光電子器件和用于制造光電子器件的方法
【專利摘要】一種光電子器件(100)，具有：載體(102)；載體(102)上或上方的保護(hù)層(106)；保護(hù)層(106)上或上方的第一電極(110)；第一電極上或上方的有機(jī)功能層結(jié)構(gòu)(112)；和有機(jī)功能層結(jié)構(gòu)(112)上或上方的第二電極(114)；其中保護(hù)層(106)與載體(102)相比對于波長小于大約400nm的電磁輻射(506)而言至少在一定波長范圍中具有更低的透射；并且其中保護(hù)層(106)具有玻璃。
【專利說明】光電子器件和用于制造光電子器件的方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]在不同的實(shí)施方式中提供一種光電子器件和一種用于制造光電子器件的方法。

【背景技術(shù)】
[0002]載體上的有機(jī)發(fā)光二極管(organic light emitting d1de-OLED)在第一電極和第二電極之間具有有機(jī)功能層結(jié)構(gòu)，其中第一電極與載體接觸并且在第二電極上或者上方能夠沉積有封裝層。電極之間的電流引起在有機(jī)功能層系統(tǒng)中產(chǎn)生電磁輻射。
[0003]有機(jī)器件的、例如有機(jī)光電子器件、例如有機(jī)發(fā)光二極管(organic lightemitting d1de 0LED)的有機(jī)的組成部分,通常關(guān)于日光的UV福射(波長小于大約400nm的電磁輻射)是易受影響的，因為該輻射會導(dǎo)致有機(jī)的組成部分的老化或者退化，例如借助于化學(xué)鍵的斷開、例如在 270kJ/mol 至 290kJ/mol (E38tor4citlmi 大約 290kJ/mol 至 305kJ/mol)下斷開C-0-0-H和/或借助于交聯(lián)。
[0004]通常的用于保護(hù)有機(jī)光電子器件免受UV輻射的方法是:將吸收UV輻射的(吸收UV的)塑料薄膜根據(jù)光出射側(cè)施加到襯底玻璃或者透明的覆蓋玻璃上。
[0005]借助于所施加的吸收UV的塑料薄膜，光電子器件在玻璃表面的部位上具有塑料表面。由此能夠降低光電子器件的外觀的優(yōu)點(diǎn)。
[0006]此外通常的塑料薄膜與玻璃相比關(guān)于表面的機(jī)械損傷、例如劃傷是更敏感的，這會對光學(xué)器件和光稱合輸出產(chǎn)生干擾作用。
[0007]此外借助于施加吸收UV的塑料薄膜、例如借助于層壓在制造光電子器件時需要另外的工藝步驟，由此會延長工藝流程。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0008]在不同的實(shí)施方式中提供一種光電子器件和一種用于制造光電子器件的方法，借助于所述方法可行的是，通過保護(hù)層在波長小于大約400nm的電磁輻射方面保護(hù)光電子器件。
[0009]在本說明書的范圍內(nèi)，將有機(jī)物質(zhì)理解為不考慮相應(yīng)的聚集狀態(tài)而以化學(xué)統(tǒng)一形式存在的、特征在于其物理和化學(xué)特性的碳化合物。此外，在本說明書的范圍內(nèi)，將無機(jī)物質(zhì)理解為不考慮相應(yīng)的聚集狀態(tài)而以化學(xué)統(tǒng)一的形式存在的特征在于其物理和化學(xué)特性的沒有碳的化合物或單碳化合物。在本說明書的范圍內(nèi)，能夠?qū)⒂袡C(jī)-無機(jī)物質(zhì)(混合物質(zhì))理解為不考慮相應(yīng)的聚集狀態(tài)而以化學(xué)統(tǒng)一形式存在的、特征在于其物理和化學(xué)特性的具有包含碳或沒有碳的化合物部分的化合物。在本說明書的范圍內(nèi)，將術(shù)語“物質(zhì)”理解為全部上述物質(zhì)、例如有機(jī)物質(zhì)、無機(jī)物質(zhì)和/或混合物質(zhì)。此外，在本說明書的范圍內(nèi)，將物質(zhì)混合物例如理解為其組成部分由兩種或更多種不同物質(zhì)構(gòu)成，所述物質(zhì)的組成部分例如極其精細(xì)地分布。將由一種或多種有機(jī)物質(zhì)、一種或多種無機(jī)物質(zhì)或一種或多種混合物質(zhì)構(gòu)成的物質(zhì)或物質(zhì)混合物理解為物質(zhì)分類。術(shù)語“材料”能夠理解為與“物質(zhì)”同義。
[0010]在不同的實(shí)施例中提供一種光電子器件，所述光電子器件具有:載體；在載體上或上方的保護(hù)層；在保護(hù)層上或上方的第一電極；在第一電極上或上方的有機(jī)功能層結(jié)構(gòu)和在有機(jī)功能層結(jié)構(gòu)上或上方的第二電極，其中保護(hù)層與載體相比對于波長小于大約400nm的電磁輻射而言至少在一定波長范圍中具有更低的透射；并且其中所述保護(hù)層具有玻璃。
[0011]在一個設(shè)計方案中，載體能夠面狀地構(gòu)成。
[0012]在又一個設(shè)計方案中，載體能夠具有軟玻璃或者由其形成。
[0013]在又一個設(shè)計方案中，軟玻璃能夠是鈣鈉硅酸鹽玻璃。
[0014]因此直觀上能夠提供特殊的玻璃作為在不同的實(shí)施方式中具有UV防護(hù)特性的保護(hù)層，所述玻璃關(guān)于波長小于大約400nm的電磁福射而言至少在一定波長范圍中與載體、例如載體玻璃相比具有更低的透射。如在下文中更詳細(xì)闡述的那樣，這樣的特殊的玻璃還設(shè)有附加的顆粒，所述顆粒同樣能夠具有吸收UV的特性并且能夠附加地作為散射顆粒散射可見波長范圍中的光。
[0015]在又一個設(shè)計方案中，保護(hù)層在載體上或上方能夠具有由熔化的玻璃焊料粉末構(gòu)成的層或者由其形成，其中熔化的玻璃焊料粉末與載體相比具有固有更低的UV透射。借助于熔化的玻璃焊料層的更低的UV透射，在此能夠構(gòu)成對于保護(hù)層上或上方的層的UV防護(hù)。保護(hù)層的熔化的玻璃焊料相對于載體的更低的UV透射例如能夠借助于對于UV輻射的更高的吸收和/或反射構(gòu)成。
[0016]在又一個設(shè)計方案中，保護(hù)層的玻璃焊料粉末能夠具有選自下述玻璃體系中的一種物質(zhì)或者物質(zhì)混合物或者由其形成:含Pbo的體系:Pb0-B203、PbO-S12, PbO-B2O3-S12、PbO-B2O3-ZnO2、PbO-B2O3-Al2O3,其中含PbO的玻璃焊料也能夠具有Bi2O3 ;含Bi2O3的體系:Bi203_B203、Bi203_B203_Si02、Bi203_B203_Zn0、Bi2O3-B2O3-ZnO-S12。
[0017]在又一個設(shè)計方案中，含Bi的保護(hù)層能夠附加地具有選自下述物質(zhì)中的物質(zhì)或者物質(zhì)混合物=Al2O3、堿土金屬氧化物、堿金屬氧化物、ZrO2, T12, HfO2, Nb2O5, Ta2O5, TeO2,WO3、MO3、Sb2O3、Ag2O、SnO2、稀土氧化物。
[0018]在又一個設(shè)計方案中，能夠給玻璃添加吸收UV的化合物作為玻璃組分。為了提高UV吸收，在玻璃熔化過程中例如能夠給低熔點(diǎn)的玻璃、例如含鉛玻璃添加具有鈰化合物、鐵化合物、錫化合物、鈦化合物、鐠化合物、銪化合物和/或釩化合物的物質(zhì)或物質(zhì)混合物作為玻璃混合物組成部分。吸收UV的化合物因此能夠作為組成部分溶解在玻璃中。在玻璃熔化過程之后，玻璃能夠被粉末化并且隨后以覆層的形式被涂覆到載體上。已經(jīng)借助于化合物改性的玻璃粉末的玻璃化能夠借助于熱處理構(gòu)成具有固有更低的UV透射的熔化的玻璃焊料層。通過化合物改性的玻璃能夠構(gòu)成為具有固有UV防護(hù)的保護(hù)層或者構(gòu)成為保護(hù)層的基體的物質(zhì)混合物，所述物質(zhì)混合物附加地能夠添加有吸收UV的添加物和/或進(jìn)行散射的添加物。
[0019]在又一個設(shè)計方案中，保護(hù)層的玻璃焊料粉末的物質(zhì)或者物質(zhì)混合物在直至最大大約600 V的溫度下液化。
[0020]在又一個設(shè)計方案中，保護(hù)層能夠具有基體和嵌入在所述基體中的至少一種第一類型的吸收UV的添加物，其中吸收UV的添加物關(guān)于基體和/或載體降低對波長小于大約400nm的電磁輻射在至少在一個波長范圍中的透射。
[0021]具有添加物的保護(hù)層的關(guān)于載體和/或基體的更低的UV透射例如能夠借助于通過吸收UV的添加物對UV輻射進(jìn)行更高的吸收和/或反射和/或散射來構(gòu)成。
[0022]在又一個設(shè)計方案中，保護(hù)層的基體能夠具有大于大約1.7的折射率。
[0023]在又一個設(shè)計方案中，保護(hù)層的基體能夠構(gòu)成為是無定形的。
[0024]在又一個設(shè)計方案中，保護(hù)層的基體能夠具有選自下述玻璃體系中的物質(zhì)或物質(zhì)混合物或者由其形成:含 PbO 的體系:Pb0-B203、PbO-S12, PbO-B2O3-S12、PbO-B2O3-ZnO2、PbO-B2O3-Al2O3,其中含PbO的玻璃焊料也能夠具有Bi2O3 ；含Bi2O3的體系:Bi203_B203、Bi203_B203_Si02、Bi203_B203_Zn0、Bi2O3-B2O3-ZnO-S12 ?
[0025]在又一個設(shè)計方案中，含Bi的保護(hù)層能夠附加地具有選自下述物質(zhì)中的物質(zhì)或者物質(zhì)混合物=Al2O3、堿土金屬氧化物、堿金屬氧化物、ZrO2, T12, HfO2, Nb2O5, Ta2O5, TeO2,WO3、MO3、Sb2O3、Ag2O、SnO2、稀土氧化物。
[0026]在一個設(shè)計方案中，能夠給基體的玻璃添加吸收UV的添加物作為玻璃組分。為了提高UV吸收，在玻璃熔化過程中例如能夠給低熔點(diǎn)的玻璃、例如含鉛玻璃添加具有鈰化合物、鐵化合物、錫化合物、鈦化合物、鐠化合物、銪化合物和/或釩化合物的物質(zhì)或物質(zhì)混合物作為玻璃混合物組成部分。
[0027]在此能夠?qū)⒉ＡУ臒嵋夯?、即熔化理解為玻璃熔化過程。吸收UV的添加物能夠作為組成部分溶解在玻璃中。在玻璃熔化過程之后玻璃能夠被粉末化，以覆層的形式施加到載體上并且緊接著借助于熱處理來玻璃化。
[0028]在又一個設(shè)計方案中，保護(hù)層的基體的物質(zhì)或物質(zhì)混合物在直至最大大約600°C的溫度下液化。
[0029]在又一個設(shè)計方案中，吸收UV的添加物能夠具有無機(jī)物質(zhì)或者無機(jī)物質(zhì)混合物或者由其形成。
[0030]在一個設(shè)計方案中，能夠給基體添加至少一種類型的吸收UV的添加物。
[0031]在又一個設(shè)計方案中，一種類型的吸收UV的添加物能夠具有選自下述物質(zhì)中的物質(zhì)或物質(zhì)混合物或化學(xué)計量化合物或者由其形成:Ti02、Ce02、Bi203、Zn0、Sn02 ;發(fā)光物質(zhì):例如摻雜Ce3+的石榴石、如YAG = Ce和LuAG，摻雜Eu3+的氮化物、硫化物，S10NE、塞隆、正硅酸鹽、氯硅酸鹽、氯磷酸鹽、BAM (鋁酸鋇鎂:Eu)和/或SCAP、鹵磷酸鹽以及吸收UV的玻璃顆粒、適當(dāng)?shù)奈誙V的金屬納米顆粒，其中發(fā)光物質(zhì)吸收UV范圍中的電磁輻射。
[0032]為了提高UV吸收例如能夠給低熔點(diǎn)的玻璃添加吸收UV的納米顆粒。吸收UV的納米顆粒在熔化的玻璃焊料中不能夠具有可溶性或者能夠具有低的可溶性和/或不與該玻璃焊料反應(yīng)或者僅困難地反應(yīng)。此外納米顆粒不會導(dǎo)致電磁輻射的散射或者僅導(dǎo)致電磁輻射的低的散射，例如是如下納米顆粒，所述納米顆粒具有小于大約50nm的粒度、例如由T12, CeO2, ZnO或者Bi2O3構(gòu)成，其中納米顆粒應(yīng)非常好地分散在玻璃中。
[0033]在又一個設(shè)計方案中，一種類型的吸收UV的添加物能夠具有選自下述物質(zhì)中的物質(zhì)或物質(zhì)混合物或化學(xué)計量化合物或者由其形成:發(fā)光物質(zhì):例如摻雜Ce3+的石榴石、如YAG = Ce和LuAG，摻雜Eu3+的氮化物、硫化物，S10NE、塞隆、正硅酸鹽、氯硅酸鹽、氯磷酸鹽、BAM(鋁酸鋇鎂:Eu)和/或SCAP、鹵磷酸鹽以及玻璃顆粒，其中所述發(fā)光物質(zhì)或者玻璃具有在UV范圍中的吸收。
[0034]在又一個設(shè)計方案中，吸收UV的添加物能夠具有如下顆粒，所述顆粒具有吸收UV的玻璃或者由其形成。
[0035]吸收UV的顆粒能夠具有在大約0.Ιμπι至大約10 μ m的范圍中的、例如在大約0.1 μ m至大約I μπι的范圍中平均粒度。
[0036]在又一個設(shè)計方案中，吸收UV的添加物在載體上或者上方在保護(hù)層中能夠具有厚度從大約5nm至大約10 μ m的層片。
[0037]在又一個設(shè)計方案中，保護(hù)層的吸收UV的添加物在載體上能夠具有多個彼此疊加的層片，其中各個層片不同地構(gòu)成。
[0038]在又一個設(shè)計方案中，在吸收UV的添加物的層片中至少一種吸收UV的添加物的平均顆粒大小能夠從載體的表面起減小，其中吸收UV的添加物也能夠散射可見光。
[0039]在又一個設(shè)計方案中，吸收UV的添加物的各個層片能夠具有不同的平均顆粒大小和/或?qū)τ诓ㄩL小于大約400nm的電磁輻射而言至少在一定波長范圍中具有不同的透射。
[0040]在又一個設(shè)計方案中，作為吸收UV的添加物的具有發(fā)光物質(zhì)的保護(hù)層能夠同時構(gòu)成為用于轉(zhuǎn)換電磁輻射的波長，其中發(fā)光物質(zhì)具有斯托克斯位移并且發(fā)射具有更高波長的入射的電磁輻射。
[0041]在又一個設(shè)計方案中，基體能夠具有至少一種類型的進(jìn)行散射的添加物，使得保護(hù)層能夠附加地構(gòu)成為關(guān)于入射的、在至少一個波長范圍中的電磁輻射的散射作用，例如借助于與基體不同的折射率和/或直徑，所述直徑大致相應(yīng)于待散射的輻射的波長的大小。散射效果在此也能夠與由保護(hù)層上或者上方的有機(jī)功能層系統(tǒng)發(fā)射的電磁輻射相關(guān)，例如以便提高光I禹合輸出。
[0042]在又一個設(shè)計方案中，散射光的添加物能夠附加地吸收UV輻射。
[0043]在又一個設(shè)計方案中，具有進(jìn)行散射的添加物的保護(hù)層能夠具有進(jìn)行散射的添加物的折射率與基體的折射率的大于大約0.05的差異。
[0044]在又一個設(shè)計方案中，進(jìn)行散射的添加物能夠具有拱起的表面。
[0045]在又一個設(shè)計方案中，進(jìn)行散射的添加物的幾何形式能夠具有選自下述形式的幾何形式或者幾何形式的一部分:球狀、非球狀、例如棱柱狀、橢圓、中空、緊湊、小板或者小棒狀。
[0046]在一個設(shè)計方案中，進(jìn)行散射的添加物能夠構(gòu)成為如下顆粒，其中進(jìn)行散射的顆粒具有在大約0.1 μ m至大約10 μ m的范圍中的、例如在大約0.1 μ m至大約I μ m的范圍中的平均粒度。
[0047]在又一個設(shè)計方案中，保護(hù)層的基體能夠具有大于大約1.7的折射率。
[0048]在又一個設(shè)計方案中，保護(hù)層的基體能夠構(gòu)成為是無定形的。
[0049]在又一個設(shè)計方案中，保護(hù)層的基體能夠具有選自下述玻璃體系中的物質(zhì)或物質(zhì)混合物或者由其形成:含 PbO 的體系:Pb0-B203、PbO-S12, PbO-B2O3-S12、PbO-B2O3-ZnO2、PbO-B2O3-Al2O3,其中含PbO的玻璃焊料也能夠具有Bi2O3 ；含Bi2O3的體系:Bi203_B203、Bi203_B203_Si02、Bi203_B203_Zn0、Bi2O3-B2O3-ZnO-S12 ?
[0050]在又一個設(shè)計方案中，含Bi的保護(hù)層能夠附加地具有選自下述物質(zhì)中的物質(zhì)或者物質(zhì)混合物=Al2O3、堿土金屬氧化物、堿金屬氧化物、ZrO2, T12, HfO2, Nb2O5, Ta2O5, TeO2,WO3、MO3、Sb2O3、Ag2O、SnO2、稀土氧化物。
[0051]在一個設(shè)計方案中，能夠給基體的玻璃添加吸收UV的添加物作為玻璃組分。為了提高UV吸收，在玻璃熔化過程中例如能夠給低熔點(diǎn)的玻璃、例如含鉛玻璃附加有具有鈰化合物、鐵化合物、錫化合物、鈦化合物、鐠化合物、銪化合物和/或釩化合物的物質(zhì)或物質(zhì)混合物作為玻璃混合物組成部分。
[0052]在此能夠?qū)⒉ＡУ臒嵋夯?、即熔化理解為玻璃熔化過程。吸收UV的添加物能夠作為組成部分溶解在玻璃中。在玻璃熔化過程之后玻璃能夠被粉末化，以覆層的形式施加到載體上并且緊接著借助于熱處理來玻璃化。
[0053]在又一個設(shè)計方案中，保護(hù)層的基體的物質(zhì)或物質(zhì)混合物在直至最大大約600°C的溫度下液化。
[0054]在又一個設(shè)計方案中，進(jìn)行散射的添加物能夠具有無機(jī)物質(zhì)或者無機(jī)物質(zhì)混合物或者由其形成。
[0055]在又一個設(shè)計方案中，一種類型的進(jìn)行散射的添加物能夠具有選自下述物質(zhì)中的物質(zhì)或物質(zhì)混合物或化學(xué)計量化合物或者由其形成:Ti02、Ce02、Bi203、Zn0、Al203、Si02、Y203或者ZrO2。
[0056]在又一個設(shè)計方案中，一種類型的進(jìn)行散射的添加物能夠附加地吸收UV輻射。
[0057]在又一個設(shè)計方案中，一種類型的進(jìn)行散射的添加物能夠具有下述發(fā)光物質(zhì)的組中的物質(zhì)或物質(zhì)混合物或化學(xué)計量化合物或者由其形成:例如摻雜Ce3+的石榴石、如YAG = Ce和LuAG，摻雜Eu3+的氮化物、硫化物，S10NE、塞隆、正硅酸鹽、氯硅酸鹽、氯磷酸鹽、BAM(鋁酸鋇鎂:Eu)和/或SCAP、鹵磷酸鹽。
[0058]在又一個設(shè)計方案中，作為進(jìn)行散射的添加物的具有發(fā)光材料的保護(hù)層能夠同時構(gòu)成為用于轉(zhuǎn)換電磁輻射的波長，其中發(fā)光材料具有斯托克斯位移并且發(fā)射具有更高波長的入射的電磁輻射。
[0059]在又一個設(shè)計方案中，進(jìn)行散射的添加物能夠具有玻璃或者由其形成。
[0060]在又一個設(shè)計方案中，進(jìn)行散射的添加物能夠在載體上或上方在保護(hù)層中具有厚度大約5nm至大約10 μ m的層片。
[0061]在又一個設(shè)計方案中，保護(hù)層的進(jìn)行散射的添加物在載體上能夠具有多個彼此疊加的層片，其中各個層片不同地構(gòu)成。
[0062]在又一個設(shè)計方案中，在進(jìn)行散射的添加物的層片中至少一種進(jìn)行散射的添加物的平均顆粒大小能夠從載體表面起減小。
[0063]在又一個設(shè)計方案中，進(jìn)行散射的添加物的各個層片能夠具有不同的平均顆粒大小和/或?qū)τ陔姶泡椛渚哂胁煌恼凵渎省?br> [0064]在又一個設(shè)計方案中，基體的材料與載體相比能夠具有固有更低的UV透射。借助于基體的更低的UV透射，能夠構(gòu)成用于保護(hù)層上或者上方的層的UV防護(hù)。保護(hù)層的基體相對于載體的更低的UV透射例如能夠借助于對UV輻射的更高的吸收和/或反射來構(gòu)成。附加地仍能夠給基體添加進(jìn)行散射的顆粒，所述顆粒例如不吸收UV輻射，例如是A1203、S12,Y2O3或者Zr02。對于基體的材料的UV透射關(guān)于力求達(dá)到的UV防護(hù)仍過高的情況，除了不吸收UV但是進(jìn)行散射的添加物之外還例如能夠給基體添加吸收UV的添加物。
[0065]在又一個設(shè)計方案中，進(jìn)行散射的添加物也能夠作用為或者構(gòu)建為吸收UV的添加物，或者吸收UV的添加物也能夠作用為或者構(gòu)建為進(jìn)行散射的添加物。
[0066]在又一個設(shè)計方案中，作為吸收UV的添加物的具有發(fā)光物質(zhì)的保護(hù)層能夠同時構(gòu)成為用于轉(zhuǎn)換電磁輻射的波長，其中發(fā)光物質(zhì)具有斯托克斯位移并且發(fā)射具有更高波長的入射的電磁輻射。
[0067]在又一個設(shè)計方案中，保護(hù)層在層橫截面中能夠具有大于或者大約等于其它層的折射率的平均折射率。
[0068]在又一個設(shè)計方案中，保護(hù)層能夠具有至少大約I μ m至大約100 μ m的厚度。
[0069]在又一個設(shè)計方案中，保護(hù)層能夠構(gòu)成為發(fā)光二極管的剖面中的層。
[0070]在不同的實(shí)施方式中提供一種用于制造光電子器件的方法，所述方法具有:在載體上或上方形成保護(hù)層；在保護(hù)層上或上方形成第一電極；在第一電極上或上方形成有機(jī)功能層結(jié)構(gòu)并且在有機(jī)功能層結(jié)構(gòu)上或上方形成第二電極；其中保護(hù)層構(gòu)建為，使得對于波長小于大約400nm的電磁輻射而言至少在一定波長范圍中保護(hù)層與載體相比對電磁輻射的透射更低；并且其中保護(hù)層具有玻璃。
[0071]在所述方法的一個設(shè)計方案中，載體能夠面狀地構(gòu)成。
[0072]在所述方法的又一個設(shè)計方案中，載體能夠具有軟玻璃或者由其形成。
[0073]在所述方法的又一個設(shè)計方案中，軟玻璃能夠是鈣鈉硅酸鹽玻璃。
[0074]在所述方法的又一個設(shè)計方案中，保護(hù)層在載體上或上方能夠具有由熔化的玻璃焊料粉末構(gòu)成的層或者由其形成，其中熔化的玻璃焊料層與載體相比具有固有更低的UV透射。借助于熔化的玻璃焊料層的更低的UV透射，在此能夠構(gòu)成對于保護(hù)層上或上方的層的UV防護(hù)。保護(hù)層的熔化的玻璃焊料相對于載體的更低的UV透射例如能夠借助于對UV輻射的更高的吸收和/或反射來構(gòu)成。
[0075]在所述方法的又一個設(shè)計方案中，保護(hù)層的玻璃焊料粉末能夠具有選自下述玻璃體系中的物質(zhì)或物質(zhì)混合物或者由其形成:含PbO的體系:Pb0_B203、PbO-S12,PbO-B2O3-S12、PbO-B2O3-ZnO2、PbO-B2O3-Al2O3,其中含 PbO 的玻璃焊料也能夠具有 Bi2O3 ;含Bi2O3 的體系:Bi203_B203、Bi203_B203_Si02、Bi203_B203_Zn0、Bi2O3-B2O3-ZnO-S12。
[0076]在又一個設(shè)計方案中，含Bi的保護(hù)層能夠附加地具有選自下述物質(zhì)中的物質(zhì)或者物質(zhì)混合物=Al2O3、堿土金屬氧化物、堿金屬氧化物、ZrO2, T12, HfO2, Nb2O5, Ta2O5, TeO2,WO3,、M03、Sb2O3、Ag2O、SnO2、稀土氧化物。
[0077]在所述方法的一個設(shè)計方案中，能夠給玻璃添加吸收UV的添加物作為玻璃組分。為了提高UV吸收，在玻璃熔化過程中例如能夠給低熔點(diǎn)的玻璃、例如含鉛玻璃附加有具有鈰化合物、鐵化合物、錫化合物、鈦化合物、鐠化合物、銪化合物和/或釩化合物的物質(zhì)或物質(zhì)混合物作為玻璃混合物組成部分。
[0078]在此能夠?qū)⒉ＡУ臒嵋夯?、即熔化理解為玻璃熔化過程。吸收UV的添加物能夠作為組成部分溶解在玻璃中。在玻璃熔化過程之后玻璃能夠被粉末化，以覆層的形式施加到載體上并且緊接著借助于熱處理來玻璃化。
[0079]在所述方法的一個設(shè)計方案中，保護(hù)層的玻璃焊料粉末的物質(zhì)或者物質(zhì)混合物能夠在至最大大約600 °C的溫度下液化。
[0080]在所述方法的又一個設(shè)計方案中，保護(hù)層能夠具有基體和嵌入在所述基體中的至少一種第一類型的吸收UV的添加物，其中吸收UV的添加物關(guān)于基體和/或載體對于波長小于大約400nm的電磁輻射而言降低至少在一定波長范圍中的透射。
[0081]具有添加物的保護(hù)層相對于載體和/或基體的更低的UV透射例如能夠借助于通過吸收UV的添加物對UV輻射的更高的吸收和/或反射和/或散射來構(gòu)成。
[0082]在所述方法的又一個設(shè)計方案中，保護(hù)層的基體能夠具有大于大約1.7的折射率。
[0083]在所述方法的又一個設(shè)計方案中，保護(hù)層的基體能夠構(gòu)成為是無定形的。
[0084]在所述方法的又一個設(shè)計方案中，保護(hù)層的基體能夠具有選自下述玻璃體系中的物質(zhì)或物質(zhì)混合物或者由其形成:含PbO的體系:PbO-B2O3、PbO-S12、PbO-B2O3-S12、PbO-B2O3-ZnO2、PbO-B2O3-Al2O3,其中含PbO的玻璃焊料也能夠具有Bi2O3 ;含Bi2O3的體系:Bi203_B203、Bi203_B203_Si02、Bi203_B203_Zn0、Bi2O3-B2O3-ZnO-S12。
[0085]在又一個設(shè)計方案中，含Bi的保護(hù)層能夠附加地具有選自下述物質(zhì)中的物質(zhì)或者物質(zhì)混合物=Al2O3、堿土金屬氧化物、堿金屬氧化物、ZrO2, T12, HfO2, Nb2O5, Ta2O5, TeO2,WO3,、M03、Sb2O3、Ag2O、SnO2、稀土氧化物。
[0086]在所述方法的一個設(shè)計方案中，能夠給基體的玻璃添加吸收UV的添加物作為玻璃組分。為了提高UV吸收，在玻璃熔化過程中例如能夠給低熔點(diǎn)的玻璃、例如含鉛玻璃附加有具有鈰化合物、鐵化合物、錫化合物、鈦化合物、鐠化合物、銪化合物和/或釩化合物的物質(zhì)或物質(zhì)混合物作為玻璃混合物組成部分。
[0087]在此能夠?qū)⒉ＡУ臒嵋夯?、即熔化理解為玻璃熔化過程。吸收UV的添加物能夠作為組成部分溶解在玻璃中。在玻璃熔化過程之后玻璃能夠被粉末化，以覆層的形式施加到載體上并且緊接著借助于熱處理來玻璃化。
[0088]在所述方法的又一個設(shè)計方案中，保護(hù)層的基體的物質(zhì)或物質(zhì)混合物在至最大大約600 °C的溫度下液化。
[0089]在所述方法的又一個設(shè)計方案中，吸收UV的添加物能夠具有無機(jī)物質(zhì)或者無機(jī)物質(zhì)混合物或者由其形成。
[0090]替代于所添加的化合物或者附加地，能夠給低熔點(diǎn)的玻璃添加吸收UV的納米顆粒以提高UV吸收。吸收UV的納米顆粒在熔化的玻璃焊料中不能夠具有可溶性或者能夠具有低的可溶性和/或不與該玻璃焊料反應(yīng)或者僅困難地反應(yīng)。此外納米顆粒不會引起電磁輻射、例如可見的電磁輻射的散射或者僅引起低的散射，所述納米顆粒例如是具有小于大約50nm的粒度的納米顆粒，例如由Ti02、Ce02、Zn0或者Bi2O3構(gòu)成，其中納米顆粒應(yīng)良好地分散在玻璃中。
[0091]在所述方法的又一個設(shè)計方案中，一種類型的吸收UV的添加物能夠具有選自下述物質(zhì)中的物質(zhì)或物質(zhì)混合物或化學(xué)計量化合物或者由其形成:發(fā)光物質(zhì):例如摻雜Ce3+的石榴石、如YAG: Ce和LuAG，摻雜Eu3+的氮化物、硫化物，S1NE、塞隆、正硅酸鹽、氯硅酸鹽、氯磷酸鹽、BAM(鋁酸鋇鎂:Eu)和/或SCAP、鹵磷酸鹽、玻璃顆粒，其中發(fā)光物質(zhì)具有在UV范圍中的吸收。
[0092]在所述方法的又一個設(shè)計方案中，吸收UV的添加物能夠具有如下顆粒，所述顆粒具有吸收UV的玻璃或者由其形成。
[0093]在所述方法的又一個設(shè)計方案中，吸收UV的顆粒能夠具有在大約0.1 μ m至大約10 μ m的范圍中、例如在大約0.Ιμ--至大約I μ--的范圍中的平均粒度。
[0094]在所述方法的又一個設(shè)計方案中，一種類型的吸收UV的添加物能夠具有選自下述物質(zhì)中的物質(zhì)或物質(zhì)混合物或化學(xué)計量化合物或者由其形成:Ti02、CeO2> Bi203、ZrO2>S12, Al2O3' ZnO, SnO2 ;發(fā)光物質(zhì):例如摻雜Ce3+的石榴石、如YAGiCe和LuAG，摻雜Eu3+的氮化物、硫化物，S10NE、塞隆、正硅酸鹽、氯硅酸鹽、氯磷酸鹽、BAM(鋁酸鋇鎂:Eu)和/或SCAP,鹵磷酸鹽以及吸收UV的玻璃顆粒、金屬納米顆粒，其中所述發(fā)光物質(zhì)具有在UV范圍中的吸收。
[0095]在所述方法的又一個設(shè)計方案中，載體上或上方的吸收UV的添加物在保護(hù)層中能夠構(gòu)成為厚度大約5nm至大約10 μ m的層片。
[0096]在所述方法的又一個設(shè)計方案中，吸收UV的添加物的多個層片在載體上彼此疊加地構(gòu)成，其中各個層片不同地構(gòu)成。
[0097]在所述方法的又一個設(shè)計方案中，吸收UV的添加物的層片構(gòu)成為，使得至少一種吸收UV的添加物的平均顆粒大小從載體的表面起減小。
[0098]在所述方法的又一個設(shè)計方案中，吸收UV的添加物的各個層片構(gòu)成為，使得吸收UV的添加物具有不同的平均顆粒大小和/或?qū)τ诓ㄩL小于大約400nm的電磁輻射而言至少在一定波長范圍中具有不同的透射。
[0099]在所述方法的又一個設(shè)計方案中，作為吸收UV的添加物的具有發(fā)光物質(zhì)的保護(hù)層能夠同時構(gòu)成為用于轉(zhuǎn)換電磁輻射的波長，其中發(fā)光物質(zhì)具有斯托克斯位移并且發(fā)射具有更高波長的入射的電磁輻射。
[0100]在所述方法的又一個設(shè)計方案中，在基體中能夠構(gòu)成有至少一種類型的進(jìn)行散射的添加物，使得保護(hù)層能夠同時構(gòu)成關(guān)于入射的、在至少一個波長范圍中的電磁輻射的散射作用，例如借助于相對于基體不同的折射率和直徑，所述直徑大致相應(yīng)于待散射的輻射的波長的大小。散射效果在此也能夠與由保護(hù)層上或上方的有機(jī)功能層系統(tǒng)發(fā)射的電磁輻射相關(guān)，例如以便提聞光I禹合輸出。
[0101]在所述方法的又一個設(shè)計方案中，至少一種進(jìn)行散射的添加物能夠具有折射率與基體的折射率相比大于大約0.05的差異。
[0102]在所述方法的又一個設(shè)計方案中，進(jìn)行散射的添加物具有拱起的表面。
[0103]在所述方法的又一個設(shè)計方案中，進(jìn)行散射的添加物的幾何形式能夠具有選自下述形式中的幾何形式或者幾何形式的一部分:球狀、非球狀例如棱柱狀、橢圓、中空、緊湊。
[0104]在所述方法的一個設(shè)計方案中，進(jìn)行散射的添加物能夠構(gòu)成為顆粒，其中進(jìn)行散射的顆粒具有在大約0.1 μ m至大約10 μ m的范圍中、例如在大約0.1ym至大約I μπι的范圍中的平均粒度。
[0105]在所述方法的又一個設(shè)計方案中，保護(hù)層的基體在保護(hù)層固化之后能夠具有大于大約1.7的折射率。
[0106]在所述方法的又一個設(shè)計方案中，保護(hù)層的基體能夠構(gòu)成為是無定形的。
[0107]在所述方法的又一個設(shè)計方案中，保護(hù)層的基體能夠具有選自下述玻璃體系中的物質(zhì)或物質(zhì)混合物或者由其形成:含PbO的體系:PbO-B2O3、PbO-S12、PbO-B2O3-S12、PbO-B2O3-ZnO2、PbO-B2O3-Al2O3,其中含PbO的玻璃焊料也能夠具有Bi2O3 ;含Bi2O3的體系:Bi203_B203、Bi203_B203_Si02、Bi203_B203_Zn0、Bi2O3-B2O3-ZnO-S12。
[0108]在所述方法的又一個設(shè)計方案中，含Bi的保護(hù)層能夠附加地具有選自下述物質(zhì)中的物質(zhì)或者物質(zhì)混合物:A1203、堿土金屬氧化物、堿金屬氧化物、ZrO2, T12, HfO2, Nb2O5,Ta2O5> TeO2> WO3,、MO3> Sb2O3> Ag20、SnO2、稀土氧化物。
[0109]在所述方法的一個設(shè)計方案中，能夠給基體的玻璃添加吸收UV的添加物作為玻璃組分。為了提高UV吸收，在玻璃熔化過程中例如能夠給低熔點(diǎn)的玻璃、例如含鉛玻璃附加有具有鈰化合物、鐵化合物、錫化合物、鈦化合物、鐠化合物、銪化合物和/或釩化合物的物質(zhì)或物質(zhì)混合物作為玻璃混合物組成部分。
[0110]在此能夠?qū)⒉ＡУ臒嵋夯⒓慈刍斫鉃椴Ａ刍^程。吸收UV的添加物能夠作為組成部分溶解在玻璃中。在玻璃熔化過程之后玻璃能夠被粉末化，以覆層的形式施加到載體上并且緊接著借助于熱處理來玻璃化。
[0111]在所述方法的又一個設(shè)計方案中，保護(hù)層的基體的物質(zhì)或物質(zhì)混合物在至最大大約600 °C的溫度下液化。
[0112]在所述方法的又一個設(shè)計方案中，進(jìn)行散射的添加物能夠具有無機(jī)物質(zhì)或者無機(jī)物質(zhì)混合物或者由其形成。
[0113]在所述方法的又一個設(shè)計方案中，一種類型的進(jìn)行散射的添加物能夠具有選自下述物質(zhì)中的物質(zhì)或物質(zhì)混合物或化學(xué)計量化合物或者由其形成:Ti02、Ce02、Bi203、ZnO。
[0114]在所述方法的又一個設(shè)計方案中，一種類型的進(jìn)行散射的添加物能夠具有選自下述發(fā)光材料的物質(zhì)或物質(zhì)混合物或化學(xué)計量化合物或者由其形成:例如摻雜Ce3+的石榴石、如YAG = Ce和LuAG，摻雜Eu3+的氮化物、硫化物，S10NE、塞隆、正硅酸鹽、氯硅酸鹽、氯磷酸鹽、BAM(鋁酸鋇鎂:Eu)和/或SCAP、鹵磷酸鹽。
[0115]在所述方法的又一個設(shè)計方案中，作為進(jìn)行散射的添加物的具有發(fā)光材料的保護(hù)層能夠同時構(gòu)成為用于轉(zhuǎn)換電磁輻射的波長，其中發(fā)光材料具有斯托克斯位移并且發(fā)射具有更高波長的入射的電磁輻射。
[0116]在所述方法的又一個設(shè)計方案中，進(jìn)行散射的添加物具有吸收UV的玻璃或者由其形成，其中玻璃能夠構(gòu)成為是吸收UV的。
[0117]在所述方法的又一個設(shè)計方案中，進(jìn)行散射的添加物能夠在載體上或上方在保護(hù)層中構(gòu)成為，使得進(jìn)行散射的添加物構(gòu)成厚度從大約5nm至大約10 μ m的層片。
[0118]在所述方法的又一個設(shè)計方案中，進(jìn)行散射的添加物的多個層片在載體上彼此疊加地構(gòu)成，其中各個層片不同地構(gòu)成。
[0119]在所述方法的又一個設(shè)計方案中，進(jìn)行散射的添加物的層片構(gòu)成為，使得至少一種進(jìn)行散射的添加物的平均顆粒大小從載體的表面起減小。
[0120]在所述方法的又一個設(shè)計方案中，進(jìn)行散射的添加物的各個層片構(gòu)成為，使得各個層片具有不同的平均顆粒大小和/或?qū)τ陔姶泡椛渚哂胁煌恼凵渎省?br> [0121]在所述方法的又一個設(shè)計方案中，基體的材料與載體相比能夠具有固有更低的UV透射。借助于基體的更低的UV透射，能夠構(gòu)成用于保護(hù)層上或者上方的層的UV防護(hù)。保護(hù)層的基體相對于載體的更低的UV透射例如能夠借助于對UV輻射的更高的吸收和/或反射來構(gòu)成。對于基體的材料的UV透射關(guān)于力求達(dá)到的UV防護(hù)仍過高的情況，例如除了不吸收UV但是進(jìn)行散射的添加物、例如具有Al203、Si02、Y203或者ZrO2的添加物之外，還能夠給基體添加吸收UV的添加物。吸收UV的添加物也能夠作用為或者構(gòu)建為進(jìn)行散射的添加物。
[0122]在所述方法的又一個設(shè)計方案中，吸收UV的添加物和/或進(jìn)行散射的添加物能夠在載體上或上方構(gòu)成并且玻璃焊料粉末能夠在吸收UV的添加物和/或進(jìn)行散射的添加物的層片上或上方構(gòu)成，并且玻璃能夠液化為，使得液化的玻璃的一部分在吸收UV的添加物和/或進(jìn)行散射的添加物的顆粒之間朝向載體的表面流動，使得仍有一部分液化的玻璃保留在所添加的顆粒上方。
[0123]所添加的顆粒上方的保護(hù)層的所述部分在此應(yīng)具有等于或者大于不具有玻璃的散射中心的最上方的層片的粗糙度的厚度，使得構(gòu)成至少一個平滑的表面，即所述表面具有低的RMS粗糙度(root mean square均方根_平均偏差的絕對值)，例如小于10nm。所添加的顆粒的最上方的層片的粗糙度與所添加的顆粒的實(shí)際大小相關(guān)，即不僅與所添加的顆粒的平均顆粒大小有關(guān)而且與其在平行于載體的平面中的濃度有關(guān)。
[0124]對于所述方法重要的是在施加所添加的顆粒之后將玻璃液化。由此能夠調(diào)節(jié)所添加的顆粒在吸收UV的保護(hù)層中的分布，并且能夠在玻璃的唯一的液化過程、例如退火過程中構(gòu)成吸收UV的保護(hù)層的平滑的表面。由玻璃顆粒構(gòu)成的或者具有玻璃粉末的懸浮物或膏的制造就此而言不被理解為液化，因為玻璃顆粒的外觀不因懸浮物而改變。
[0125]在所述方法的又一個設(shè)計方案中，玻璃粉末能夠混有進(jìn)行散射的和/或吸收UV的添加物并且作為膏或者懸浮物借助于絲網(wǎng)印刷或者模板印刷施加到載體上。這在玻璃化之后會引起添加物均勻地分布在玻璃基體中。
[0126]在所述方法的又一個設(shè)計方案中，與玻璃粉末的結(jié)合使用由鈣鈉硅酸鹽玻璃構(gòu)成的載體，所述玻璃粉末能夠在至最大600°C的溫度下玻璃化，這應(yīng)意味著，玻璃粉末軟化至使得其平滑地延伸。
[0127]在所述方法的又一個設(shè)計方案中，玻璃能夠構(gòu)成為玻璃粉末并且在至最大大約6000C的溫度下玻璃化，即玻璃粉末軟化，使得其能夠構(gòu)成平滑的表面。載體的物質(zhì)或者物質(zhì)混合物、例如鈣鈉硅酸鹽玻璃，在玻璃粉末的玻璃化溫度下應(yīng)是熱穩(wěn)定的，即具有不變的層橫截面。
[0128]在所述方法的又一個設(shè)計方案中，由懸浮物或膏構(gòu)成的所添加的吸收UV的顆粒能夠在載體上或上方構(gòu)成，在所述懸浮物或膏中包含有所添加的顆粒。
[0129]用于由懸浮物或膏制造層的方法例如能夠是絲網(wǎng)印刷、模板印刷、刮涂或者也可以是噴涂法。
[0130]在所述方法的又一個設(shè)計方案中，在其中包含有所添加的顆粒的懸浮物或膏除了所添加的顆粒之外還具有液態(tài)的蒸發(fā)的和/或有機(jī)的組成部分。該組成部分能夠是不同的添加物、即所謂的添加劑，例如溶劑、粘合劑、例如纖維素、纖維素衍生物、硝化纖維素、醋酸纖維素、丙烯酸酯，并且能夠被添加給所添加的顆?；虿Ａьw粒以為相應(yīng)的方法并且為相應(yīng)力求達(dá)到的層厚度來調(diào)節(jié)粘度。
[0131]通常能夠是液體的和/或揮發(fā)性的有機(jī)的添加物能夠從層中熱移除，即層能夠熱干燥。非揮發(fā)性的有機(jī)的添加物能夠借助于熱解來移除。溫度的提高在此能夠加速或者實(shí)現(xiàn)干燥或熱解。
[0132]在所述方法的又一個設(shè)計方案中，玻璃顆粒懸浮物或玻璃顆粒膏除了玻璃顆粒或玻璃粉末之外還能夠具有液態(tài)的蒸發(fā)的和/或有機(jī)的組分、例如粘合劑。
[0133]在所述方法的又一個設(shè)計方案中，玻璃顆粒懸浮物或玻璃顆粒膏和在其中包含有所添加的顆粒的懸浮物或膏能夠具有可彼此混合的液態(tài)的蒸發(fā)的和/或有機(jī)的組分。由此能夠防止在已干燥的包含有所添加的顆粒的懸浮物或膏內(nèi)部的、或者在已干燥的包含有所添加的顆粒的玻璃層懸浮物或膏內(nèi)部的添加物的相分離或者析出。
[0134]在所述方法的又一個設(shè)計方案中，在所添加的顆粒上或上方的、包含有所添加的顆粒的玻璃顆粒懸浮物或膏能夠借助于蒸發(fā)的組成部分來干燥。
[0135]在所述方法的又一個設(shè)計方案中，能夠借助于溫度的提高將有機(jī)的組成部分(粘合劑)基本上完全地從已干燥的顆粒層以及從已干燥的玻璃粉末層中移除。
[0136]在所述方法的又一個設(shè)計方案中，能夠借助于將溫度提高到第二值來將玻璃或玻璃粉末軟化，使得所述玻璃或玻璃粉末能夠流動、例如變成液態(tài)，其中所述第二溫度與干燥的第一溫度相比是高得多的。
[0137]用于液體化或玻璃化玻璃粉末層的第二溫度值的最大值能夠與載體有關(guān)。溫度狀況(溫度和時間)能夠選擇為，使得載體不變形，但是玻璃粉末層的玻璃焊料已經(jīng)具有如下粘度，使得所述玻璃焊料能夠平滑地延伸、即流動，并且能夠構(gòu)成非常平滑的玻璃狀的表面。
[0138]玻璃粉末層的玻璃能夠具有第二溫度、即玻璃化溫度，例如低于載體、例如載體玻璃的轉(zhuǎn)變點(diǎn)(載體的粘度η = 1014 5dPa.s)并且最大為載體玻璃的軟化溫度(載體的粘度η = 176ClPa.S)，例如低于軟化溫度并且大約為上部的冷卻點(diǎn)(載體的粘度η =1013'°dPa.s)。
[0139]在所述方法的又一個設(shè)計方案中，玻璃粉末在使用鈣鈉硅酸鹽作為載體的情況下能夠在至最大大約600°C的溫度下玻璃化。
[0140]在所述方法的又一個設(shè)計方案中，能夠借助于液化的玻璃在吸收UV的顆粒之間構(gòu)成載體與吸收UV的顆粒之上的液化的玻璃的至少一個無間隙的連續(xù)的玻璃連接部。
[0141]在所述方法的又一個設(shè)計方案中，載體能夠具有鈣鈉硅酸鹽或者由其形成，其中用于使玻璃粉末或者玻璃粉末層玻璃化的溫度最大應(yīng)為大約600°C的值。
[0142]在所述方法的又一個設(shè)計方案中，吸收UV的顆粒層之上的液化的玻璃的表面在借助于局部加熱進(jìn)行的固化之后還能夠一次性附加地被平整。
[0143]在所述方法的又一個設(shè)計方案中，局部加熱能夠借助于等離子或者激光輻射構(gòu)成。
[0144]在所述方法的又一個設(shè)計方案中，保護(hù)層能夠構(gòu)成為發(fā)光二極管的剖面中的層。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0145]本發(fā)明的實(shí)施例在附圖中示出并且在下文中詳細(xì)闡述。
[0146]附圖示出:
[0147]圖1示出根據(jù)不同的實(shí)施例的有機(jī)發(fā)光二極管的示意的橫截面圖；
[0148]圖2根據(jù)不同的實(shí)施例示出用于制造保護(hù)層的方法的流程圖；
[0149]圖3根據(jù)不同的實(shí)施例示出在用于制造保護(hù)層的方法中在移除載體表面上的具有玻璃顆粒的玻璃層前體的非揮發(fā)性的有機(jī)組成部分之后的保護(hù)層的示意的橫截面圖；
[0150]圖4根據(jù)不同的實(shí)施例示出在用于制造保護(hù)層的方法中在玻璃焊料液化之后并且在玻璃焊料在載體表面上潮解之后的保護(hù)層的示意的橫截面圖；
[0151]圖5根據(jù)不同的實(shí)施例示出關(guān)于電磁輻射穿過不同的結(jié)構(gòu)的透射的圖表；
[0152]圖6根據(jù)不同的實(shí)施例示出關(guān)于電磁輻射穿過不同的結(jié)構(gòu)的透射的圖表；
[0153]圖7根據(jù)不同的實(shí)施例示出關(guān)于電磁輻射穿過不同的結(jié)構(gòu)的透射的圖表；
[0154]圖8根據(jù)不同的實(shí)施例示出用于制造保護(hù)層的方法的流程圖；
[0155]圖9根據(jù)不同的實(shí)施例示出在用于制造保護(hù)層的方法中在移除載體表面上的具有帶有吸收UV的添加物的玻璃顆粒的玻璃層前體的非揮發(fā)性的有機(jī)的組成部分之后的保護(hù)層的示意的橫截面圖；
[0156]圖10根據(jù)不同的實(shí)施例示出在用于制造保護(hù)層的方法中在具有吸收UV的添加物的玻璃焊料液化和玻璃焊料在例如載體表面上潮解之后的保護(hù)層的示意的橫截面圖；
[0157]圖11根據(jù)不同的實(shí)施例示出用于制造保護(hù)層的方法的流程圖；
[0158]圖12根據(jù)不同的實(shí)施例示出在用于制造保護(hù)層的方法中在移除載體表面上的具有玻璃顆粒的玻璃層前體和具有散射中心的散射中心前體的非揮發(fā)性的有機(jī)的組成部分之后的保護(hù)層的示意的橫截面圖，其中所述散射中心能夠是吸收UV的；
[0159]圖13根據(jù)不同的實(shí)施例示出在用于制造根據(jù)不同的實(shí)施例的保護(hù)層1100的方法中在玻璃304液化210并且流入到散射中心1202之間的空體積1206中之后的保護(hù)層106的示意的橫截面圖，其中散射中心1202也能夠是吸收UV的；以及
[0160]圖14根據(jù)不同的實(shí)施例示出關(guān)于電磁輻射穿過不同的結(jié)構(gòu)的透射的圖表。

【具體實(shí)施方式】
[0161]在下面詳細(xì)的描述中參考附圖，所述附圖形成所述描述的一部分，并且其中示出能夠?qū)嵤┍景l(fā)明的具體的實(shí)施形式以用于說明。在此方面，相關(guān)于所描述的一個(多個)附圖的定向而使用方向術(shù)語例如“上”、“下”、“前”、“后”、“前部”、“后部”等等。因為實(shí)施形式的組成部分能夠以多個不同的定向來定位，所以方向術(shù)語用于說明并且不以任何方式受到限制。要理解的是，能夠使用其他的實(shí)施形式并且能夠進(jìn)行結(jié)構(gòu)上的或邏輯上的改變，而不偏離本發(fā)明的保護(hù)范圍。要理解的是，只要沒有特殊地另外說明，就能夠?qū)⒃诖嗣枋龅牟煌氖纠膶?shí)施形式的特征互相組合。因此，下面詳細(xì)的描述不能夠理解為受限制的意義，并且本發(fā)明的保護(hù)范圍不通過所附的權(quán)利要求來限定。
[0162]在所述描述的范圍內(nèi)，術(shù)語“連接”、“聯(lián)接”以及“耦合”用于描述直接的和間接的連接、直接的或間接的聯(lián)接以及直接的或間接的耦合。在附圖中，只要是適當(dāng)?shù)?，相同的或類似的元件就設(shè)有相同的附圖標(biāo)記。
[0163]圖1根據(jù)不同的實(shí)施例不出有機(jī)發(fā)光二極管100的不意的橫截面圖。
[0164]呈有機(jī)發(fā)光二極管100形式的發(fā)光器件100能夠具有載體102。載體102例如能夠用作為用于電子元件或者層、例如發(fā)光元件的載體元件。載體102例如能夠是玻璃(軟玻璃或者硬玻璃，優(yōu)選軟玻璃)或者是石英玻璃。此外載體102能夠具有塑料薄膜或者帶有一個或多個塑料薄膜的疊層。載體102能夠設(shè)計為是半透明的或者甚至是透明的。
[0165]術(shù)語“半透明”或者“半透明層”在不同的實(shí)施例中能夠理解為:層對于光是可穿透的，例如對于由發(fā)光器件產(chǎn)生的、如一個或多個波長范圍的、例如對于可見光波長范圍中的光(例如至少在380nm至780nm波長范圍的子范圍中的光)是可穿透的。例如，術(shù)語“半透明層”在不同的實(shí)施例中能夠理解為:基本上全部耦合輸入到結(jié)構(gòu)(例如層)中的光量也從結(jié)構(gòu)(例如層)中耦合輸出，其中光的一部分在此能夠被散射。
[0166]術(shù)語“透明”或“透明層”在不同的實(shí)施例中能夠理解為:層對于光是可穿透的(例如至少在380nm至780nm波長范圍的子范圍中)，其中耦合輸入到結(jié)構(gòu)(例如層)中的光基本上在沒有散射或光轉(zhuǎn)換的情況下也從結(jié)構(gòu)(例如層)中耦合輸出。因此，“透明”能夠視作為“半透明”的特殊情況。
[0167]對于例如應(yīng)當(dāng)提供發(fā)射光的單色的或在發(fā)射譜中受限的電子器件的情況而言足夠的是:光學(xué)半透明的層結(jié)構(gòu)至少在期望的單色光的波長范圍的子范圍中或者對于受限的發(fā)射譜是半透明的。
[0168]在不同的實(shí)施例中，有機(jī)發(fā)光二極管100 (或者還有根據(jù)在上面或在更下面描述的實(shí)施例的發(fā)光器件)能夠設(shè)計為所謂的頂部和底部發(fā)射器。頂部和底部發(fā)射器也能夠稱作為光學(xué)透明的器件、例如透明有機(jī)發(fā)光二級管。
[0169]在載體102上或上方能夠在不同的實(shí)施例中可選地設(shè)有阻擋層104。阻擋層104能夠具有下述材料中的一種或多種或者由其制成:氧化鋁、氧化鋅、氧化鋯、氧化鈦、氧化鉿、氧化鉭、氧化鑭、氧化娃、氮化娃、氮氧化娃、銦錫氧化物、銦鋅氧化物、招摻雜的氧化鋅以及其混合物和合金。此外，在不同的實(shí)施例中，阻擋層104能夠具有大約0.1nm(—個原子層)至大約5000nm范圍中的層厚度、例如大約1nm至大約200nm范圍中的層厚度、例如大約40nm的層厚度。
[0170]因此在不同的實(shí)施例中在阻擋層104上或上方(或者，當(dāng)阻擋層104不存在時，在載體102上或上方)能夠構(gòu)成有保護(hù)層106。
[0171]保護(hù)層106吸收對于有機(jī)功能層結(jié)構(gòu)112有害的UV輻射。這能夠借助于保護(hù)層106的物質(zhì)或者物質(zhì)混合物的、例如玻璃的組成來實(shí)現(xiàn)，或者借助于添加吸收UV輻射或者反射UV輻射的顆粒來實(shí)現(xiàn)。
[0172]為了提高器件100的光耦合輸出進(jìn)而提高耦合輸出效率，保護(hù)層106具有高折射的玻璃(高折射率)，所述玻璃具有大于大約1.7的折射率和分布的、吸收UV的散射中心、例如吸收UV的散射顆粒。
[0173]然而保護(hù)層106的折射率在光學(xué)上應(yīng)匹配于有機(jī)功能層結(jié)構(gòu)112和透明的電極110、114的折射率的層厚度加權(quán)平均值。
[0174]層厚度加權(quán)的折射率是各個層以相應(yīng)的層厚度份額加權(quán)的折射率的平均值。
[0175]在一個設(shè)計方案中，保護(hù)層106能夠具有與第一電極110和有機(jī)功能層結(jié)構(gòu)112類似的并且大于大約1.7的折射率。
[0176]保護(hù)層106的表面應(yīng)具有小的表面粗糙度(均方根粗糙度RMS)，即是非常平滑的，例如在大約0.1nm至大約1nm的范圍中。應(yīng)避免表面上的尖刺、即具有高的縱橫比和幾十nm的高度的不連續(xù)處，因為所述尖刺在封裝的情況下并且在光電子器件工作時漏電流的情況下會導(dǎo)致問題。
[0177]在制造光電子器件時尖刺會引起尖刺附近的有機(jī)層突然解交聯(lián)。在電有源區(qū)域108的總厚度小的情況下并且在多個用于構(gòu)成電有源區(qū)域108的方法步驟中，能夠借助于尖刺構(gòu)成第二電極114與第一電極110的實(shí)體接觸，即這會引起短路。
[0178]此外，薄層封裝件116在層厚度為幾十nm的情況下能夠借助于保護(hù)層106的尖刺將位于保護(hù)層之下的層、例如第二電極114在尖刺附近解交聯(lián)。由此有機(jī)光電子器件100不再能夠充分地被保護(hù)以免受外部影響、例如向內(nèi)擴(kuò)散的化學(xué)物質(zhì)、例如水和/或氧。
[0179]為了避免襯底102的能夠穿透電有源區(qū)域108的尖刺，能夠?qū)伖獾牟Ａбr底用作為襯底102。
[0180]為了避免同樣由襯底玻璃102引起的堿擴(kuò)散，襯底102能夠以S12阻擋層104來構(gòu)成。
[0181]如果對于保護(hù)層106使用無堿或者少堿的玻璃焊料，那么不需要施加阻擋層104。
[0182]在一個設(shè)計方案中，保護(hù)層106具有低熔點(diǎn)的、高折射的玻璃和/或玻璃焊料。
[0183]在低熔點(diǎn)的玻璃中，下述含Bi2O3的物質(zhì)混合物能夠具有對UV輻射的良好的吸收和高的折射率(大于大約1.7)，例如:
[0184]Bi2O3-B2O3'
[0185]Bi203_B203_Si02、
[0186]Bi203_B203_Zn0、
[0187]Bi203_B203_Zn0_Si02 ο
[0188]含Bi2O3的體系也能夠具有其它的玻璃組分:例如Al2O3、堿土金屬氧化物、堿金屬氧化物、Zr02、T12, HfO2, Nb2O5, Ta2O5, TeO2^ffO3,、M03、Sb2O3^Ag2O, SnO2 以及稀土氧化物。
[0189]能夠?qū)Υ┻^層的波長小于大約350nm的電磁福射的直至最大大約5%透射、在小于大約380nm的波長下最大大約為20%、優(yōu)選最大大約10%的透射理解為該層對UV輻射的良好的吸收。低于大約340nm的UV輻射借助于保護(hù)層大約100%地被吸收或反射。
[0190]在光電子器件的一個設(shè)計方案中，保護(hù)層106的玻璃也能夠具有選自下述含PbO的玻璃體系中的玻璃焊料或者由其形成:
[0191]例如:
[0192]PbO-B2O3、
[0193]PbO-S12'
[0194]PbO-B2O3-S12、
[0195]PbO-B2O3-ZnO2、
[0196]Pb0_B203_Al203，
[0197]其中含PbO的玻璃焊料也能夠具有Bi203。
[0198]在一個設(shè)計方案中，能夠給基體的玻璃添加吸收UV的化合物作為玻璃組分。為了提高UV吸收，在玻璃熔化過程中例如能夠給低熔點(diǎn)的玻璃、例如含鉛玻璃附加有具有鈰化合物、鐵化合物、錫化合物、鈦化合物、鐠化合物、銪化合物和/或釩化合物的物質(zhì)或物質(zhì)混合物作為玻璃混合物組成部分。
[0199]在此能夠?qū)⒉ＡУ臒嵋夯?、即熔化理解為玻璃熔化過程。吸收UV的添加物能夠作為組成部分溶解在玻璃中。在玻璃熔化過程之后玻璃能夠被粉末化，以覆層的形式施加到載體上并且緊接著借助于熱處理來玻璃化。
[0200]保護(hù)層的物質(zhì)或物質(zhì)混合物例如能夠作為膏構(gòu)成到載體102上。膏能夠具有玻璃粉末、粘合劑和/或溶劑。將膏施加到載體102上例如能夠借助于絲網(wǎng)印刷、模板印刷或者噴涂法來實(shí)現(xiàn)。
[0201]借助于熱處理、即借助于提高溫度，施加到載體102上的膏能夠液化、例如玻璃化并且構(gòu)成保護(hù)層106。
[0202]在又一個設(shè)計方案中，載體102能夠具有鈣鈉硅酸鹽玻璃并且具有在大約400°C至大約600°C的范圍中的保護(hù)層的膏的玻璃化溫度、例如低于載體102的轉(zhuǎn)變點(diǎn)，以便避免載體102的彎曲或變形或者將載體的彎曲和變形保持得小。溫度的提高例如能夠借助于爐、激光燒結(jié)或者在原位借助于熱噴涂工藝來實(shí)現(xiàn)。
[0203]然而含PbO的玻璃能夠具有不足夠的UV吸收，使得有針對性地對玻璃改性能夠是必要的，例如在含PbO的玻璃的玻璃熔體中借助于添加吸收UV的添加物、例如化學(xué)化合物和/或借助于添加吸收UV的、在玻璃焊料中不具有可溶性或者具有低的可溶性的納米顆粒和/或與其化學(xué)地反應(yīng)和/或不導(dǎo)致顯著的散射。
[0204]在不同的實(shí)施例中，保護(hù)層106能夠具有大約14111至大約5(^111的厚度，例如大約I μ m至大約40 μ m、例如3 μ m至大約30 μ m、例如5 μ m至大約20 μ m。
[0205]保護(hù)層106的其它的規(guī)格能夠從圖2至圖14的描述中得出。
[0206]在不同的實(shí)施例中，(例如第一電極層110形式的)第一電極110施加在保護(hù)層106上或上方。第一電極110(接下來也稱為下部電極110)能夠由導(dǎo)電材料形成或是導(dǎo)電材料，例如由金屬或透明導(dǎo)電氧化物(transparent conductive oxide, TC0)形成或由相同的或不同的金屬的和/或相同的或不同的TCO的多個層的層堆來形成。透明導(dǎo)電氧化物是透明的、導(dǎo)電的材料，例如金屬氧化物、例如氧化鋅、氧化錫、氧化鎘、氧化鈦、氧化銦或銦錫氧化物(ITO)。除了二元的金屬氧化物、例如Zn0、Sn02或In2O3以外，三元的金屬氧化物、例如 AlZnO、Zn2SnO4> CdSn03、ZnSn03、Mgln204、GaInO3, Zn2In2O5 或 In4Sn3O12 或不同的透明導(dǎo)電氧化物的混合物也屬于TCO族并且能夠使用在不同的實(shí)施例中。此外，TCO不強(qiáng)制符合化學(xué)計量的組分并且還能夠是P摻雜的或η摻雜的。
[0207]在不同的實(shí)施例中，第一電極110能夠具有金屬；例如Ag、Pt、Au、Mg、Al、Ba、In、Ag、Au、Mg、Ca、Sm或Li以及這些材料的化合物、組合物或合金。
[0208]在不同的實(shí)施例中，能夠由在TCO層上的金屬的層的組合的層堆形成第一電極110，或者反之亦然。一個示例是施加在銦錫氧化物層(ITO)或ITO-Ag-1TO復(fù)層上的銀層(ΙΤ0 上的 Ag)。
[0209]在不同的實(shí)施例中，替選于或除了上述材料之外，第一電極110能夠設(shè)有下述材料中的一種或多種:由金屬的納米線和納米微粒構(gòu)成的網(wǎng)絡(luò)、例如由Ag制成；由碳納米管構(gòu)成的網(wǎng)絡(luò)；石墨微粒和石墨層；由半導(dǎo)體納米線構(gòu)成的網(wǎng)絡(luò)。
[0210]此外，第一電極110能夠具有導(dǎo)電聚合物或過渡金屬氧化物或?qū)щ娡该餮趸铩0211 ] 在不同的實(shí)施例中，第一電極110和載體102能夠構(gòu)成為是半透明的或透明的。在第一電極110由金屬形成的情況下，第一電極110例如能夠具有小于或等于大約25nm的層厚度、例如小于或等于大約20nm的層厚度、例如小于或等于大約18nm的層厚度。此外，第一電極110例如能夠具有大于或等于大約1nm的層厚度、例如大于或等于大約15nm的層厚度。在不同的實(shí)施例中，第一電極110能夠具有大約1nm至大約25nm范圍內(nèi)的層厚度、例如大約1nm至大約18nm范圍內(nèi)的層厚度、例如大約15nm至大約18nm范圍內(nèi)的層厚度。
[0212]此外，對于第一電極110由透明導(dǎo)電氧化物(TCO)形成的情況而言，第一電極110例如能夠具有大約50nm至大約500nm范圍內(nèi)的層厚度、例如大約75nm至大約250nm范圍內(nèi)的層厚度、例如大約10nm至大約150nm范圍內(nèi)的層厚度。
[0213]此外，對于第一電極110由例如由Ag制成的例如能夠與導(dǎo)電聚合物組合的金屬納米線制成的網(wǎng)絡(luò)形成、由例如由能夠與導(dǎo)電聚合物組合的碳納米管構(gòu)成的網(wǎng)絡(luò)或者由石墨層和復(fù)合物形成的情況而言，第一電極I1例如能夠具有大約Inm至大約500nm范圍內(nèi)的層厚度、例如大約1nm至大約400nm范圍內(nèi)的層厚度、例如大約40nm至大約250nm范圍內(nèi)的層厚度。
[0214]第一電極110能夠構(gòu)成為陽極、即構(gòu)成為空穴注入的電極，或者構(gòu)成為陰極、即構(gòu)成為電子注入的電極。
[0215]第一電極110能夠具有第一電端子,能夠?qū)⒌谝浑妱?由能量源(未不出)、例如由電流源或電壓源提供)施加到所述第一電端子上。替選地，第一電勢能夠施加到載體102上或者是施加在載體102上的并且然后經(jīng)由此間接地輸送給第一電極110或者是輸送給第一電極110的。第一電勢例如能夠是接地電勢或者不同地預(yù)設(shè)的參考電勢。
[0216]此外，發(fā)光器件100的電有源區(qū)域108能夠具有有機(jī)電致發(fā)光層結(jié)構(gòu)112或有機(jī)功能層結(jié)構(gòu)112,所述有機(jī)電致發(fā)光層結(jié)構(gòu)或有機(jī)功能層結(jié)構(gòu)施加在第一電極110上或上方或者是施加在半透明的第一電極上或上方的。
[0217]有機(jī)電致發(fā)光層結(jié)構(gòu)112能夠包含例如具有突光發(fā)光的和/或磷光發(fā)光的發(fā)射體的一個或多個發(fā)射體層118，以及包含一個或多個空穴傳導(dǎo)層120 (也稱為空穴傳輸層120)。在不同的實(shí)施例中，替選地或附加地能夠設(shè)有一個或多個電子傳導(dǎo)層122(也稱為電子傳輸層122)。
[0218]能夠使用在發(fā)射體層118的根據(jù)不同的實(shí)施例的發(fā)光器件100中的發(fā)射體材料的示例包括:有機(jī)的或有機(jī)金屬的化合物，如聚芴、聚噻吩和聚亞苯基的衍生物(例如2-或2，5-取代的聚對苯乙炔)；以及金屬絡(luò)合物，例如銥絡(luò)合物、如發(fā)藍(lán)色磷光的FIrPic (雙(3，5-二氟-2-(2-吡啶基)苯基(2-羧基吡啶基)-銥III)、發(fā)綠色磷光的Ir(ppy)3(三(2-苯基吡啶)銥III)，發(fā)紅色磷光的Ru(dtb-bpy)3*2 (PF6)M三[4，4’-二叔丁基(2，2’)-雙吡啶]釕(III)絡(luò)合物)和發(fā)藍(lán)色熒光DPAVBi (4，4-雙[4-( 二對甲苯氨基)苯乙烯基]聯(lián)苯)、發(fā)綠色熒光的TTPA (9，10- 二 [N，N- 二對甲苯基氨基]蒽)和發(fā)紅色熒光的DCM2(4-二氰亞甲基)-2-甲基-6-久洛尼定基-9-烯基-4H-吡喃)作為非聚合物發(fā)射體。這種非聚合物發(fā)射體例如能夠借助于熱蒸鍍沉積。此外，能夠使用聚合物發(fā)射體，所述聚合物發(fā)射體尤其能夠借助于濕法化學(xué)法、例如旋涂(也稱作Spin Coating)來沉積。
[0219]發(fā)射體材料能夠以適合的方式嵌在基體材料中。
[0220]需要指出的是，在另外的實(shí)施例中同樣設(shè)有其他適當(dāng)?shù)陌l(fā)射體材料。
[0221]發(fā)光器件100的發(fā)射體層118的發(fā)射體材料例如能夠選擇為，使得發(fā)光器件100發(fā)射白光。發(fā)射體層118能夠具有多種發(fā)射不同顏色的(例如藍(lán)色和黃色或藍(lán)色、綠色和紅色)的發(fā)射體材料，替選地發(fā)射體材料118也能夠由多個子層形成，如發(fā)藍(lán)色熒光的發(fā)射體層118或發(fā)藍(lán)色磷光的發(fā)射體層118、發(fā)綠色磷光發(fā)射體層118和發(fā)紅色磷光的發(fā)射體層118。通過不同顏色的混合，能夠得到具有白色色彩印象的光的發(fā)射。替選地，也能夠提出，在通過所述層產(chǎn)生的初級發(fā)射的光路中設(shè)置轉(zhuǎn)換材料，所述轉(zhuǎn)換材料至少部分地吸收初級輻射，并且發(fā)射其他波長的次級輻射，使得從(還不是白色的)初級輻射通過將初級輻射和次級輻射組合而得到白色的色彩印象。
[0222]有機(jī)電致發(fā)光層結(jié)構(gòu)112通常能夠具有一個或多個電致發(fā)光的層。一個或多個電致發(fā)光的層能夠具有有機(jī)聚合物、有機(jī)低聚物、有機(jī)單體、有機(jī)的、非聚合物的小分子(“小分子(smallmolecules) 〃)或上述材料的組合。例如，有機(jī)電致發(fā)光層結(jié)構(gòu)112能夠具有構(gòu)成為空穴傳輸層120或為空穴傳輸層的一個或多個電致發(fā)光層,使得例如在OLED的情況下實(shí)現(xiàn)將空穴有效地注入到電致發(fā)光的層中或電致發(fā)光的區(qū)域中。替選地，在不同的實(shí)施例中，有機(jī)電致發(fā)光層結(jié)構(gòu)112能夠具有一個或多個功能層，所述功能層構(gòu)成為電子傳輸層122，使得例如在OLED的情況下實(shí)現(xiàn)將電子有效地注入到電致發(fā)光的層中或電致發(fā)光的區(qū)域中。例如能夠使用叔胺、咔唑衍生物、導(dǎo)電的聚苯胺或聚乙烯二氧噻吩作為用于空穴傳輸層120的材料。在不同的實(shí)施例中，一個或多個電致發(fā)光的層能夠構(gòu)成為用于電致發(fā)光的層。
[0223]在不同的實(shí)施例中，空穴傳輸層120能夠施加、例如沉積在第一電極110上或上方，并且發(fā)射體層118能夠施加、例如沉積在空穴傳輸層120上或上方。在不同的實(shí)施例中，電子傳輸層122能夠施加、例如沉積在發(fā)射體層118上或上方。
[0224]在不同的實(shí)施例中，有機(jī)的電致發(fā)光的層結(jié)構(gòu)112(即例如空穴傳輸層120和發(fā)射體層118和電子傳輸層122的厚度的總和)具有最大大約1.5 μ m的層厚度、例如最大大約1.2 μ m的層厚度、例如最大大約I μ m的層厚度、例如最大大約800nm的層厚度、例如最大大約500nm的層厚度、例如最大大約400nm的層厚度、例如最大大約300nm的層厚度。在不同的實(shí)施例中，有機(jī)電致發(fā)光層結(jié)構(gòu)112例如能夠具有由多個直接疊置地設(shè)置的有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)的堆，其中每個OLED例如能夠具有最大大約1.5μπι的層厚度、例如最大大約1.2 μ m的層厚度、例如最大大約Iym的層厚度、例如最大大約800nm的層厚度、例如最大大約500nm的層厚度、例如最大大約400nm的層厚度、例如最大大約300nm的層厚度。在不同的實(shí)施例中，有機(jī)的電致發(fā)光的層結(jié)構(gòu)112例如能夠具有兩個、三個或四個直接疊置地設(shè)置的OLED的堆，在此情況下，有機(jī)的電致發(fā)光的層結(jié)構(gòu)112例如能夠具有最大大約3 μ m的層厚度。
[0225]發(fā)光器件100可選地通常能夠具有另外的有機(jī)功能層，其例如設(shè)置在一個或多個發(fā)射體層118上或上方或者電子傳輸層122上或上方，所述有機(jī)功能層用于進(jìn)一步改進(jìn)發(fā)光器件100的功能性進(jìn)而改進(jìn)其效率。
[0226]在有機(jī)電致發(fā)光層結(jié)構(gòu)112上或上方或者必要時在一個或多個另外的有機(jī)功能層上或上方能夠施加有第二電極114 (例如呈第二電極層114形式)。
[0227]在不同的實(shí)施例中，第二電極114能夠具有與第一電極110相同的材料或者由其形成，其中在不同的實(shí)施例中金屬是尤其適合的。
[0228]在不同的實(shí)施例中，第二電極114 (例如對于金屬的第二電極114的情況)例如能夠具有小于或等于大約50nm的層厚度、例如小于或等于大約45nm的層厚度、例如小于或等于大約40nm的層厚度、例如小于或等于大約35nm的層厚度、例如小于或等于大約30nm的層厚度、例如小于或等于大約25nm的層厚度、例如小于或等于大約20nm的層厚度、例如小于或等于大約15nm的層厚度、例如小于或等于大約1nm的層厚度。
[0229]第二電極114通常能夠以與第一電極110類似的方式構(gòu)成或是以與第一電極類似的方式構(gòu)成的或者與其不同。第二電極114在不同的實(shí)施例中能夠由一種或多種材料構(gòu)成并且具有相應(yīng)的層厚度，如這在上面結(jié)合第一電極110來描述。在不同的實(shí)施例中，第一電極110和第二電極114這兩者都半透明或透明地構(gòu)成。因此，在圖1中示出的發(fā)光器件100能夠設(shè)計為頂部和底部發(fā)射器(換而言之設(shè)計為雙向放射的發(fā)光器件100)。
[0230]第二電極114能夠構(gòu)成為陽極、即構(gòu)成為空穴注入的電極、或者構(gòu)成為陰極、即構(gòu)成為電子注入的電極。
[0231]第二電極114能夠具有第二電端子，能夠?qū)⒂赡芰吭刺峁┑牡诙妱?其與第一電勢不同)施加到所述電端子上。第二電勢例如能夠具有下述數(shù)值:所述數(shù)值使得與第一電勢的差具有大約1.5V至大約20V范圍內(nèi)的數(shù)值、例如大約2.5V至大約15V范圍內(nèi)的數(shù)值、例如大約3V至大約12V范圍內(nèi)的數(shù)值。
[0232]在第二電極114上或上方進(jìn)而在電有源區(qū)域108上或上方仍能夠可選擇地形成或者已形成封裝件116、例如呈阻擋薄層/薄層封裝件116形式的封裝件。
[0233]在本申請的范圍內(nèi)，例如能夠?qū)ⅰ白钃醣印被颉白钃醣∧?16”理解為下述層或?qū)咏Y(jié)構(gòu)，所述層或?qū)咏Y(jié)構(gòu)適合于形成相對于化學(xué)雜質(zhì)或大氣物質(zhì)、尤其相對于水(濕氣)和氧氣的阻擋件。換而言之，阻擋薄層116構(gòu)成為，使得其例如不能夠或至多極少量被損壞OLED的物質(zhì)、如水、氧氣或溶劑穿透。
[0234]根據(jù)一個設(shè)計方案，阻擋薄層116能夠構(gòu)成為唯一的層(換而言之，也稱為單層)。根據(jù)一個替選的設(shè)計方案，阻擋薄層116能夠具有多個彼此疊加地構(gòu)成的子層。換而言之，根據(jù)一個設(shè)計方案，阻擋薄層116能夠構(gòu)成層堆(stack)。阻擋薄層116或阻擋薄層116的一個或多個層例如能夠借助于適當(dāng)?shù)某练e方法形成，例如根據(jù)一個設(shè)計方案借助于原子層沉積方法(Atomic layer Deposit1n(ALD))來形成、例如為等離子增強(qiáng)原子層沉積方法(Plasma Enhanced Atomic layer Deposit1n(PEALD))或無等離子原子層沉積方法(Plasma-less Atomic layer Deposit1n (PLALD)),或根據(jù)另一設(shè)計方案借助于化學(xué)氣相沉積方法(Chemical Vapor Depost1n (CVD))來形成,例如為等離子增強(qiáng)的氣相沉積方法(Plasma Enhanced Chemical Vapor Depost1n(PECVD))或無等離子的氣相沉積方法(Plasma-less Chemical Vapor Depost1n (PLCVD)),或者替選地借助于另外適當(dāng)?shù)某练e方法形成。
[0235]通過應(yīng)用原子層沉積法(ALD)能夠沉積極其薄的層。特別地，能夠沉積層厚度位于原子層范圍內(nèi)的層。
[0236]根據(jù)一個設(shè)計方案，在具有多個子層的阻擋薄層116中，所有的子層借助于原子層沉積法形成。僅具有ALD層的層序列也能夠稱為“納米疊層”。
[0237]根據(jù)一個替選的設(shè)計方案，在具有多個子層的阻擋薄層116中，阻擋薄層116中的一個或多個子層借助于不同于原子層沉積法的沉積法來沉積、例如借助于氣相沉積法來沉積。
[0238]阻擋薄層116根據(jù)一個設(shè)計方案能夠具有大約0.1nm (原子層)至大約100nm的層厚度、根據(jù)一個設(shè)計方案例如具有大約1nm至大約10nm的層厚度、根據(jù)一個設(shè)計方案例如具有大約40nm的層厚度。
[0239]根據(jù)一個設(shè)計方案，其中阻擋薄層116具有多個子層，所有的子層能夠具有相同的層厚度。根據(jù)另一個設(shè)計方案，阻擋薄層116的各個子層能夠具有不同的層厚度。換句話說，子層中的至少一個層能夠具有與子層中的一個或多個其它子層不同的層厚度。
[0240]阻擋薄層116或者阻擋薄層116的各個子層根據(jù)一個設(shè)計方案能夠構(gòu)成為半透明的或者透明的層。換句話說，阻擋薄層116(或者阻擋薄層116的各個子層)能夠由半透明的或者透明的材料(或者半透明的或者透明的材料組合)構(gòu)成。
[0241]根據(jù)一個設(shè)計方案，阻擋薄層116或者(在具有多個子層的層堆的情況下)阻擋薄層116中的一個或多個子層具有下述材料中的一種或者由其構(gòu)成:氧化鋁、氧化鋅、氧化錯、氧化鈦、氧化鉿、氧化鉭、氧化鑭、氧化娃、氮化娃、氮氧化娃、銦錫氧化物、銦鋅氧化物、摻雜鋁的氧化鋅以及它們的混合物和合金。在不同的實(shí)施例中，阻擋層116或者(在具有多個子層的層堆的情況下)阻擋薄層116中的一個或多個子層具有一種或多種高折射的材料，換而言之，一種或多種具有高折射率的材料、例如具有至少2的折射率的材料。
[0242]在阻擋薄層116上或上方能夠設(shè)有粘結(jié)劑和/或保護(hù)漆124，借助于所述粘結(jié)劑和/或保護(hù)漆例如能夠?qū)⒏采w件126 (例如玻璃覆蓋件126)固定、例如粘貼在阻擋薄層116上。在不同的實(shí)施例中，光學(xué)半透明的、由粘結(jié)劑和/或保護(hù)漆124構(gòu)成的層具有大于I μ m的層厚度、例如幾μ m的層厚度。在不同的實(shí)施例中，粘結(jié)劑能夠具有疊層粘結(jié)劑或者是這樣的疊層粘結(jié)劑。
[0243]在不同的實(shí)施例中，仍能夠?qū)⑸⑸涔獾念w粒嵌入到粘結(jié)劑的層(也稱為粘接層)中，所述散射光的顆粒能夠引起對色角畸變和耦合輸入效率的進(jìn)一步的改進(jìn)。在不同的實(shí)施例中，例如介電的散射顆粒能夠設(shè)置為散射光的顆粒、例如金屬氧化物、例如氧化硅(S12)、氧化鋯(ZrO2)、氧化鋁或者氧化鈦。其它的顆粒也能夠是適合的，只要它們具有不同于半透明的層結(jié)構(gòu)的基體的有效折射率的折射率，所述基體例如是氣泡、丙烯酸酯或者空心玻璃球。此外，金屬納米顆粒、金屬、如金、銀，鐵納米顆粒等例如能夠設(shè)置為散射光的顆粒。
[0244]在不同的實(shí)施例中，在第二電極114和由粘結(jié)劑124和/或保護(hù)漆124構(gòu)成的層之間仍能夠施加或者已經(jīng)施加電絕緣層(未示出)、例如SiN、例如具有在大約300nm至大約1.5 μ m范圍中的層厚度、例如具有在大約500nm至大約Ιμπι范圍中的層厚度，以便例如在濕化學(xué)工藝中保護(hù)電學(xué)不穩(wěn)定的材料。
[0245]在不同的實(shí)施例中，粘結(jié)劑能夠構(gòu)建為，使得其本身具有小于覆蓋件126的折射率的折射率。這樣的粘結(jié)劑例如能夠是低折射的粘結(jié)劑、例如丙烯酸酯，所述低折射的粘結(jié)劑具有大約1.3的折射率。此外，能夠設(shè)置多種不同的粘膠，所述粘膠形成粘膠層序列。
[0246]此外應(yīng)指出的是，在不同的實(shí)施例中也能夠完全放棄粘結(jié)劑124，例如在如下實(shí)施方式中，其中例如由玻璃構(gòu)成的覆蓋件126借助于例如等離子噴涂施加到阻擋薄層116上。
[0247]在不同的實(shí)施例中，覆蓋件126和/或粘結(jié)劑124 (例如在波長為633nm的情況下)能夠具有L 55的折射率。
[0248]此外，在不同的實(shí)施例中，在發(fā)光器件100中能夠附加地設(shè)有一個或多個(例如與封裝件116組合、例如與薄層封裝件116組合)抗反射層。
[0249]圖2根據(jù)不同的實(shí)施例示出用于制造保護(hù)層106的方法的流程圖200。
[0250]所示出的是:制備202載體；施加204玻璃層前體；干燥206玻璃層前體；從玻璃層中移除208非揮發(fā)性的有機(jī)組成部分(脫膠)；液化210玻璃層前體或液化(玻璃化)210玻璃粉末層；使玻璃固化212并且調(diào)節(jié)214表面特性，其中調(diào)節(jié)214表面特性能夠是可選的。
[0251]制備載體202，例如具有大約1.5的折射率的鈣鈉硅酸鹽玻璃，例如能夠具有:施加阻擋層104、例如S12 ;清潔載體102的表面或者清潔阻擋層104的表面或者調(diào)節(jié)載體102或阻擋層104的表面302上的化學(xué)基團(tuán)或者表面粗糙度。
[0252]在制備202載體102之后例如能夠借助于絲網(wǎng)印刷或者模板印刷將玻璃層前體施加204到載體102上,例如以玻璃粉末懸浮物或玻璃粉末膏施加到載體上,所述玻璃粉末懸浮物或玻璃粉末膏能夠具有由硼酸秘玻璃顆粒或者硼娃酸秘玻璃顆粒構(gòu)成的粉末，其具有例如在大約1.7和大約2.1之間的范圍中的折射率。
[0253]玻璃粉末懸浮物或玻璃粉末膏能夠具有市售的絲網(wǎng)印刷介質(zhì)(例如乙酸乙酯中的硝化纖維素或者乙二醇醚中的纖維素衍生物)。
[0254]硼酸鉍玻璃顆?；蛘咩G硼硅酸玻璃顆粒例如能夠具有大約I μ m的粒度分布D50和對于大約50°C至大約350°C的溫度范圍而言大約8.5.10_61/K的熱膨脹系數(shù)。替選地，例如也能夠選擇具有大約7 μ m的粒度分布D50和對于大約50°C至大約300°C的溫度范圍而言大約10.ιο-6ι/κ的熱膨脹系數(shù)的鉍鋅硼酸玻璃顆?；蛘咩G鋅硼硅酸玻璃顆粒。
[0255]在施加204玻璃層前體310之后，所述方法能夠具有:干燥206玻璃層前體310，例如在70°C下干燥3小時，以便移除揮發(fā)性的組成部分。
[0256]在干燥206玻璃層前體310之后，已干燥的玻璃層前體310中的非揮發(fā)性的有機(jī)組成部分能夠借助于移除208非揮發(fā)性的有機(jī)組成部分來熱移除，例如借助于熱解。絲網(wǎng)印刷介質(zhì)應(yīng)選擇為，使得在玻璃粉末軟化之前結(jié)束排膠。因為所使用的鉍硼硅酸玻璃從大約500°C起能夠開始軟化，所以這兩個上述粘合劑-溶劑體系對于該玻璃是尤其適合的，因為它們根據(jù)體系已經(jīng)能夠在大約200°C至大約400°C之間燒盡。
[0257]在移除208非揮發(fā)性的有機(jī)組成部分之后，能夠液化210玻璃層前體310。
[0258]在上述鉍硼硅酸玻璃作為玻璃粉末層310的情況下，在高于大約500°C的溫度下進(jìn)行玻璃化。
[0259]在鈣鈉硅酸鹽玻璃作為載體102的、具有大約550°C的上部冷卻溫度的實(shí)例中，溫度上限根據(jù)加熱方法能夠具有大約600°C的值，以便避免載體的變形或者將其保持得低。在玻璃化時，玻璃層前體304的或者玻璃顆粒306的粘度降低。由此玻璃層前體304或玻璃顆粒306能夠在載體102的表面302上構(gòu)成保護(hù)層106。該過程也被稱為玻璃化。如果玻璃化在低于載體102或載體玻璃102的轉(zhuǎn)變溫度之下進(jìn)行，那么在載體或載體玻璃中不構(gòu)建任何熱應(yīng)力。這兩個復(fù)合配隊物、即載體102和玻璃焊料306的熱膨脹系數(shù)不應(yīng)差別過大，以便避免載體102和保護(hù)層106之間的過強(qiáng)的復(fù)合應(yīng)力從而確保持久的連接。
[0260]因為保護(hù)層106能夠起類似于阻擋層作用，所以例如當(dāng)玻璃基體312無堿時可以放棄阻擋薄層104。
[0261]借助于玻璃化，保護(hù)層106的厚度關(guān)于玻璃層前體304的厚度能夠借助于填充玻璃顆粒306之間的間隙308來降低、例如降低到大約10 μ m。
[0262]在液化210玻璃層前體并且形成玻璃層之后，能夠進(jìn)行玻璃306的固化212，例如借助于冷卻、例如被動地冷卻。借助于固化212玻璃306能夠構(gòu)成保護(hù)層106。
[0263]在保護(hù)層106固化212之后，能夠調(diào)節(jié)214保護(hù)層106的表面特性、例如拋光、即平滑保護(hù)層106的表面402，例如借助于短暫地局部提高溫度、例如借助于定向的等離子體、例如作為火拋光或者也作為激光拋光。
[0264]圖3根據(jù)不同的實(shí)施例示出在用于制造保護(hù)層200的方法中在移除206載體102的表面302上的具有玻璃顆粒306的玻璃層前體304的非揮發(fā)性的有機(jī)組成部分之后的保護(hù)層106的示意的橫截面圖。
[0265]借助于移除206玻璃層前體304的非揮發(fā)性的有機(jī)組成部分，能夠在玻璃顆粒306之間構(gòu)成空的體積308。前體層304在此是具有或不具有揮發(fā)性的和/或非揮發(fā)性的有機(jī)組成部分的玻璃顆粒306的所施加的層。
[0266]圖4根據(jù)不同的實(shí)施例示出在用于制造保護(hù)層200的方法中在玻璃焊料306液化210或者固化212之后并且在玻璃焊料在例如載體102的表面302上潮解之后的保護(hù)層106的示意的橫截面圖。
[0267]借助于液化210玻璃焊料306，能夠填充玻璃顆粒308之間的空的體積308并且在保護(hù)層106上構(gòu)成平滑的、無孔的表面402。平滑的、無孔的表面402的構(gòu)成也能夠在處理214所述表面、例如拋光之后才進(jìn)行調(diào)節(jié)。
[0268]保護(hù)層106的所示出的層橫截面例如對應(yīng)于在固化216液化的玻璃顆粒308并且構(gòu)成玻璃層408或玻璃基體408之后的層橫截面。玻璃408能夠具有空的表面402并且與載體102或阻擋層104分享共同的邊界面404。
[0269]圖5根據(jù)不同的實(shí)施例示出關(guān)于電磁輻射穿過不同的結(jié)構(gòu)的透射的圖表500。
[0270]在圖5中的透射光譜500中示出不同波長504的電磁輻射穿過載體512以及穿過具有不同的含Bi2O3的保護(hù)層514、516、518的載體512的透射502。電磁輻射的波長范圍504能夠劃分為對于有機(jī)物質(zhì)無危害的可見范圍508和有害的UV范圍506，其中這兩個范圍506、508在波長為大約400nm處從UV邊緣510轉(zhuǎn)變、即彼此分開。
[0271]不同的含Bi的保護(hù)層106能夠借助于對玻璃層前體304的壓制工藝施加到載體512上(大約Imm厚)并且能夠根據(jù)圖2的描述構(gòu)成(玻璃化)。從厚度大約為20μπι的玻璃化的保護(hù)層516、518或者厚度大約為30 μ m的保護(hù)層514起，能夠測量關(guān)于入射的、不同波長504的電磁輻射的透射502。
[0272]未覆層的載體512在UV范圍506中與具有含Bi的保護(hù)層514、516、518的載體相比具有更高的透射進(jìn)而與含Bi的保護(hù)層514、516、518的載體相比具有更低的UV防護(hù)。
[0273]借助于選擇含Bi的玻璃和保護(hù)層106的層厚度，能夠借助于保護(hù)層514、516、518在電磁輻射的有害波長506的寬的范圍中構(gòu)成對于有機(jī)功能層結(jié)構(gòu)112的UV防護(hù)。
[0274]圖6根據(jù)不同的實(shí)施例示出關(guān)于電磁輻射的穿過不同的保護(hù)層的透射的圖表600。
[0275]在圖6中的透射頻譜600中示出不同波長504的電磁輻射穿過載體602以及穿過具有不同的含Bi2O3的保護(hù)層604、606、608的載體602的透射502。電磁輻射的波長范圍504能夠劃分為對于有機(jī)物質(zhì)無危害的可見范圍508和有害的UV范圍506，其中這兩個范圍506、508在波長為大約400nm處從UV邊緣510轉(zhuǎn)變、即彼此分開。
[0276]在另一個設(shè)計方案中，不同的含Bi的保護(hù)層604、606、608能夠借助于玻璃層前體304的絲網(wǎng)印刷被以大約0.7mm的厚度涂覆到軟玻璃襯底102(602)上并且在玻璃化和冷卻212之后例如具有大約10 μ m的層厚度。
[0277]由玻璃層前體304構(gòu)成保護(hù)層106能夠根據(jù)圖2的描述來構(gòu)成。
[0278]未覆層的載體602與具有含Bi的保護(hù)層604、606、608的載體相比具有更高的透射進(jìn)而不具有足夠的UV防護(hù)。具有含Bi的保護(hù)層604、606、608的載體反之顯示出UV防護(hù)。在保護(hù)層的厚度為大約10 μ m或者更薄的情況下，有害的UV輻射的一部分能夠穿過保護(hù)層106。
[0279]圖7根據(jù)不同的實(shí)施例示出關(guān)于電磁輻射的穿過不同的保護(hù)層的透射的圖表700。
[0280]在圖7中的透射頻譜700中示出不同波長504的電磁輻射穿過載體702以及穿過具有與含鉍的保護(hù)層708相比不同的含鉛的保護(hù)層704、706的載體702的透射502。電磁輻射的波長范圍504能夠劃分為對于有機(jī)物質(zhì)無危害的可見范圍508和有害的UV范圍506，其中這兩個范圍506、508在波長為大約400nm處從UV邊緣510轉(zhuǎn)變、即彼此分開。
[0281]在圖7中示出厚度為大約0.7mm的軟玻璃襯底的透射曲線和具有厚度為大約1ym的含PbO的玻璃層以及含Bi的玻璃層的類似的玻璃載體的透射曲線。
[0282]由含鉛的玻璃、例如由硼酸鉛玻璃或者鉛硼硅酸玻璃構(gòu)成的玻璃層前體304能夠借助于絲網(wǎng)印刷涂覆到厚度為大約0.7mm的玻璃襯底102上并且在冷卻212之后構(gòu)成盡可能無孔的并且平滑的、具有例如大約10 μ m的層厚度的層。
[0283]由玻璃層前體304構(gòu)成保護(hù)層106能夠根據(jù)圖2的描述來構(gòu)成。
[0284]未覆層的載體702與具有含Bi的保護(hù)層708或者含鉛的保護(hù)層704、706的載體相比具有更高的透射進(jìn)而與具有含Bi的保護(hù)層708或者含鉛的保護(hù)層704、706的載體相比具有更低的UV防護(hù)。
[0285]含鉛的保護(hù)層704、706與載體702相比能夠提供更高的UV防護(hù)。然而含鉛的保護(hù)層704、706在所選擇的層厚度中與含Bi的保護(hù)層708相比能夠具有對UV輻射的更低的吸收進(jìn)而具有更低的UV防護(hù)。
[0286]圖8根據(jù)不同的實(shí)施例示出用于制造保護(hù)層106的方法的流程圖800。
[0287]在用于制造保護(hù)層106的一個設(shè)計方案中，為了提高UV吸收，能夠給玻璃焊料、例如給玻璃焊料粉末膏306中的玻璃焊料粉末306添加吸收UV的添加物902、例如具有大約0.1 μ m至大約I μ m范圍中的平均粒度的T12、CeO2、Bi203> ZnO或者SnO2，其中吸收UV的添加物902應(yīng)均勻地分布在玻璃焊料粉末膏306中。
[0288]在用于制造保護(hù)層106的又一個設(shè)計方案中，為了提高UV吸收，能夠給玻璃焊料、例如給玻璃焊料粉末膏中的玻璃焊料粉末306添加吸收UV的添加物902、例如吸收UV的納米顆粒902 (未示出)，其中吸收UV的添加物902應(yīng)均勻地分布在玻璃焊料粉末膏306中。
[0289]吸收UV的納米顆粒902在熔化的玻璃焊料306中不具有可溶性或者具有低的可溶性和/或不與該玻璃焊料反應(yīng)或者僅困難地反應(yīng)。此外，納米顆粒不會引起電磁輻射的散射或者僅引起電磁輻射的低的散射，所述納米顆粒例如是具有小于大約50nm的粒度、例如由T12、CeO2、ZnO或Bi2O3構(gòu)成的納米顆粒。
[0290]在又一個設(shè)計方案中，吸收UV的添加物902 (未示出)能夠具有發(fā)光材料或者由其形成，其中發(fā)光材料在UV范圍506中具有吸收。
[0291]在又一個設(shè)計方案中，添加物902能夠具有吸收UV的玻璃或者由其形成。
[0292]由玻璃或者發(fā)光材料構(gòu)成的吸收UV的添加物902能夠具有在大約50nm至大約10 μ m的范圍中的平均粒度、例如在大約0.1 μ m至大約I μ m的范圍中的平均粒度。
[0293]吸收UV的添加物902除了吸收UV范圍506中的電磁輻射外還借助于散射引起光從光電子器件100中稱合輸出的提高。
[0294]在另一個設(shè)計方案中，玻璃粉末與至少一種類型的吸收UV的添加物混合并且作為膏或者懸浮物借助于絲網(wǎng)印刷或者模板印刷施加到載體102上。由此能夠在玻璃化之后在玻璃基體中構(gòu)成吸收UV的添加物的均勻的分布。
[0295]至少一種類型的吸收UV的添加物能夠具有選自下述吸收UV的添加物中的吸收UV的添加物:吸收UV的顆粒902、如具有0.1 μ m至I μ m的平均粒度的T12' Ce02、Bi2O3'ZnO或者SnO2 ;納米顆粒902 ;發(fā)光材料902或者吸收UV的玻璃顆粒902 ;其中具有玻璃基體306的吸收UV的添加物902中的每個、即具有吸收UV的添加物902的保護(hù)層106，與載體102相比具有對UV輻射的低的透射。
[0296]具有吸收UV的添加物的玻璃粉末懸浮物或玻璃粉末膏能夠在制備202載體102的或者阻擋薄層104的表面302之后施加(204)到表面302上。關(guān)于其它的方法步驟206、208、210、212、214和對于構(gòu)成保護(hù)層106必要的物質(zhì)或物質(zhì)混合物、例如玻璃焊料306、粘結(jié)劑等的說明能夠根據(jù)圖2的描述來構(gòu)成。
[0297]圖9根據(jù)不同的實(shí)施例示出在用于制造保護(hù)層800的方法中在移除206載體102的表面302上的具有玻璃顆粒306和吸收UV的添加物902的玻璃層前體304的非揮發(fā)性的有機(jī)的組成部分之后的保護(hù)層106的示意的橫截面圖。玻璃粉末在所示出的實(shí)施方案中已經(jīng)與至少一種類型的吸收UV的添加物混合并且作為膏或懸浮物借助于絲網(wǎng)印刷或者模板印刷施加到載體102上。
[0298]借助于移除206玻璃層前體304的非揮發(fā)性的有機(jī)的組成部分能夠在玻璃顆粒306之間構(gòu)成空的體積308。前體層304在此是具有或不具有揮發(fā)性的和/或非揮發(fā)性的有機(jī)組成部分的玻璃顆粒306的所施加的層。吸收UV的添加物902與玻璃顆粒306均勻地混合。
[0299]圖10根據(jù)不同的實(shí)施例示出在用于制造保護(hù)層800的方法中在具有吸收UV的添加物902的玻璃焊料306液化210和玻璃焊料在例如載體102的表面302上潮解或固化212之后的保護(hù)層106的示意的橫截面圖。
[0300]借助于玻璃焊料306的液化210能夠填充玻璃顆粒308之間的空的體積308并且在保護(hù)層106上構(gòu)成平滑的、無孔的表面402。平滑的、無孔的表面402的構(gòu)成也能夠在處理214表面之后、例如在拋光之后才進(jìn)行調(diào)整。
[0301]吸收UV的添加物902，例如根據(jù)圖8的描述，能夠在液化的且潮解的玻璃顆粒306固化212之后、即在構(gòu)成保護(hù)層106之后，例如均勻地分布在保護(hù)層106的玻璃306中。
[0302]圖11根據(jù)不同的實(shí)施例示出另一種用于制造保護(hù)層106的流程圖1100。
[0303]所示出的是:制備202載體；施加1102散射中心前體；干燥1104散射中心前體；施加204玻璃層前體；干燥206玻璃層前體；移除208散射中心層和玻璃層中的非揮發(fā)性的有機(jī)組成部分(排膠)；液化210玻璃層前體或者液化(玻璃化)210玻璃粉末層；固化212玻璃并且調(diào)節(jié)214表面特性，其中調(diào)節(jié)214表面特性能夠是可選的。散射中心前體能夠具有吸收UV的進(jìn)行散射的顆粒、例如具有在大約0.1 μ m至大約I μ m的范圍中的平均粒度的T12, CeO2,Bi203> ZnO或者SnO2 ;發(fā)光材料或者不吸收UV的僅進(jìn)行散射的顆粒、例如具有在大約0.1 μ m至大約I μ m的范圍中的平均粒度的A1203、Si02、Y2O3或者Zr02。
[0304]制備202載體、例如具有大約1.5的折射率的鈣鈉硅酸鹽玻璃，例如能夠具有:施加阻擋層104、例如S12 ;清潔載體102的表面或者清潔阻擋層104的表面或者調(diào)節(jié)載體102或阻擋層104的表面302上的化學(xué)基團(tuán)或者表面粗糙度。
[0305]在制備202載體102之后能夠?qū)⑸⑸渲行那绑w施加1102到載體102或阻擋層104的表面302上。施加1102散射中心前體例如能夠具有:將由散射中心1202以及揮發(fā)性的和非揮發(fā)性的有機(jī)組成部分構(gòu)成的懸浮物或膏施加到表面302上。
[0306]對于所述方法重要的是:在施加進(jìn)行散射的和/或吸收UV的添加物、例如散射中心之后液化玻璃。由此能夠調(diào)節(jié)進(jìn)行散射的添加物在保護(hù)層中的分布并且在玻璃的唯一的液化過程中、例如在退火過程中構(gòu)成保護(hù)層的平滑的表面。由玻璃顆粒構(gòu)成的或者具有玻璃粉末的懸浮物或膏的制造就此而言不被理解為液化，因為玻璃顆粒的外觀不因懸浮物而改變。
[0307]在一個設(shè)計方案中，散射中心1202的物質(zhì)或物質(zhì)混合物相對于載體102的物質(zhì)僅具有對UV透射的小的降低或者不具有對UV透射的降低，其中散射中心1202的物質(zhì)或物質(zhì)混合物具有選自下述物質(zhì)中的物質(zhì)或者化學(xué)計量的化合物或由其形成:Al203、Si02、Zr02或者m。
[0308]在另一個設(shè)計方案中，散射中心1202能夠具有吸收UV的物質(zhì)或者吸收UV的物質(zhì)混合物或者由其形成、例如Ti03、CeO2, ZnO、Bi203。
[0309]在又一個設(shè)計方案中，散射中心1202能夠具有發(fā)光材料或者由其形成，所述發(fā)光材料在UV范圍506中具有吸收。
[0310]在又一個設(shè)計方案中，散射中心1202能夠具有玻璃、例如玻璃顆?；蛘哂善湫纬?，其中玻璃能夠附加地構(gòu)成為吸收UV的玻璃，但是在玻璃化過程期間不改變或者軟化。
[0311]由玻璃或者發(fā)光材料構(gòu)成的散射顆粒1202能夠具有在大約50nm至大約10 μ m的范圍中的平均粒度、例如在大約0.1 μ m至大約I μ--的范圍中的平均粒度。
[0312]在不可視為是限制性的一個設(shè)計方案中，能夠由能絲網(wǎng)印刷的、由氧化的散射顆粒 306、例如 KRONOS 2056 (T12, d50 = 0.45 μ m)或者 CRlO (Al2O3, d50 = 0.45 μ m)，以及市售的絲網(wǎng)印刷介質(zhì)(例如乙酸乙酯中的硝化纖維素或者乙二醇醚中的纖維素衍生物)構(gòu)成的膏或懸浮物構(gòu)成具有例如大約30 μ m的濕層厚度的的薄的絲網(wǎng)印刷層1204或散射中心前體1204。
[0313]在借助于揮發(fā)性的溶劑、例如以懸浮物或膏施加1102散射中心前體之后，干燥1104散射中心前體1204。絲網(wǎng)印刷層1204例如能夠在70°C中干燥3小時。在干燥1104期間，絲網(wǎng)印刷層1204的揮發(fā)性的組成部分被移除。然而絲網(wǎng)印刷層1204仍具有非揮發(fā)性的有機(jī)組成部分、如粘結(jié)劑，所述粘結(jié)劑將散射顆粒彼此連接以及與載體連接從而給層帶來用于后面的工藝步驟的一定的機(jī)械強(qiáng)度。
[0314]在干燥1104絲網(wǎng)印刷層1204之后，例如能夠借助于絲網(wǎng)印刷或者模板印刷施加玻璃層前體304、例如借助玻璃粉末懸浮物或玻璃粉末膏來施加，所述玻璃粉末懸浮物或玻璃粉末膏能夠具有由硼酸鉛玻璃顆?；蛘咩U硼娃酸玻璃顆粒構(gòu)成的粉末。
[0315]玻璃粉末懸浮物或玻璃粉末膏同樣包含市售的絲網(wǎng)印刷介質(zhì)(例如乙酸乙酯中的硝化纖維素或者乙二醇醚中的纖維素衍生物)。玻璃粉末印刷層304例如能夠具有大約30 μ m的濕層厚度。硼酸鉛玻璃顆粒或者鉛硼硅酸玻璃顆粒例如能夠在大約1.7至大約1.9的范圍中的折射率。硼酸鉛玻璃顆粒或者鉛硼硅酸玻璃顆粒例如能夠具有帶有D90〈12 μ m和D50〈3 μ m的粒度分布。硼酸鉛玻璃顆粒或者鉛硼硅酸玻璃顆粒的熱膨脹系數(shù)對于大約50°C至大約400°C的溫度范圍例如能夠為大約7.5.10_61/K并且載體、即鈣鈉硅酸鹽玻璃的熱膨脹系數(shù)例如為大約8.5.10_61/Κ至9.10_61/Κ。
[0316]玻璃層前體304的厚度能夠為，使得玻璃層前體304中的玻璃306的總體積大于散射中心1206同揮發(fā)性的和非揮發(fā)性的有機(jī)物質(zhì)、例如粘結(jié)劑、溶劑的體積之間的空的體積，或者換言之，大于散射中心前體1204中的散射中心1202之間的中間空間1206的總的可占據(jù)的體積。
[0317]在此，保護(hù)層的在進(jìn)行散射的添加物上方的所述部分應(yīng)具有大于或等于進(jìn)行散射的和/或吸收UV的添加物的最上方的層片的粗糙度的厚度，所述進(jìn)行散射的和/或吸收UV的添加物例如是吸收UV的散射中心、例如不具有玻璃的散射光的顆粒，使得構(gòu)成至少一個平滑的表面、即所述表面具有低的RMS粗糙度(root mean square均方根,平均偏差的絕對值)、例如小于10nm。進(jìn)行散射的添加物的最上方的層片的粗糙度與進(jìn)行散射的添加物的實(shí)際大小相關(guān)。
[0318]在施加204玻璃層前體304之后，所述方法能夠具有:干燥206玻璃層前體304，例如在70°C中干燥3小時，以便移除揮發(fā)性的組成部分。
[0319]在干燥206玻璃層前體304之后，已干燥的絲網(wǎng)印刷層1204和已干燥的玻璃層前體304中的非揮發(fā)性的有機(jī)組成部分能夠借助于移除208非揮發(fā)性的有機(jī)組成部分來熱移除、例如借助于熱解。絲網(wǎng)印刷介質(zhì)應(yīng)選擇為，使得在玻璃粉末306軟化之前結(jié)束排膠。因為所使用的鉍硼硅酸玻璃從大約500°C起能夠開始軟化，所以這兩個上述粘結(jié)劑-溶劑體系對于該玻璃是尤其適合的，因為它們根據(jù)體系已經(jīng)能夠在大約200°C至大約400°C之間燒盡。
[0320]移除208散射中心前體1204和玻璃層前體304中的非揮發(fā)性的有機(jī)組成部分能夠在散射中心前體1204和玻璃層前體310中構(gòu)成空的體積1206、308。
[0321]在移除208非揮發(fā)性的有機(jī)組成部分之后，能夠液化210玻璃層前體304。
[0322]在上述鉛硼硅酸玻璃焊料作為玻璃粉末層304的情況下，能夠在高于大約500°C的溫度下進(jìn)行玻璃化。在具有大約550°C的上部冷卻溫度的鈣鈉硅酸鹽玻璃作為載體102的實(shí)例中，溫度上限根據(jù)加熱方法能夠具有大約600°C的值，以便避免載體的變形或?qū)⑵浔３值玫汀Ｔ诓ＡЩ瘯r降低玻璃層前體304或者玻璃顆粒306的粘度。由此玻璃層前體304或者玻璃顆粒306能夠占據(jù)已干燥的絲網(wǎng)印刷層1204的散射中心1202之間的空的體積1206。該過程也稱為玻璃化。如果玻璃化在低于載體102或者載體玻璃102的轉(zhuǎn)變溫度下進(jìn)行，那么在所述載體或載體玻璃中不構(gòu)建任何熱應(yīng)力。這兩個復(fù)合配隊物、即載體102和玻璃焊料306的熱膨脹系數(shù)不應(yīng)差別過大，以便避免載體102和保護(hù)層106之間的過強(qiáng)的復(fù)合應(yīng)力從而確保持久的連接。因為保護(hù)層106能夠起類似于阻擋層的作用，所以例如當(dāng)玻璃基體306無堿時可以放棄阻擋薄層104。
[0323]借助于玻璃化，保護(hù)層106的厚度相對于散射中心前體1204的厚度和玻璃層前體304的層厚度能夠降低、例如降低到大約10 μ m。
[0324]在液化210玻璃層前體并且在液態(tài)的玻璃流入到散射中心1202之間的空間1206中之后，能夠固化212玻璃304、例如借助于冷卻、例如被動地冷卻。借助于固化212玻璃304能夠構(gòu)成保護(hù)層106。
[0325]在保護(hù)層106固化212之后，能夠調(diào)節(jié)214保護(hù)層106的表面特性、例如拋光、即平滑保護(hù)層106的表面402，例如借助于短暫地局部提高溫度、例如借助于定向的等離子體、例如作為火拋光或者也作為激光拋光。
[0326]在又一個設(shè)計方案中，對于玻璃層前體304使用硼酸鉛玻璃顆?；蛘咩U硼硅酸玻璃顆粒，所述硼酸鉛玻璃顆?；蛘咩U硼硅酸玻璃顆粒例如具有帶有D90〈15 μ m和D50〈6 μ m的粒度分布。硼酸鉛玻璃顆?；蛘咩U硼硅酸玻璃顆粒能夠具有例如大約12.5.10_61/K的熱膨脹系數(shù)。在使用該玻璃的情況下，玻璃化能夠在低于大約500°C的溫度下構(gòu)成，因為其軟化會在大約360°C下開始。
[0327]在另一個設(shè)計方案中，對于玻璃層前體304也能夠使用無鉛的玻璃顆粒，所述玻璃顆粒能夠具有在大約1.7和大約2.1之間的折射率。該玻璃顆粒例如能夠是硼酸鉍玻璃顆?；蛘咩G硼硅酸玻璃顆粒，具有大約I μ m的粒度分布D50并且對于大約50°C至大約3500C的溫度范圍具有大約8.5.10_61/K的熱膨脹系數(shù)。替選地，例如也能夠選擇鉍鋅硼酸玻璃顆?；蛘呙劁\硼娃酸玻璃顆粒，所述秘鋅硼酸玻璃顆?；蛘呙劁\硼娃酸玻璃顆粒具有大約7μπι的粒度分布D50并且對于大約50°C至大約300°C的溫度范圍具有大約10.10_61/K的熱膨脹系數(shù)的。
[0328]具有散射顆粒的保護(hù)層的總層厚度能夠在大約Ιμ--至大約100 μ m的范圍中構(gòu)成。
[0329]圖12根據(jù)不同的實(shí)施例示出在用于制造保護(hù)層1100的方法中在移除206載體102的表面302上的具有玻璃顆粒306的玻璃層前體304和具有散射中心1202的散射中心前體1204的非揮發(fā)性的有機(jī)組成部分之后的保護(hù)層106的示意的橫截面圖，其中所述散射中心1202能夠是吸收UV的。
[0330]借助于移除散射中心前體1202和玻璃層前體304的非揮發(fā)性的有機(jī)組成部分能夠在散射中心1202之間并且在玻璃顆粒304之間構(gòu)成空的體積1206、308。前體層1204、304在此是具有或不具有揮發(fā)性的和/或非揮發(fā)性的有機(jī)組成部分的散射中心1204和玻璃顆粒304的所施加的層。
[0331]圖13根據(jù)不同的實(shí)施例示出在用于制造根據(jù)不同的實(shí)施例的保護(hù)層1100的方法中在玻璃304液化210并且流入到散射中心1202之間的空體積1206中之后的保護(hù)層106的示意的橫截面圖，其中散射中心1202也能夠是吸收UV的。
[0332]保護(hù)層106的所示出的層橫截面例如對應(yīng)于在固化212液化的玻璃顆粒304并且構(gòu)成玻璃層1302或玻璃基體1302之后的層橫截面。玻璃1302能夠具有空的表面1304并且與載體102或阻擋層104分享一個共同的邊界面136。此外玻璃層1302能夠與散射中心1202分享一個共同的邊界面1308或者多個共同的邊界面1308。
[0333]在玻璃基體1302與散射中心1202的邊界面1308上能夠散射電磁輻射，由此能夠提高光電子器件中的光耦合輸出，其中散射中心1202例如能夠是吸收UV的。
[0334]圖14根據(jù)不同的實(shí)施例示出關(guān)于電磁輻射穿過不同的保護(hù)層的透射的圖表1400。
[0335]在圖14中的透射光譜1400中示出不同波長504的電磁輻射穿過載體1402以及穿過具有不同的保護(hù)層1404、1406、1408、1410的載體的透射502。電磁輻射的波長范圍504能夠劃分為對于有機(jī)物質(zhì)無危害的可見范圍508和有害的UV范圍506，其中這兩個范圍506、508在波長在大約400nm處從UV邊緣510轉(zhuǎn)變、即彼此分開。
[0336]所示出的是:具有含Bi的1408的玻璃基體1302中的和含PbO的1406的玻璃基體1302中的T12散射中心的保護(hù)層106的透射，其中所述透射例如能夠借助于根據(jù)圖11中的描述所述的方法構(gòu)成。T12散射中心在此附加地是吸收UV的、即T12散射中心在該設(shè)計方案中是吸收UV的添加物902并且附加地與散射中心1202合為一體。
[0337]此外示出含Bi 1404保護(hù)層106和含PbOHlO的保護(hù)層106的透射，所述透射例如能夠借助于根據(jù)圖2中的描述所述的方法構(gòu)成。
[0338]具有保護(hù)層1404、1406、1408、1410的結(jié)構(gòu)已施加在類似的載體102上、例如施加在厚度為大約0.7mm的軟玻璃襯底102上。因此載體102的透射1402能夠用作為用于具有保護(hù)層1404、1406、1408、1410的結(jié)構(gòu)的參考值。所示出的透射1404、1406、1408、1410的保護(hù)層106能夠分別具有大約10 μ m的厚度。
[0339]未覆層的載體1402與具有含Bi的保護(hù)層1404、1408或者含鉛的保護(hù)層1406、1410的載體102相比具有更高的透射進(jìn)而具有更低的UV防護(hù)。
[0340]含鉛的保護(hù)層1406、1410與載體1402相比能夠提供更高的UV防護(hù)。然而含鉛的保護(hù)層1406、1410在所選擇的層厚度中與含Bi的保護(hù)層1404、1408相比具有對UV輻射的更低的吸收進(jìn)而具有更低的UV防護(hù)。
[0341]吸收UV的添加物902能夠根據(jù)圖8或圖11的描述的方法在保護(hù)層106中構(gòu)成。借助于吸收UV的添加物902，UV邊緣510能夠向右移動、即向更高的波長504移動，由此相對于不具有散射顆粒的保護(hù)層(1404表示含Bi并且1410表示含鉛)提高了含Bi的(1408)和含鉛的(1410)的保護(hù)層106的UV吸收。
[0342]在不同的實(shí)施方式中提供一種光電子器件和一種用于制造光電子器件的方法，借助于所述方法可行的是，在未將吸收UV的塑料薄膜施加到器件的外側(cè)上的情況下保護(hù)有機(jī)光電子器件免受UV輻射影響。由此能夠防止對有機(jī)光電子器件的美學(xué)外觀的損害。此外能夠節(jié)省將塑料薄膜施加到光電子器件上的工藝步驟和薄膜本身。
[0343]此外吸收UV的層能夠有利地構(gòu)成為，使得吸收UV的顆粒同時作用為用于可見光的散射體從而提高光從有機(jī)光電子器件的耦合輸出。
【權(quán)利要求】
1.一種光電子器件(100)，具有: ?載體(102)； ?所述載體(102)上或上方的保護(hù)層(106)； ?所述保護(hù)層(106)上或上方的第一電極(110)； ?所述第一電極上或上方的有機(jī)功能層結(jié)構(gòu)(112);和 ?所述有機(jī)功能層結(jié)構(gòu)(112)上或上方的第二電極(114)； 其中所述保護(hù)層(106)與所述載體(102)相比對于波長小于大約400nm的電磁輻射(506)而言至少在一定波長范圍中具有更低的透射； 并且其中所述保護(hù)層(106)具有玻璃。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光電子器件(100)， 其中所述載體(102)面狀地構(gòu)成。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光電子器件(100)， 其中所述載體(102)具有軟玻璃或者由其形成。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光電子器件(100)， 其中所述軟玻璃是鈣鈉硅酸鹽玻璃。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項所述的光電子器件(100)， 其中所述保護(hù)層(106)具有基體(306)和嵌入在所述基體中的至少一個第一類型的吸收UV的添加物(902，1202)，其中所述吸收UV的添加物(902，1202)與所述載體(102)相比對于波長小于大約400nm的電磁輻射(506)而言至少在一定波長范圍中具有更低的透射。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光電子器件(100)， 其中所述保護(hù)層(106)的所述基體(306)具有大于大約1.7的折射率。
7.根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的光電子器件(100)， 其中所述保護(hù)層(106)的所述基體(306)構(gòu)成為是無定形的。
8.根據(jù)權(quán)利要求5至7中任一項所述的光電子器件(100)， 其中所述保護(hù)層(106)的所述基體(306)具有選自下述玻璃體系中的物質(zhì)或物質(zhì)混合物或者由其形成:
含 PbO 的體系:Pb0-B203、PbO-S12'PbO-B2O3-S12'PbO-B2O3-ZnO2'PbO-B2O3-Al2O3,其中含PbO的玻璃焊料也能夠具有Bi2O3 ；
含 Bi2O3 的體系:Bi203_B203、Bi203_B203_Si02、Bi203_B203_Zn0、Bi203_B203_Zn0_Si02， 其中所述物質(zhì)或物質(zhì)混合物仍附加地具有選自下述物質(zhì)中的物質(zhì)或物質(zhì)混合物:Al2O3、堿土金屬氧化物、堿金屬氧化物、ZrO2, T12, HfO2, Nb2O5, Ta2O5, TeO2, WO3> MO3> Sb203、Ag2O、SnO2、稀土氧化物。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的光電子器件(100)， 其中所述基體(306)的所述物質(zhì)或物質(zhì)混合物具有選自下述物質(zhì)中的物質(zhì)或者由其形成:鈰化合物、鐵化合物、錫化合物、鈦化合物、鐠化合物、銪化合物和/或釩化合物。
10.根據(jù)權(quán)利要求5至9中任一項所述的光電子器件(100)， 其中一種類型的所述吸收UV的添加物(902，1202)具有選自下述物質(zhì)中的物質(zhì)或物質(zhì)混合物或化學(xué)計量的化合物或者由其形成:
T12、CeO2、Bi2O3、ZnO、SnO2 ； 發(fā)光物質(zhì):摻雜Ce3+的石榴石、如YAG = Ce和LuAG ;摻雜Eu3+的氮化物、硫化物，S1NE、塞隆、正硅酸鹽、氯硅酸鹽、氯磷酸鹽、BAM(鋁酸鋇鎂:Eu)和/或SCAP、鹵磷酸鹽、玻璃顆粒、金屬納米顆粒。
11.根據(jù)權(quán)利要求1至10中任一項所述的光電子器件(100)， 其中所述光電子器件(100)優(yōu)選構(gòu)成為有機(jī)發(fā)光二極管(100)或者構(gòu)成為有機(jī)太陽能電池(100)。
12.一種用于制造光電子器件的方法，所述方法具有: ?在載體(102)上或上方形成保護(hù)層(106)； ?在所述保護(hù)層(106)上或上方形成第一電極(110)； ?在所述第一電極(110)上或上方形成有機(jī)功能層結(jié)構(gòu)(112)； 以及 ?在所述有機(jī)功能層結(jié)構(gòu)(112)上或上方形成第二電極(114)； 其中所述保護(hù)層(106)構(gòu)建為，使得與所述載體(102)相比對于波長小于大約400nm的電磁輻射(506)而言至少在一定波長范圍中具有對電磁輻射的更低的透射； 并且其中所述保護(hù)層(106)具有玻璃。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法， 其中形成所述保護(hù)層(106)具有:將玻璃焊料粉末施加在所述載體(102)上或上方，其中將所述玻璃焊料粉末(306)液化以構(gòu)成所述保護(hù)層(106)。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法， 其中在將所述玻璃焊料粉末施加到所述載體(102)上之前給所述玻璃焊料粉末(306)添加至少一種類型的吸收UV的添加物(902，1202)。
15.根據(jù)權(quán)利要求13或14所述的方法， 其中將吸收UV的散射中心(902，1202)施加在所述載體(102)上或上方并且將所述玻璃焊料粉末(306)施加在吸收UV的所述散射中心(902，1202)的層片(1204)上或上方，并且將所述玻璃(306)液化，使得液化的所述玻璃(306)的一部分在所述散射中心(1202)之間朝向所述載體(302)的表面(1306)流動，使得仍有一部分液化的所述玻璃(306)保留在所述散射中心(1202)上方。
【文檔編號】H01L51/52GK104379521SQ201380022254
【公開日】2015年2月25日 申請日期:2013年4月11日 優(yōu)先權(quán)日:2012年4月26日
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