一種基板處理裝置制造方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種基板處理裝置，該裝置包括處理基板的處理設備，以及設置于所述處理設備入口處的氣刀。本實用新型的基板處理裝置，能夠對要進入處理設備的基板進行吹掃，以盡量去除基板上的雜質。這樣，最終進入處理設備的基板上幾乎沒有雜質，因此不會因雜質而導致后續(xù)對基板進行處理時發(fā)生不良，提高了產品質量。
【專利說明】一種基板處理裝置
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及機械領域，具體涉及一種基板處理裝置。
【背景技術】
[0002]目前，基板在進入刻蝕設備等處理設備時，通常要求基板上沒有雜質，如果基板上存在雜質，由于雜質的阻擋，雜質下面的待刻蝕物無法被刻蝕掉從而會導致不良，所以通常需要提供潔凈度較高的外部環(huán)境。但是，在基板進入處理設備前的運輸過程中，由于存在設備的摩擦碎屑等，基板上經常會不可避免的落入雜質。
實用新型內容
[0003]有鑒于此，本實用新型的主要目的在于提供一種基板處理裝置，以有效去除要進入處理設備的基板上的雜質。
[0004]為達到上述目的，本實用新型的技術方案是這樣實現的:
[0005]一種基板處理裝置，該裝置包括處理基板的處理設備，以及設置于所述處理設備入口處的氣刀。
[0006]優(yōu)選地，所述氣刀與氣體供應端通過導管相連。
[0007]優(yōu)選地，所述氣刀與所述氣體供應端之間連接有控制氣體通斷的通氣閥；和/或，所述氣刀與所述氣體供應端之間連接有改變所述導管中通過的氣體流量的調壓閥。
[0008]優(yōu)選地，所述裝置包含所述通氣閥時，所述通氣閥與控制該通氣閥導通和關閉的控制器相連；所述裝置包含所述調壓閥時，所述調壓閥與控制該調壓閥的氣體流量的所述控制器相連。
[0009]優(yōu)選地，在所述氣刀與所述氣體供應端之間連接有所述通氣閥和調壓閥的情況下，在所述氣體供應端與通氣閥之間的導管上設置有所述調壓閥，或在所述通氣閥與氣刀之間的導管上設置有所述調壓閥。
[0010]優(yōu)選地，在所述處理設備入口處還設置有用于監(jiān)測所述處理設備的門的開啟和關閉的傳感器，該傳感器與所述控制器相連，用于將所述門的開啟或關閉的信號傳送給所述控制器。
[0011]優(yōu)選地，所述氣刀設置于支撐架上或所述處理設備的門上。
[0012]本實用新型的基板處理裝置，能夠對要進入處理設備的基板進行吹掃，以盡量去除基板上的雜質。這樣，最終進入處理設備的基板上幾乎沒有雜質，因此不會因雜質而導致后續(xù)對基板進行處理時發(fā)生不良，提高了產品質量。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0013]圖1為本實用新型實施例的基板處理裝置的示意圖；
[0014]圖2為圖1中的基板處理裝置的氣刀的工作原理示意圖；
[0015]附圖標記說明:[0016]1、處理腔室(Process Chamber);3、基板；4、傳送單兀(Transfer Module);5、加載互鎖(Load Lock)單元；7、氣刀；8、機械手；9、端(Port) 口 ；14、調壓閥；15、通氣閥；17、傳感器；18、導管；20、門；21、氣體供應端；22、電線；23、電源；24、控制器。
【具體實施方式】
[0017]目前常用的刻蝕設備通常包括圖1中所示的處理腔室1、傳送單元4、加載互鎖單兀6。
[0018]機械手8能夠將放置于端口 9中的基板3取出，并將取出的基板3經過加載互鎖單元5的門20放置于加載互鎖單元5中。之后，加載互鎖單元5中的基板3會被傳送單元4傳送到處理腔室I中進行刻蝕等后續(xù)處理。
[0019]在實際應用中，可以在加載互鎖單元5的入口處設置氣刀7，由氣刀7對要進入加載互鎖單元5的基板3進行吹掃，以盡量去除基板3上的雜質。這樣，最終進入處理腔室I的基板3上幾乎沒有雜質，因此不會因雜質而導致后續(xù)對基板3進行處理時發(fā)生不良，提高了產品質量。
[0020]氣刀7的設置位置可以多種多樣，如:設置在門20附近或門20上等。當然，氣刀7也可以設置在單獨的支撐架上。無論如何設置氣刀7，只要氣刀7能夠對要進入加載互鎖單元5的基板3進行吹掃，以盡量去除基板3上的雜質即可。
[0021]需要說明的是，本實用新型只是以刻蝕設備為例。實際上，無論是刻蝕設備還是其它的處理設備，都可以在該處理設備的入口處設置氣刀7，由氣刀7對要進入該處理設備的基板3進行吹掃，以盡量去除基板3上的雜質。
[0022]在實際應用中，可以基于圖2所示對氣刀7進行控制。圖2中，氣刀7通過導管18連接通氣閥15，通氣閥15則通過導管18連接氣體供應端21。通氣閥15可以通過電線22連接到電源23以及控制器24。當然，控制器24也可以通過電線22連接到電源23。
[0023]上述器件中，氣體供應端21能夠通過導管18提供氣體；通氣閥15能夠根據控制器24的控制實現導通或關閉，當通氣閥15導通時，氣體供應端21所提供的氣體通過通氣閥15被傳送到氣刀7 ;當通氣閥15關閉時，氣體供應端21所提供的氣體則截止于通氣閥15而無法被傳送到氣刀7。
[0024]再有，還可以在加載互鎖單元5的入口處(如加載互鎖單元5附近)設置傳感器17，并將傳感器17通過電線22連接到電源23以及控制器24。傳感器17能夠監(jiān)測門20的開啟和關閉并向控制器24傳導相應的信號，控制器24根據收到的信號控制通氣閥15相應導通或關閉。比如:當門20開啟時，傳感器17監(jiān)測到該情況并將相應的開啟信號發(fā)送給控制器24，控制器24控制通氣閥15導通，控制器24還可以根據基板3的搬送時間精確調整通氣閥15導通的時間，此時氣體供應端21所提供的氣體通過氣刀7吹向基板3。
[0025]在基板3被傳送進加載互鎖單元5的過程中，氣刀7 —直處于工作狀態(tài)，向基板3吹掃。之后，在基板3完全進入加載互鎖單元5后，門20關閉，這時傳感器17監(jiān)測到該情況并將相應的關閉信號發(fā)送給控制器24，控制器24控制通氣閥15關閉，氣刀7停止工作。
[0026]當然，可以直接將氣體供應端21與氣刀7相連，但相比較這種連接方式，在氣體供應端21與氣刀7之間連接通氣閥15，能夠有效節(jié)省氣體消耗。
[0027]為了對氣刀7的吹掃進行更有效的控制，可以在氣體供應端21與氣刀7之間的氣體通路上設置調壓閥14，如:在氣體供應端21與通氣閥15之間的導管18上設置調壓閥14，或在通氣閥15與氣刀7之間的導管18上設置調壓閥14。另外，調壓閥14可以通過電線22與控制器24相連，根據控制器24的控制改變通過的氣體流量。
[0028]圖2中，電源23可以是24V電源；控制器24可以是精控-定時程序控制器，能夠精確設置通氣閥15的開啟與關閉時間；氣體供應端21所提供的氣體可以是純凈的氮氣；傳感器17可以是光電傳感器；通氣閥15可以是電磁閥。
[0029]需要說明的是，本實用新型的基板處理裝置上，可以只安裝通氣閥15，或只安裝調壓閥14，也可以同時安裝有通氣閥15和調壓閥14。當同時安裝有通氣閥15和調壓閥14時，通氣閥15和調壓閥14的位置順序可以互換。控制器24也可以是可編程控制器(PLC)、單片機系列及工控機等。另外，還可以在處理設備的入口處安裝輔助超聲清洗裝置，由該輔助超聲清洗裝置對要進入處理設備的基板3進行清洗。
[0030]綜上所述可見，本實用新型的基板處理裝置，能夠對要進入處理設備的基板進行吹掃，以盡量去除基板上的雜質。這樣，最終進入處理設備的基板上幾乎沒有雜質，因此不會因雜質而導致后續(xù)對基板進行處理時發(fā)生不良，提高了產品質量。
[0031]以上所述，僅為本實用新型的較佳實施例而已，并非用于限定本實用新型的保護范圍。
【權利要求】
1.一種基板處理裝置，其特征在于，該裝置包括處理基板的處理設備，以及設置于所述處理設備入口處的氣刀。
2.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述氣刀與氣體供應端通過導管相連。
3.根據權利要求2所述的裝置，其特征在于， 所述氣刀與所述氣體供應端之間連接有控制氣體通斷的通氣閥；和/或， 所述氣刀與所述氣體供應端之間連接有改變所述導管中通過的氣體流量的調壓閥。
4.根據權利要求3所述的裝置，其特征在于， 所述裝置包含所述通氣閥時，所述通氣閥與控制該通氣閥導通和關閉的控制器相連； 所述裝置包含所述調壓閥時，所述調壓閥與控制該調壓閥的氣體流量的所述控制器相連。
5.根據權利要求3或4所述的裝置，其特征在于，在所述氣刀與所述氣體供應端之間連接有所述通氣閥和調壓閥的情況下， 在所述氣體供應端與通氣閥之間的導管上設置有所述調壓閥， 或在所述通氣閥與氣刀之間的導管上設置有所述調壓閥。
6.根據權利要求4所述的裝置，其特征在于，在所述處理設備入口處還設置有用于監(jiān)測所述處理設備的門的開啟和關閉的傳感器，該傳感器與所述控制器相連，用于將所述門的開啟或關閉的信號傳送給所述控制器。
7.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述氣刀設置于支撐架上或所述處理設備的門上。
【文檔編號】H01L21/67GK203456425SQ201320483919
【公開日】2014年2月26日 申請日期:2013年8月8日 優(yōu)先權日:2013年8月8日
【發(fā)明者】蔣會剛, 肖紅璽, 劉華鋒, 吳平, 謝海征, 高福亮, 林雨 申請人:北京京東方光電科技有限公司