專利名稱：基板承接腔及刻蝕設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及干法刻蝕設(shè)備，尤其涉及基板承接腔及刻蝕設(shè)備。
背景技術(shù)：
基板是構(gòu)成液晶顯示器件的一個(gè)基本部件，是平板顯示(Flat PanelDisplay,FPD)產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵基礎(chǔ)材料之一。而在液晶顯示器件的制作過(guò)程中，干法刻蝕工藝是必不可少的工藝步驟，所謂干法刻蝕是用等離子體進(jìn)行薄膜刻蝕的技術(shù)。采用干法刻蝕技術(shù)對(duì)基板進(jìn)行干法刻蝕時(shí)，需要用到刻蝕設(shè)備，簡(jiǎn)稱干刻設(shè)備。干刻設(shè)備中包括基板承接腔?；宄薪忧?，用于承接大氣機(jī)械手傳遞的基板，工作時(shí)處于密閉狀態(tài)。圖1所示的干刻設(shè)備中包括:承裝基板的基板架U、大氣機(jī)械手12，以及順次連接的基板承接腔13、傳送腔14、工藝反應(yīng)腔15。其中，基板架11上放有基板?；宄薪忧?3設(shè)有可開(kāi)閉的第一門131和第二門132，刻蝕基板17時(shí)，大氣機(jī)械手12從基板架11上取下一塊基板17，將該基板17通過(guò)第一門131傳送到基板承接腔13中，第二門132位于基板承接腔13和傳送腔14之間，傳送腔14中設(shè)有機(jī)械手141，機(jī)械手141將基板承接腔13中的大氣機(jī)械手12傳送過(guò)來(lái)的基板17通過(guò)第二門132傳送到傳送腔14。在傳送腔14和工藝反應(yīng)腔15之間設(shè)有第三門16，機(jī)械手141再將基板17經(jīng)第三門16傳送到工藝反應(yīng)腔15。基板17在工藝反應(yīng)腔15中進(jìn)行干法刻蝕，待刻蝕完畢后，機(jī)械手141再將刻蝕完畢的基板17原路線傳送到基板承接腔13中，之后，基板承接腔13要再轉(zhuǎn)換為大氣狀態(tài)，再將第一門131開(kāi)啟，從而大氣機(jī)械手12取走刻蝕完畢的基板17，再將該基板17傳送到基板架11上。其中，機(jī)械手141可以上下移動(dòng)，也可以左右移動(dòng)。上述過(guò)程中,基板架11暴露在空氣中，每刻蝕一塊基板17,需要大氣機(jī)械手12從基板架11上取下一塊基 板17。由于基板承接腔13和傳送腔14都處于真空狀態(tài)，因此，大氣機(jī)械手12把基板17通過(guò)第一門131傳送給基板承接腔13之前，首先要使基板承接腔13內(nèi)轉(zhuǎn)換為大氣狀態(tài)。通常的做法是向基板承接腔13中通入氮?dú)?。待基板承接?3轉(zhuǎn)換為大氣狀態(tài)，第一門131開(kāi)啟，大氣機(jī)械手12把待刻蝕的基板17傳送到基板承接腔13內(nèi)。之后，關(guān)閉第一門131，再抽走基板承接腔13中的氮?dú)猓够宄薪忧?3內(nèi)變?yōu)檎婵諣顟B(tài)。然后，開(kāi)啟第二門132，傳送腔14中的機(jī)械手141通過(guò)第二門132將上述基板傳送到傳送腔14中，再進(jìn)行后續(xù)的操作。該基板17刻蝕完畢后，還要再向基板承接腔13中充入氮?dú)?，使基板承接?3由真空狀態(tài)轉(zhuǎn)換為大氣狀態(tài)，繼而將刻蝕后的基板17經(jīng)由相同的路徑由大氣機(jī)械手12放置回基板架11上。在采用上述干刻設(shè)備刻蝕基板時(shí)，需要用到大氣機(jī)械手將基板從基板架上取下后，再傳送到基板承接腔中，大氣機(jī)械手成本較高，導(dǎo)致干刻設(shè)備成本較高；大氣機(jī)械手一次只能傳遞一塊基板，并且，每完成一塊基板的刻蝕工藝，基板承接腔都要進(jìn)行兩次大氣狀態(tài)和真空狀態(tài)的轉(zhuǎn)化，操作步驟繁瑣
實(shí)用新型內(nèi)容
[0008]本實(shí)用新型的實(shí)施例提供一種基板承接腔及刻蝕設(shè)備，解決了采用干刻設(shè)備刻蝕基板時(shí)，干刻設(shè)備成本較高，操作步驟繁瑣的問(wèn)題。本實(shí)用新型所指的基板可以是玻璃基板也可以是其他薄型基板。為達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型的實(shí)施例采用如下技術(shù)方案:一種基板承接腔，與傳送腔氣密性連接，包括密閉的腔體及位于所述腔體內(nèi)的用于放置具有多個(gè)基板的基板架，所述腔體上設(shè)有第一門，所述第一門位于所述腔體與所述傳送腔之間。為了便于機(jī)械手從基板架上把基板取走，所述基板架具有多層，每一層放置一塊所述基板，相鄰兩層之間間隔指定距離。具體地，所述的基板承接腔，還包括與所述基板架連接的用于驅(qū)動(dòng)所述基板架移動(dòng)的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)。為使基板架移動(dòng)的距離 更準(zhǔn)確，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)為伺服電機(jī)。優(yōu)選地，所述腔體上還設(shè)有用于放入多個(gè)所述基板或所述用于放置多個(gè)基板的基板架的第二門。其中，所述第一門與所述第二門設(shè)置在所述腔體的不同側(cè)壁。優(yōu)選地，所述第二門包括與所述基板承接腔連接的第一門扇和第二門扇。優(yōu)選地，所述第二門包括與所述基板承接腔連接的第三門扇。一種刻蝕設(shè)備，包括上述基板承接腔的腔室。本實(shí)用新型實(shí)施例提供的基板承接腔及刻蝕設(shè)備中，在刻蝕基板時(shí)，省略了大氣機(jī)械手，因此降低了干刻設(shè)備的成本，一批次的多個(gè)待刻蝕的基板都放置在基板承接腔中，也就不存在把待刻蝕的基板一塊一塊地傳送到基板承接腔的過(guò)程，因而簡(jiǎn)化了刻蝕時(shí)的操作步驟。

為了更清楚地說(shuō)明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹。圖1為現(xiàn)有技術(shù)中的干刻設(shè)備結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種基板承接腔的結(jié)構(gòu)示意圖；圖3為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的又一種基板承接腔的結(jié)構(gòu)示意圖；圖4為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的再一種基板承接腔的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述。本實(shí)用新型實(shí)施例提供了一種基板承接腔，如圖2所示，該基板承接腔與傳送腔21氣密性連接，包括密閉的腔體24及位于腔體24內(nèi)的用于放置多個(gè)基板的基板架23，腔體24上設(shè)有第一門22，第一門22位于腔體24與傳送腔21之間。使用本實(shí)用新型實(shí)施例提供的基板承接腔進(jìn)行基板刻蝕時(shí)，先將一批次的多個(gè)基板經(jīng)第二門33放入基板承接腔的密閉的腔體24內(nèi)的基板架23上。再將該基板承接腔的密閉的腔體24轉(zhuǎn)換為真空狀態(tài)。這樣，基板承接腔中的一批次的多個(gè)基板都處于真空狀態(tài)。然后，將第一門22開(kāi)啟，傳送腔21中的可上下和左右移動(dòng)的機(jī)械手211通過(guò)第一門22進(jìn)入到基板承接腔的腔體24中，取走一塊基板，再將該基板傳送到傳送腔21中，最后到達(dá)進(jìn)行干法刻蝕的腔室?？涛g過(guò)程中，第一門22始終不關(guān)閉，且第一門22的開(kāi)啟程度足夠大，使得機(jī)械手211通過(guò)第一門22能夠取走基板架23上的任意一塊基板。待該基板在進(jìn)行干法刻蝕的腔體中完成刻蝕后，機(jī)械手211再將刻蝕后的基板經(jīng)過(guò)第一門22原路線送回到基板承接腔的腔體24內(nèi)的基板架23上指定位置。并且，機(jī)械手211完成一塊基板的傳送后，能夠立即開(kāi)始另一塊基板的傳送。即機(jī)械手211可再通過(guò)第一門22到達(dá)基板承接腔的腔體24，取走一塊基板，之后重復(fù)地進(jìn)行上述的傳送步驟。也就是說(shuō)，機(jī)械手211能夠不間斷地、連續(xù)地從基板承接腔的密閉的腔體24中取走待刻蝕的基板，再將刻蝕完畢的基板送回到基板承接腔的腔體24中，直到完成本批次基板的傳送，再將第一門22關(guān)閉。本實(shí)用新型實(shí)施例提供的基板承接腔中，在刻蝕基板時(shí)，省略了大氣機(jī)械手，因此降低了干刻設(shè)備的成本，一批次的多個(gè)待刻蝕的基板都放置在基板承接腔中，也就不存在把待刻蝕的基板一塊一塊地傳送到基板承接腔的過(guò)程，因而簡(jiǎn)化了刻蝕時(shí)的操作步驟。同時(shí)，由于省去了一塊一塊地傳送到基板承接腔的過(guò)程，因此縮短了批量刻蝕基板過(guò)程所需要的時(shí)間；并且，只需使基板承接腔進(jìn)行一次由大氣狀態(tài)轉(zhuǎn)換為真空狀態(tài)，就能完成一批次基板的刻蝕，簡(jiǎn)化操作步驟的同時(shí)，降低了能量和氣體的消耗。另外，現(xiàn)有技術(shù)中，傳送腔處于真空狀態(tài)，而基板承接腔交替地處于大氣狀態(tài)和真空狀態(tài)。傳送腔中的機(jī)械手，結(jié)束當(dāng)前基板的傳送后，需要等待基板承接腔從大氣狀態(tài)轉(zhuǎn)化為真空狀態(tài)后，才能進(jìn)行下一次傳送操作。因此，浪費(fèi)了大量時(shí)間，也增加了刻蝕基板所用的時(shí)長(zhǎng)。然而，采用本實(shí)用新型實(shí)施例提供的基板承接腔，由于基板承接腔只進(jìn)行一次由大氣狀態(tài)到真空狀態(tài)的轉(zhuǎn) 換，基板刻蝕過(guò)程中第一門一直開(kāi)啟，傳送腔中的機(jī)械手傳送完一塊基板后，可以立即傳送下一塊基板，無(wú)需等待。因此大大節(jié)約了時(shí)間，縮短了刻蝕基板所用的時(shí)間。此外，本實(shí)用新型實(shí)施例提供的基板承接腔，將批量基板都放置在基板承接腔中，待刻蝕的和完成刻蝕的基板都處于真空狀態(tài)，不會(huì)暴露在空氣中，大大降低了基板處于空氣中沾染異物的幾率。對(duì)提高產(chǎn)品的良好率具有重要意義。上述實(shí)施例提供的基板承接腔中，如圖3所示，基板架23可以具有多層31，每一層31放置一塊基板，相鄰兩層31之間間隔指定距離。這樣設(shè)置便于機(jī)械手211 —次從基板架23的一層31上取下一塊基板，可避免多塊基板堆疊在同一層31而發(fā)生不利于機(jī)械手211從基板架23上把基板取走的情況。上述實(shí)施例提供的基板承接腔中，還可以包括與基板架23連接的用于驅(qū)動(dòng)基板架23移動(dòng)的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)32。這里所說(shuō)的移動(dòng)可以是上下移動(dòng)，也可以是左右移動(dòng)，或者是空間內(nèi)任意位置的改變。例如，驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)32可以驅(qū)動(dòng)基板架23上下移動(dòng)，而傳送腔21中的機(jī)械手211在豎直方向位置可以固定不變，驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)32驅(qū)動(dòng)基板架23向上移動(dòng)一定距離，使得基板架23上一層31上的基板恰好落在機(jī)械手211上，驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)32再驅(qū)動(dòng)基板架23向下移動(dòng)一定距離，使得該基板與基板架23上存放基板的一層31脫離。從而機(jī)械手211再將落在其上的基板傳送到傳送腔21中。每完成一塊基板的刻蝕，驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)32都可以驅(qū)動(dòng)基板架23向上或向下運(yùn)動(dòng)指定距離，使得基板架23上的基板到達(dá)可以被機(jī)械手211取走的位置，并且使基板恰好落在機(jī)械手211上。當(dāng)前基板完成刻蝕后，機(jī)械手211再將該基板傳送回未進(jìn)行刻蝕時(shí)放置的位置。因此，可以選用僅能夠左右移動(dòng)的機(jī)械手211就能滿足要求。當(dāng)然，由于驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)32能夠驅(qū)動(dòng)基板架23移動(dòng)，因此也可以使基板架23上的其他空位與機(jī)械手211的位置相對(duì)應(yīng)，從而使得機(jī)械手211能夠?qū)⒖涛g完畢的基板放置在基板架23上的指定空位置上。上述實(shí)施例提供的基板承接腔中，驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)32可以為伺服電機(jī)。伺服電機(jī)能夠按照預(yù)定的程序來(lái)運(yùn)行。例如，可以在伺服電機(jī)的控制程序中設(shè)置驅(qū)動(dòng)基板架23移動(dòng)的距離、方位，從而使伺服電機(jī)驅(qū)動(dòng)基板架23移動(dòng)指定的距離，使得基板架23移動(dòng)的距離更精確、可控。上述實(shí)施例提供的基板承接腔中，腔體24上還可以設(shè)有用于放入多個(gè)基板或用于放置多個(gè)基板的基板架23的第二門33，通過(guò)第二門33放入多個(gè)基板或具有多個(gè)基板的基板架23。將多個(gè)基板或放置多個(gè)基板的基板架23放入基板承接腔中時(shí)，可以將第二門33開(kāi)啟，完畢時(shí)，再將第二門33關(guān)閉，這樣使得基板承接腔可用于刻蝕多批次的基板。上述實(shí)施例提供的基板承接腔中，第一門22與第二門33可以設(shè)置在腔體24的不同側(cè)壁，從而第一門22與第二門33開(kāi)啟或關(guān)閉時(shí)彼此互不干涉。例如，第二門33可以設(shè)置在腔體24上的與第一門22相對(duì)的側(cè)壁上，當(dāng)然，第二門33也可以設(shè)置在腔體24上的與第一門22的位置不同的其他側(cè)壁上。上述實(shí)施例提供的基板承接腔中，如圖4所示，第二門33可以包括與上述基板承接腔連接的第一門扇41和第二門扇42。例如，第一門扇41和第二門扇42可以設(shè)置在同一平面且相對(duì)設(shè)置。當(dāng)?shù)谝徊块T扇41和第二門扇42之間的距離為0時(shí)，第二門33關(guān)閉，當(dāng)?shù)谝婚T扇41和第二門扇42之間距離不為0時(shí)，第二門開(kāi)啟。具體而言，第一門扇41和第二門扇42可以都能上下運(yùn)動(dòng)，當(dāng)?shù)谝婚T扇41向上運(yùn)動(dòng)、第二門扇42向下運(yùn)動(dòng)時(shí)，第一門扇41和第二門扇42之間的距離增大，也就是說(shuō)此時(shí)第二門33的開(kāi)啟程度變大，從而更便于將基板或基板架23放入或拿出基板承接腔。當(dāng)當(dāng)?shù)谝婚T扇41向下運(yùn)動(dòng)、第二門扇42向上運(yùn)動(dòng)時(shí)，第一門扇41和第二門扇42之間的距離變小，當(dāng)二者距離為0時(shí)，此時(shí)第二門33關(guān)閉。當(dāng)然，并不局限于上述情況，也可是第一門扇41和第二門扇42都能左右運(yùn)動(dòng)，總之，第一門扇41和第二門扇42在處于同一平面且相對(duì)設(shè)置，當(dāng)二者之間的距離為0的時(shí)候，能夠?qū)崿F(xiàn)第二門33關(guān)閉，二者之間的距離大于0時(shí)，第二門33開(kāi)啟。第一門扇41和第二門扇42的開(kāi)啟程度可以可調(diào)，那么就可以根據(jù)基板架23的體積來(lái)調(diào)節(jié)第二門33的開(kāi)啟程度，更便于將基板架23通過(guò)第二門33放入或取出，方便操作。上述實(shí)施例提供的基板承接腔中，第二門33還可以包括與基板承接腔連接的第三門扇。其中，第三門扇可以與基板承接腔鉸鏈的門，例如，可以通過(guò)合頁(yè)將第三門扇與基板承接腔鉸鏈連接。但是，第三門扇與基板承接腔的連接方式不局限于鉸鏈連接，也可以是其它的本領(lǐng)域技術(shù)人員 所知的其它連接方式。[0047] 以上所述，僅為本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式
，但本實(shí)用新型的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本實(shí)用新型揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到的變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本實(shí)用新型的保護(hù)范圍應(yīng)以所述權(quán)利要求的保 護(hù)范圍為準(zhǔn)。
權(quán)利要求1.一種基板承接腔，與傳送腔氣密性連接，其特征在于，包括密閉的腔體及位于所述腔體內(nèi)的用于放置多個(gè)基板的基板架，所述腔體上設(shè)有第一門，所述第一門位于所述腔體與所述傳送腔之間。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板承接腔，其特征在于，所述基板架具有多層，每一層放置一塊所述基板，相鄰兩層之間間隔指定距離。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板承接腔，其特征在于，還包括與所述基板架連接的用于驅(qū)動(dòng)所述基板架移動(dòng)的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基板承接腔，其特征在于，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)為伺服電機(jī)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板承接腔，其特征在于，所述腔體上還設(shè)有用于放入多個(gè)所述基板或所述用于放置多個(gè)基板的基板架的第二門。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的基板承接腔，其特征在于，所述第一門與所述第二門設(shè)置在所述腔體的不同側(cè)壁。
7.一種 刻蝕設(shè)備，包括權(quán)利1-6任一項(xiàng)所述的基板承接腔。
專利摘要本實(shí)用新型公開(kāi)了一種基板承接腔及刻蝕設(shè)備，涉及干法刻蝕設(shè)備，為了解決了采用干刻設(shè)備刻蝕基板時(shí)，干刻設(shè)備成本較高，操作步驟繁瑣的問(wèn)題。該基板承接腔與傳送腔氣密性連接，包括密閉的腔體及位于腔體內(nèi)的具有多個(gè)基板的基板架，腔體上設(shè)有可開(kāi)啟或關(guān)閉的第一門，第一門位于腔體與傳送腔之間。
文檔編號(hào)H01L21/67GK203085497SQ201320048578
公開(kāi)日2013年7月24日 申請(qǐng)日期2013年1月29日 優(yōu)先權(quán)日2013年1月29日
發(fā)明者謝海征, 肖紅璽, 吳平, 劉華鋒, 董宜萍, 王志強(qiáng), 蔣會(huì)剛 申請(qǐng)人:北京京東方光電科技有限公司