的厚度和基礎(chǔ)層上的電極層厚度的調(diào)節(jié)等方 面，能夠更加自由地制造基板。另外，由于存在導(dǎo)電物質(zhì)，因此能夠更加有效地制造光學(xué)功 能層未暴露于外部的結(jié)構(gòu)。所述導(dǎo)電物質(zhì)的種類，只要是能夠與所述電極層電連接的，就沒 有特別的限制，例如，能夠使用多種電子產(chǎn)品領(lǐng)域中所使用的電極材料。例如，所述導(dǎo)電物 質(zhì)能夠使用銀（Ag)、銅（Cu)、鎳（Ni)、鑰（Mo)、或鋁（A1)等金屬電極材料等。在所述基板 中，在存在有與所述電極層電連接的導(dǎo)電物質(zhì)的狀態(tài)下所測量的所述電阻率可以為，例如， IQ.cm至 8.5Q.cnulQ.cm至 8.0Q.cm、或IQ.cm至 7.7Q.cm。所述電阻除了在 存在有與電極層電連接的導(dǎo)電物質(zhì)的狀態(tài)下進(jìn)行測量之外，可以與上述內(nèi)容用相同的方式 進(jìn)行測量。
[0022] 所述基板還包括，例如，在所述光學(xué)功能層與所述電極層之間存在的中間層。就所 述中間層而言，例如，與所述光學(xué)功能層相比具有更大的投影面積，另外可以形成在所述光 學(xué)功能層的上方及未形成有所述光學(xué)功能層的基礎(chǔ)層的上方。圖6示出基板的示例性實施 方案，其中基板還包括以如上所述的方案形成的中間層601。如上所述的中間層，使在由所 述光學(xué)功能層而形成的光學(xué)功能層上的電極層和基礎(chǔ)層上的電極層的界面的高度差縮小， 從而解決電極層的電阻增加的問題。另外，作為所述中間層使用勢壘層，即使用水分或濕氣 的透過率低的物質(zhì)，則能夠更加有效地制造光學(xué)功能層未暴露于外部的結(jié)構(gòu)。所述中間層 可以是，例如，與所述電極層的折射率之差的絕對值約為1以下、0.7以下、0.5以下、或0.3 以下的層。若以如上方式調(diào)節(jié)折射率，則例如在電極層的上方產(chǎn)生的光，在所述電極層和中 間層的界面等被捕獲，從而能夠防止光提取效率的下降。上述的中間層或電極層的折射率 是對550nm程度的波長的光進(jìn)行測量的折射率。形成所述中間層的物質(zhì)是，具有與如上所 述的電極層的折射率的關(guān)系，根據(jù)需要，可以是具有勢壘性的物質(zhì)。這種物質(zhì)已被公知，例 如，SiON、Ti02、Si02、A1203、Ta203、Ti303、TiO、Zr02、Nb203、Ce02、或ZnS等。所述中間層使用 如上所述的物質(zhì)，例如通過沉積法或濕涂法等方法形成。對中間層的厚度沒有特別的限制， 例如，可以在約l〇nm至100nm、或約20nm至80nm的范圍內(nèi)。所述厚度是指平均厚度，例如， 在光學(xué)功能層上形成的中間層和在基礎(chǔ)層上形成的中間層可能具有互不相同的厚度。
[0023] 在所述基板中，作為基礎(chǔ)層，可以無特別限制地使用合適的材料。例如，當(dāng)用于 底部發(fā)光（bottomemission)器件時，可使用透明基礎(chǔ)層，例如使用相對于可見光區(qū)域 的光的透光率為50%以上的基礎(chǔ)層。作為透明基礎(chǔ)層，可列舉玻璃基礎(chǔ)層或透明聚合物 基礎(chǔ)層等。玻璃基礎(chǔ)層的實例可包括鈉鈣玻璃、含有鋇/鍶的玻璃、鉛玻璃、鋁硅酸鹽玻 璃、硼硅酸鹽玻璃、鋇硼硅酸鹽玻璃或石英等基礎(chǔ)層，聚合物基礎(chǔ)層的實例可包括含有聚 酰亞胺（PI，polyimide)、聚萘二甲酸乙二酯（PEN,Polyethylenenaphthalate)、聚碳 酸酯（PC,polycarbonate)、丙烯酸樹脂、聚對苯二甲酸乙二醇酯（PET,poly(ethylene trephthatle))、聚醚硫化物（PES，poly(ethersulfide))或聚砜（PS,polysulfone)等的基 礎(chǔ)層，但不限于此。根據(jù)需要，基礎(chǔ)層可為具有用于驅(qū)動的TFT的TFT基板。如果將基板用 于頂部發(fā)光（topemission)器件，則基礎(chǔ)層無需必須為透明基礎(chǔ)層。根據(jù)需要，可在基礎(chǔ) 層的表面等形成例如由鋁形成的反射層。例如，如上所述，需要將基礎(chǔ)層上的電極層的鉛筆 硬度維持在高水平的情況下，能夠使用如玻璃基礎(chǔ)層等的具有剛性的基礎(chǔ)層。
[0024]所述基板中，電極層可為用于制造有機(jī)電子器件的常規(guī)的空穴注入或電子注入電 極層。
[0025] 空穴注入電極層例如可使用功函數(shù)（workfuction)相對較高的材料形成，根據(jù) 需要，可使用透明材料形成。例如，空穴注入電極層可包括功函數(shù)為至少約4.OeV的金屬、 合金、導(dǎo)電化合物或這些的至少兩種的混合物。這類材料的實例包括金屬，如金；Cul;氧化 物材料，如氧化銦錫（IT0)、氧化銦鋅（IZ0)、氧化鋅錫（ZT0)、摻雜鋁或銦的氧化鋅、氧化鎂 銦、氧化鎳鎢、ZnO、Sn02或ln203 ;金屬氮化物，如氮化鎵；金屬硒化物，如硒化鋅；和金屬硫 化物，如硫化鋅。此外，透明空穴注入電極層可用金屬薄層和高折射透明材料的層疊體形 成，所述金屬例如Au、Ag或Cu，所述高折射透明材料如ZnS、Ti02或IT0。
[0026] 空穴注入電極層可通過任意方法形成，所述方法例如沉積法、噴濺法、化學(xué)沉積法 或電化學(xué)方法。此外，根據(jù)需要，形成的電極層可通過已知的技術(shù)例如光刻法或蔭罩法形成 圖案。
[0027]透明電子注入電極層可用例如功函數(shù)相對較小的透明材料形成，例如，可以使用 上述用于形成所述空穴注入電極層的合適的材料，但不限于此。電子注入電極層還可以通 過例如沉積法或噴濺法形成，并且，根據(jù)需要，可適當(dāng)?shù)匦纬蓤D案。
[0028]對如上所述的電極層的厚度沒有特別的限定，但考慮到上述的電極層間的電阻 等，例如，可以具有約90nm至200nm、90nm至180nm、或約90nm至150nm的厚度而形成。
[0029]在所述基板中，對位于電極層和基礎(chǔ)層之間的光學(xué)功能層的種類沒有特別的限 制。由于光學(xué)功能層位于電極層和基礎(chǔ)層之間，至少發(fā)揮一種光學(xué)功能，因此，能夠使用如 有機(jī)電子設(shè)備等能夠提高器件功能的任意種類的層。通常情況下，就這種光學(xué)功能層而言， 由于對從外部滲入的水分或濕氣等物質(zhì)的耐久性下降，因此在制造器件后可能會提供所述 水分或濕氣等向器件內(nèi)部滲入的路徑，從而對器件的性能產(chǎn)生惡劣影響。但是，由于在所述 基板的結(jié)構(gòu)中的光學(xué)功能層或電極層等的投影面積和形成位置、或者導(dǎo)電物質(zhì)或中間層等 的存在，在制造器件時，可以制造所述光學(xué)功能層未暴露于外部的結(jié)構(gòu)，由此，能夠制造耐 久性優(yōu)異的器件。
[0030]光學(xué)功能層的一個例子可以例舉出光散射層。本申請中使用的"光散射層"是指例 如以如下方式形成的所有類型的層：能夠散射、折射或衍射入射至所述光學(xué)功能層的光， 并且能夠消除或減少從所述電極層方向入射的光被基礎(chǔ)層、光散射層、及電極層中的任意 兩層之間的界面被捕獲的現(xiàn)象。只要光散射層可以具有上述功能，就不對所述光散射層的 實施方案作特別的限制。
[0031]例如，光散射層可為包括基體材料和散射區(qū)域的層。圖7示出光散射層的示例性 實施方案，其中光散射層包括用散射粒子形成的散射區(qū)域702及基體材料701，并且所述光 散射層形成于基礎(chǔ)層101處。本說明書中使用的術(shù)語"散射區(qū)域"可以指例如折射率與周 圍材料不同且尺寸合適的區(qū)域，因而可以散射、折射或衍射入射光，所述周圍材料為例如基 體材料或在下文中描述的平整層（planarizationlayer)。所述散射區(qū)域可為例如具有如 上所述的折射率和尺寸的顆粒，或者可以為空置空間。例如，散射區(qū)域可用顆粒形成，所述 顆粒的折射率與周圍材料不同且高于或低于周圍材料的折射率。散射顆粒的折射率與周圍 材料例如所述基體材料及/或平整層的折射率之差可以大于〇. 3或為0. 3以上。例如，散 射顆粒的折射率可為約1. 0至3. 5或1. 0至3. 0。術(shù)語"折射率"是指以波長為約550nm的 光測定的折射率。散射顆粒的折射率可以例如在1. 〇至1. 6的范圍內(nèi)或在1. 0至1. 3的范 圍內(nèi)。在另一個實施方案中，散射顆粒的折射率可以在約2. 0至3. 5的范圍內(nèi)或在2. 2至 3. 0的范圍內(nèi)。散射顆粒的實例可包括平均粒徑為至少50nm、至少100nm、至少500nm或至 少1，OOOnm的顆粒。散射顆粒的平均粒徑可以為例如10,OOOnm以下。散射區(qū)域還可由空 間形成，所述空間具有上述大小并填充有空氣而作為空置空間。
[0032]散射顆?；蛏⑸鋮^(qū)域可為球形、橢圓形或多面體，或者可以為不定形的，但不對散 射顆粒的形狀作特別限定。散射顆粒的實例可包括例如顆粒：例如，有機(jī)材料，如聚苯乙烯 或其衍生物，丙烯酸樹脂或其衍生物，硅樹脂或其衍生物，酚醛樹脂或其衍生物；或無機(jī)材 料，如二氧化硅、氧化鋁、氧化鈦或氧化鋯。散射顆?？砂ㄈ我环N或至少兩種上述材料而 形成。例如，中空顆粒如中空二氧化硅（hollowsilica)或芯/殼結(jié)構(gòu)的顆?？捎米魃⑸?顆粒。
[0033]光散射層還可包括基體材料，從而保持散射區(qū)域，例如散射顆粒形成的散射區(qū)域。 基體材料可例如由折射率近似于或高于相鄰材料例如基礎(chǔ)層的折射率的材料形成。例如， 可用作基體材料的為有機(jī)材料和無機(jī)材料或有機(jī)-無機(jī)復(fù)合材料，所述有機(jī)材料為聚酰亞 胺、含有莉環(huán)的卡多樹脂（cardoresin)、聚氨酯、環(huán)氧樹脂、聚酯或丙烯酸酯基熱固化或光 固化單體、低聚物或聚合物，所述無機(jī)材料例如二氧化硅、氮化硅、氮氧化硅或聚硅氧烷。 [0034]基體材料可包括聚硅氧烷、聚酰胺酸或聚酰亞胺。其中，聚硅氧烷可例如通過可縮 合的硅烷化合物或硅氧烷低聚物的縮聚生成，從而形成基于硅氧鍵（Si-o)的基體材料。通 過調(diào)節(jié)基體材料形成過程中的縮合條件，聚硅氧烷可形成為僅基于硅氧鍵（Si-o)的材料， 或包括部分殘留的有機(jī)基團(tuán)例如烷基或可縮合的官能團(tuán)例如烷氧基。
[0035]例如，可使用相對于波長為633nm的光的折射率為約1. 5以上、約1. 6以上、約 1. 65以上或約1. 7以上的聚酰胺酸或聚酰亞胺。這種高折射率的聚酰胺酸或聚酰亞胺可例 如使用引入除氟以外的鹵原子、硫原子或磷原子的單體而制備。例如，可使用這樣的聚酰胺 酸，其因存在可連接至顆粒的位點例如羧基而可以增加顆粒的分散穩(wěn)定性。聚酰胺酸可使 用包括化學(xué)式1的重復(fù)單元的化合物。
[0036][化學(xué)式1]
【權(quán)利要求】
1. 一種用于有機(jī)電子器件的基板，其特征在于， 所述用于有機(jī)電子器件的基板包括： 基礎(chǔ)層； 光學(xué)功能層，其在所述基礎(chǔ)層上形成，并具有與所述基礎(chǔ)層相比小的投影面積； 中間層，其具有與所述光學(xué)功能層相比大的投影面積，并且均形成在所述光學(xué)功能層 的上方和未形成有所述光學(xué)功能層的基礎(chǔ)層的上方；及 電極層，其形成在所述中間層上，并且與所述中間層的折射率之差的絕對值為1以下， 且具有與所述光學(xué)功能層相比大的投影面積，而且均形成在所述光學(xué)功能層的上方及未形 成有所述光學(xué)功能層的基礎(chǔ)層的上方。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于有機(jī)電子器件的基板，其特征在于， 所述電極層的投影面積（A)與所述光散射層的投影面積（B)之比值（A/B)為1.04以 上。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于有機(jī)電子器件的基板，其特征在于， 所述中間層包含 SiON、Ti02、Si02、A1203、Ta 203、Ti303、TiO、Zr02、Nb 203、CeO2 或 ZnS。
4. 根據(jù)權(quán)利要求I所述的用于有機(jī)電子器件的基板，其特征在于， 所述中間層的厚度為l〇nm-100nm。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于有機(jī)電子器件的基板，其特征在于， 所述基礎(chǔ)層為透明的。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于有機(jī)電子器件的基板，其特征在于， 所述電極層為空穴注入電極層或電子注入電極層。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于有機(jī)電子器件的基板，其特征在于， 所述光學(xué)功能層是光散射層。
8. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的用于有機(jī)電子器件的基板，其特征在于， 所述光散射層包括基體材料和光散射顆粒，所述光散射顆粒的折射率與基體材料的折 射率不同。
9. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于有機(jī)電子器件的基板，其特征在于， 所述光學(xué)功能層包括光散射層及在所述光散射層的上方形成的平整層。
10. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的用于有機(jī)電子器件的基板，其特征在于， 所述平整層的折射率為1. 7以上。
11. 一種有機(jī)電子設(shè)備，其特征在于， 所述有機(jī)電子器件包括： 權(quán)利要求1所述的用于有機(jī)電子器件的基板； 有機(jī)層，其在所述基板的電極層上形成，并包括發(fā)光層；及 第二電極層，其在所述有機(jī)層上形成。
12. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的有機(jī)電子設(shè)備，其特征在于， 所述基板的所述光散射層的形成區(qū)域的長度（B)與所述發(fā)光層的發(fā)光區(qū)域的長度（C) 之差（B-C)在10 μ m至2mm的范圍內(nèi)。
13. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的有機(jī)電子設(shè)備，其特征在于， 所述有機(jī)電子設(shè)備還包括用于保護(hù)有機(jī)層和第二電極層的封裝結(jié)構(gòu)，所述封裝結(jié)構(gòu)粘 附于在下方未形成有光散射層的基板的電極層的上方。
14. 根據(jù)權(quán)利要求13所述的有機(jī)電子設(shè)備，其特征在于， 所述封裝結(jié)構(gòu)為玻璃罐或金屬罐，或者為覆蓋所述有機(jī)層和所述第二電極層的整個表 面的薄膜。
15. -種用于有機(jī)電子器件的基板的制造方法，其特征在于， 所述用于有機(jī)電子器件的基板的制造方法包括： 在基礎(chǔ)層上形成光學(xué)功能層的，其中，所述光學(xué)功能層以具有與所述基礎(chǔ)層相比小的 投影面積的方式形成； 將具有與所述光學(xué)功能層相比大的投影面積的中間層，均形成在所述光學(xué)功能層的上 方及未形成有所述光學(xué)功能層的基礎(chǔ)層的上方； 將與所述中間層的折射率之差為1以下的電極層，以具有與所述光學(xué)功能層相比大的 投影面積的方式均形成在所述光學(xué)功能層的上方及未形成有所述光學(xué)功能層的基礎(chǔ)層的 上方。
16. 根據(jù)權(quán)利要求15所述的用于有機(jī)電子器件的基板的制造方法，其特征在于， 所述光學(xué)功能層及所述中間層的形成包括： 在所述基礎(chǔ)層上依次形成所述光學(xué)功能層和所述中間層，所述光學(xué)功能層和中間層以 具有與所述基礎(chǔ)層相比小的投影面積的方式進(jìn)行處理，并且再次將中間層均形成在所述處 理過的光學(xué)功能層和中間層的上方以及未形成有光學(xué)功能層和中間層的基礎(chǔ)層的上方。
17. -種照明設(shè)備，其包括權(quán)利要求11所述的有機(jī)電子設(shè)備。
【文檔編號】H01L51/52GK104321898SQ201380026796
【公開日】2015年1月28日 申請日期:2013年3月25日 優(yōu)先權(quán)日:2012年3月23日
【發(fā)明者】金榮銀, 金鐘碩, 文英均, 黃珍夏 申請人:株式會社Lg化學(xué)