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一種陷波特性可重構(gòu)的超寬帶平面單極子天線的制作方法

文檔序號:6796412閱讀:291來源:國知局
專利名稱:一種陷波特性可重構(gòu)的超寬帶平面單極子天線的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及無線通信領(lǐng)域中的平面超寬帶天線及頻率可重構(gòu)天線技術(shù),具體涉及一種陷波特性可重構(gòu)的超寬帶平面單極子天線。
背景技術(shù)
由于現(xiàn)代通信系統(tǒng)的迅猛發(fā)展,無線技術(shù)面臨著越來越嚴峻的挑戰(zhàn)。受頻帶寬度窄、傳輸速率低以及安全性能差等不良因素的制約,傳統(tǒng)的通信技術(shù)日漸難以適應(yīng)新通信方式的要求。超寬帶(Ultra-wideband,簡稱UWB)技術(shù)具備系統(tǒng)容量大、保密性好、傳輸速率高等其它無線技術(shù)無法比擬的優(yōu)點,近幾年在通信領(lǐng)域獲得了廣泛的發(fā)展和應(yīng)用。超寬帶天線作為超寬帶通信中重要的組成部分,對系統(tǒng)能否有效地運行起著十分關(guān)鍵的作用。隨著超寬帶技術(shù)的開放,如何設(shè)計低剖面、重量輕且易于共形的超寬帶天線也成了一大研究熱點。根據(jù)聯(lián)邦通信委員會(FCC)所規(guī)定的技術(shù)標準,UffB系統(tǒng)的工作頻率為3.1GHz至10.6GHz。然而,在超寬帶通技術(shù)不斷應(yīng)用中,其存在的問題也漸漸地凸顯。比如,在同一頻段范圍內(nèi),其它通信協(xié)議與超寬帶存在著需要解決的相互干擾的問題。這些其它通信協(xié)議的頻段中,比較常見的有WLAN的5.8GHz頻段。當超寬帶天線的工作區(qū)域中存在著其它通信協(xié)議的頻段時,它們之間勢必會形成有害的電磁干擾,彼此的通信質(zhì)量也會因此遭到破壞。如何有效地解決這種干擾是超寬帶通信中必須要面對和研究的問題。傳統(tǒng)的解決系統(tǒng)間干擾的方法是在收發(fā)系統(tǒng)的前端加上特定的帶阻或帶通濾波器,對工作環(huán)境中的干擾頻段進行濾波,但是這種方法通常會導(dǎo)致系統(tǒng)的成本和復(fù)雜度增力口。對最初的超寬帶天線進行相應(yīng)的改進,使得超寬帶天線在通信中易發(fā)生干擾的頻段處產(chǎn)生較大的反射系數(shù),呈現(xiàn)出“陷波”特性。這樣,在陷波頻段內(nèi),天線的輻射增益很低,由此便可以解決超寬帶 技術(shù)跟其它的通信協(xié)議之間的干擾問題,實現(xiàn)起來簡單易行且成本較低。然而,當陷波天線所處的工作環(huán)境發(fā)生改變時(例如其它無線協(xié)議消失),由于加入陷波頻段,天線整體的工作頻段變窄,這就會導(dǎo)致頻率資源的浪費。如何設(shè)計出能夠適應(yīng)不同工作環(huán)境的超寬帶天線,使之既能避免頻段干擾,又能在干擾消失時,盡量提高頻帶利用率,是陷波超寬帶天線設(shè)計中的一個難題。

實用新型內(nèi)容為了降低超寬帶天線的制作復(fù)雜度和成本,適應(yīng)不同的工作環(huán)境,既能避免頻段干擾又能提高頻帶利用率,本實用新型提供一種陷波特性可重構(gòu)的超寬帶平面單極子天線。為了實現(xiàn)上述目的,本實用新型采取如下的技術(shù)方案:提出的陷波特性可重構(gòu)的超寬帶平面單極子天線包括:介質(zhì)基板、金屬鍍層以及兩個微電子機械系統(tǒng)(MEMS)開關(guān),其中,所述金屬鍍層包括輻射單元、共面波導(dǎo)饋線、共面波導(dǎo)地板。所述共面波導(dǎo)地板包括第一共面波導(dǎo)地板、第二共面波導(dǎo)地板,所述輻射單元蝕刻出一個類C形槽,所述兩個微電子機械系統(tǒng)(MEMS)開關(guān)包括第一 MEMS開關(guān)、第二 MEMS開關(guān)。所述金屬鍍層和所述兩個MEMS開關(guān)位于所述介質(zhì)基板的上表面。所述共面波導(dǎo)饋線與所述第一共面波導(dǎo)地板之間存在第一縫隙,所述共面波導(dǎo)饋線與所述第二共面波導(dǎo)地板之間存在第二縫隙。所述第一 MEMS開關(guān)和第二 MEMS開關(guān)跨接在所述類C形槽上。進一步優(yōu)化的,所述輻射單元為八邊形結(jié)構(gòu)。進一步優(yōu)化的,所述輻射單元與所述共面波導(dǎo)饋線相連。進一步優(yōu)化的,所述金屬鍍層的材料是導(dǎo)電性能較好的金屬,如金、銀或銅。進一步優(yōu)化的,所述類C形槽的開口向下。進一步優(yōu)化的,所述第一共面波導(dǎo)地板與所述第二共面波導(dǎo)地板的形狀和大小相同。進一步優(yōu)化的,所述第一縫隙與所述第二縫隙的寬度相同。進一步優(yōu)化的,所述第一共面波導(dǎo)地板與所述第二共面波導(dǎo)地板分別位于共面波導(dǎo)饋線的兩側(cè)并且關(guān)于共面波導(dǎo)饋線對稱。與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實用新型具有如下優(yōu)點和技術(shù)效果:本實用新型所提出的陷波特性可重構(gòu)的超寬帶平面單極子天線結(jié)構(gòu)簡單緊湊,僅通過控制兩個MEMS開關(guān)的導(dǎo)通與斷開,便可以達到天線陷波特性有無的切換。當兩個MEMS開關(guān)均斷開時,超寬帶天線在易發(fā)生干擾的頻段處產(chǎn)生較大的反射系數(shù),呈現(xiàn)出“陷波”特性,此時天線的輻射增益很低,由此便可以解決超寬帶技術(shù)跟其它的通信協(xié)議之間的干擾問題。當兩個MEMS開關(guān)均閉合時,“陷波”特性消失,天線能夠有效地工作于UWB的全頻段。該陷波特性可重構(gòu)的超寬帶平面單極子天線能夠適應(yīng)不同的工作環(huán)境,既能避免頻段干擾,又能在干擾消失時,提高頻帶利用率和通信效率?!?br>
圖1是本實用新型實施例提供的陷波特性可重構(gòu)的超寬帶平面單極子天線的俯視圖;圖2是本實用新型實施例提供的當?shù)谝?MEMS開關(guān)和第二 MEMS開關(guān)都斷開時的天線電壓駐波比曲線圖;圖3是本實用新型實施例提供的當?shù)谝?MEMS開關(guān)和第二 MEMS開關(guān)都導(dǎo)通時的天線電壓駐波比曲線圖。
具體實施方式
以下結(jié)合附圖對本實用新型的實施例作詳細說明:本實施例在以本實用新型技術(shù)方案為前提下進行實施,給出了詳細的實施方式和具體的操作過程,但本實用新型的保護范圍不限于下述的實施例。如圖1所示,本實用新型實例提供了一種陷波特性可重構(gòu)的超寬帶平面單極子天線包括:介質(zhì)基板I以及位于介質(zhì)基板I上表面的輻射單元2、共面波導(dǎo)饋線3、第一 MEMS開關(guān)5、第二 MEMS開關(guān)6、第一共面波導(dǎo)地板7、第二共面波導(dǎo)地板8。所述輻射單元2蝕刻出一個類C形槽4。所述共面波導(dǎo)饋線3與所述第一共面波導(dǎo)地板7之間存在第一縫隙9,所述共面波導(dǎo)饋線3與所述第二共面波導(dǎo)地板8之間存在第二縫隙10。[0021]所述輻射單元2為八邊形結(jié)構(gòu),等效于在一個矩形的四個角均剪去形狀一樣的直角三角形,所述輻射單元2的形狀關(guān)于Z軸對稱。所述輻射單元2的形狀和大小對于天線工作頻段的影響最大,選擇合適的尺寸使天線工作于期望的頻段中。具體的,本實用新型實施例中,所述輻射單元2等效于在一個沿Z軸方向上長度為14mm、與Y軸平行方向上寬度為23mm的矩形的四個角均剪去形狀一樣的直角三角形所得的八邊形結(jié)構(gòu)。所述輻射單元2與所述共面波導(dǎo)饋線3相連。所述金屬鍍層的材料是導(dǎo)電性能較好的金屬,如金、銀或銅。所述類C形槽4的開口向下,其形狀關(guān)于Z軸對稱。所述類C形槽4由五部分連接而成:第一條形槽41、第二條形槽42、第三條形槽43、第四條形槽44、第五條形槽45。其中,第一條形槽41和第二條形槽42形狀和大小相同且兩者關(guān)于Z軸對稱,第三條形槽43和第四條形槽44形狀和大小相同且兩者關(guān)于Z軸對稱。當類C形槽的總長度為所需抑制頻率相應(yīng)的波長的一半時,在該頻率點及其附近輸入阻抗失配。陷波中心頻率fn(rtc;h與類C
形槽總長度Lc之間的關(guān)系為
權(quán)利要求1.一種陷波特性可重構(gòu)的超寬帶平面單極子天線,其特征在于包括介質(zhì)基板(I)、金屬鍍層以及兩個微電子機械系統(tǒng)(MEMS)開關(guān),其中,所述金屬鍍層包括輻射單元(2)、共面波導(dǎo)饋線(3)、共面波導(dǎo)地板;所述共面波導(dǎo)地板包括第一共面波導(dǎo)地板(7)、第二共面波導(dǎo)地板(8),所述輻射單元(2)蝕刻出一個類C形槽(4),所述兩個微電子機械系統(tǒng)(MEMS)開關(guān)包括第一 MEMS開關(guān)(5)、第二 MEMS開關(guān)(6);所述金屬鍍層和所述兩個MEMS開關(guān)位于所述介質(zhì)基板(I)的上表面;所述共面波導(dǎo)饋線(3)與所述第一共面波導(dǎo)地板(7)之間存在第一縫隙(9),所述共面波導(dǎo)饋線(3)與所述第二共面波導(dǎo)地板(8)之間存在第二縫隙(10);所述第一 MEMS開關(guān)(5)和第二 MEMS開關(guān)(6)跨接在所述類C形槽(4)上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陷波特性可重構(gòu)的超寬帶平面單極子天線,其特征在于,所述輻射單元(2)為八邊形結(jié)構(gòu)。
3.根據(jù)權(quán)利要 求1所述的陷波特性可重構(gòu)的超寬帶平面單極子天線,其特征在于,所述輻射單元(2)與所述共面波導(dǎo)饋線(3)相連。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陷波特性可重構(gòu)的超寬帶平面單極子天線,其特征在于,所述金屬鍍層的材料是導(dǎo)電性能較好的金屬,如金、銀或銅。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陷波特性可重構(gòu)的超寬帶平面單極子天線,其特征在于,所述類C形槽(4)的開口向下。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陷波特性可重構(gòu)的超寬帶平面單極子天線,其特征在于,所述第一共面波導(dǎo)地板(7)與所述第二共面波導(dǎo)地板(8)的形狀和大小相同。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陷波特性可重構(gòu)的超寬帶平面單極子天線,其特征在于,所述第一縫隙(9)與所述第二縫隙(10)的寬度相同。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陷波特性可重構(gòu)的超寬帶平面單極子天線,其特征在于,所述第一共面波導(dǎo)地板(7)與所述第二共面波導(dǎo)地板(8)分別位于共面波導(dǎo)饋線(3)的兩側(cè)并且關(guān)于共面波導(dǎo)饋線(3 )對稱。
專利摘要本實用新型公開一種陷波特性可重構(gòu)的超寬帶平面單極子天線,它包括介質(zhì)基板(1),和位于介質(zhì)基板(1)上表面的金屬鍍層以及兩個微電子機械系統(tǒng)(MEMS)開關(guān)。所述金屬鍍層包括輻射單元(2)、共面波導(dǎo)饋線(3)、共面波導(dǎo)地板。其中,所述共面波導(dǎo)地板包括第一共面波導(dǎo)地板(7)、第二共面波導(dǎo)地板(8),所述輻射單元(2)蝕刻出一個類C形槽(4)。本實用新型所提出的天線結(jié)構(gòu)簡單緊湊,僅通過控制兩個MEMS開關(guān)的導(dǎo)通與斷開,便可以達到天線陷波特性有無的切換,使天線有效地工作于超寬帶(UWB)頻段的同時,又能實現(xiàn)陷波頻段的產(chǎn)生或消失,從而提高了頻帶利用率和通信效率。
文檔編號H01Q1/52GK203166078SQ20132010732
公開日2013年8月28日 申請日期2013年3月8日 優(yōu)先權(quán)日2013年3月8日
發(fā)明者胡斌杰, 黃俊杰 申請人:華南理工大學(xué)
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