一種密封圈的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種密封圈，包括多重密封艙室結(jié)構(gòu)和高壓縮率結(jié)構(gòu)相結(jié)合的密封圈，所述的密封圈的上下兩側(cè)面上均設(shè)置多重密封艙室，所述的密封圈的橫截面能適應(yīng)高壓縮率的幾何變形，當(dāng)密封面出現(xiàn)諸多漏點(diǎn)時(shí)，本發(fā)明密封圈仍具有良好密封性能。
【專利說(shuō)明】一種密封圈
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及流體密封【技術(shù)領(lǐng)域】，特別是用于液流電池的密封圈。
【背景技術(shù)】
[0002]密封對(duì)液流電池來(lái)說(shuō)相當(dāng)重要，是保障液流電池系統(tǒng)安全運(yùn)行的基本條件，若系統(tǒng)出現(xiàn)漏液現(xiàn)象或者密封安全系數(shù)低，則會(huì)直接影響系統(tǒng)的使用效率，進(jìn)而造成不必要的經(jīng)濟(jì)損失。傳統(tǒng)技術(shù)設(shè)計(jì)的密封圈，都要求其密封面不能出現(xiàn)漏點(diǎn)，如圖1所示，當(dāng)密封面I出現(xiàn)漏點(diǎn)3，或者密封面5出現(xiàn)漏點(diǎn)4時(shí)，密封圈2就無(wú)法密封。但在實(shí)際生產(chǎn)過(guò)程中，密封面經(jīng)常會(huì)出現(xiàn)一些漏點(diǎn)，特別是液流電池的液流框，因?yàn)橐毫骺蚨际怯霉こ趟芰现瞥傻?，由于塑料薄板在?nèi)應(yīng)力的作用下會(huì)自然翹曲，其塑料薄板的表面會(huì)變得起伏不平，在塑料薄板表面加工密封圈槽時(shí)，其密封圈槽的深度經(jīng)常會(huì)出現(xiàn)深淺不一的情況，在密封圈槽的最深處往往會(huì)形成一個(gè)個(gè)漏點(diǎn)。由于種種原因塑料薄板在成型過(guò)程中會(huì)產(chǎn)生一些凹坑，如果這些凹坑出現(xiàn)在密封面上就形成了漏點(diǎn)。我們?cè)诎徇\(yùn)、儲(chǔ)存、加工塑料薄板過(guò)程中，其塑料薄板的表面很容易被劃傷、碰傷，這些傷痕都有可能成為密封面上的漏點(diǎn)?？傊鹈芊饷姹砻娉霈F(xiàn)漏點(diǎn)的因素很多，這會(huì)讓人防不勝防。如果要人為消除這些漏點(diǎn)，不僅費(fèi)工、費(fèi)料、費(fèi)時(shí)，而且其密封的可靠性仍然不高。因此，傳統(tǒng)設(shè)計(jì)的密封圈已無(wú)法滿足液流電池對(duì)密封可靠性的要求。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]鑒于以上所述現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn)，本發(fā)明的目的在于提供一種密封圈，用于解決現(xiàn)有密封圈所帶來(lái)的缺點(diǎn)和不足，提供一種可防密封面漏點(diǎn)的密封圈。
[0004]為實(shí)現(xiàn)上述目的及其他相關(guān)目的，本發(fā)明采用如下技術(shù)方案，一種密封圈，所述密封圈內(nèi)設(shè)有若干密封艙室結(jié)構(gòu)。
[0005]優(yōu)選地，所述密封艙室結(jié)構(gòu)容納密封圈在20?40%壓縮率的情況下的變形。
[0006]優(yōu)選地，所述密封艙室結(jié)構(gòu)為雙層密封艙室結(jié)構(gòu)。
[0007]優(yōu)選地，所述雙層密封艙室結(jié)構(gòu)之間由H形墻板結(jié)構(gòu)和矩形墻結(jié)構(gòu)交替組成。
[0008]優(yōu)選地，所述每一密封艙室結(jié)構(gòu)的橫截面為圓形、跑道圓、正方形、矩形、三角形、多邊
[0009]形和扇形中的一種。
[0010]優(yōu)選地，所述每層密封艙室結(jié)構(gòu)為雙排艙室。
[0011]優(yōu)選地，所述雙排艙室對(duì)稱設(shè)置或交錯(cuò)設(shè)置。
[0012]本發(fā)明可防密封面漏點(diǎn)的密封圈，其設(shè)置上下兩層，上層與下層都設(shè)置形狀、數(shù)量、大小都相等的密封艙室，密封圈的橫截面的幾何形狀由H型和矩形墻板組成，其密封面由數(shù)條幾何邊呈封閉形狀，并要求密封艙室能夠容納高壓縮率的幾何變形，通過(guò)本發(fā)明，當(dāng)密封面上出現(xiàn)諸多漏點(diǎn)時(shí)，密封圈仍具有良好密封性能?！緦＠綀D】

【附圖說(shuō)明】
[0013]圖1顯示為傳統(tǒng)橡膠密封圈結(jié)構(gòu)示意圖。
[0014]圖2a_2c顯示為本發(fā)明密封圈結(jié)構(gòu)示意圖。
[0015]圖3顯示為本發(fā)明防深度漏點(diǎn)的效果圖。
[0016]圖4顯示為無(wú)限淺漏點(diǎn)示意圖。
[0017]圖5顯示為本發(fā)明在檢漏裝置的安裝圖。
[0018]圖6顯示為檢漏裝置密封面刻有限深漏點(diǎn)的意圖。 [0019]圖7顯示為檢漏裝置密封面刻有無(wú)限淺漏點(diǎn)示意圖。
[0020]圖8顯示為液流框密封圈安裝示意圖。
[0021]圖9a_9c顯示為艙室橫截面為圓形的密封面結(jié)構(gòu)示意圖。
[0022]圖1Oa-1Oc顯示為艙室橫截面為跑道形的密封面結(jié)構(gòu)示意圖。
[0023]圖1la-1lc顯示為艙室橫截面為方形的密封面結(jié)構(gòu)示意圖。
[0024]圖12a_12c顯示為艙室橫截面為矩形的密封面結(jié)構(gòu)示意圖。
[0025]圖13a_13c顯示為艙室橫截面為三角形的密封面結(jié)構(gòu)示意圖。
[0026]圖14a_14b顯示為艙室橫截面為蜂窩狀的密封面結(jié)構(gòu)示意圖。
[0027]元件標(biāo)號(hào)說(shuō)明
[0028]上密封面I 密封圈橫截面 2
[0029]上密封面漏點(diǎn)3 下密封面漏點(diǎn) 4
[0030]下密封面5 H形承力墻板6
[0031]下層密封艙室7 外承力墻板8
[0032]隔層9 內(nèi)承力墻板10
[0033]上密封面11 上層密封艙室 12
[0034]矩形承力墻板13 下密封面14、15
[0035]密封圈橫截面16 上密封面17
[0036]深漏點(diǎn)18 檢漏裝置螺栓孔 19
[0037]無(wú)限數(shù)量淺漏點(diǎn)的密封面20 淺漏點(diǎn)21
[0038]檢漏裝置進(jìn)氣孔22 密封圈23
[0039]深漏點(diǎn)26 密封圈壓痕27
[0040]模擬無(wú)限淺漏點(diǎn)33 液流框密封圈 35
[0041]主流道密封圈36 液流框37
【具體實(shí)施方式】
[0042]以下通過(guò)特定的具體實(shí)例說(shuō)明本發(fā)明的實(shí)施方式，本領(lǐng)域技術(shù)人員可由本說(shuō)明書所揭露的內(nèi)容輕易地了解本發(fā)明的其他優(yōu)點(diǎn)與功效。本發(fā)明還可以通過(guò)另外不同的【具體實(shí)施方式】加以實(shí)施或應(yīng)用，本說(shuō)明書中的各項(xiàng)細(xì)節(jié)也可以基于不同觀點(diǎn)與應(yīng)用，在沒(méi)有背離本發(fā)明的精神下進(jìn)行各種修飾或改變。
[0043]請(qǐng)參閱附圖所示。需要說(shuō)明的是，本實(shí)施例中所提供的圖示僅以示意方式說(shuō)明本發(fā)明的基本構(gòu)想，遂圖式中僅顯示與本發(fā)明中有關(guān)的組件而非按照實(shí)際實(shí)施時(shí)的組件數(shù)目、形狀及尺寸繪制，其實(shí)際實(shí)施時(shí)各組件的型態(tài)、數(shù)量及比例可為一種隨意的改變，且其組件布局型態(tài)也可能更為復(fù)雜。
[0044]一種密封圈，所述密封圈內(nèi)設(shè)有若干密封艙室結(jié)構(gòu)。所述密封艙室結(jié)構(gòu)容納密封圈在20?40%壓縮率的情況下的變形。優(yōu)選地，所述密封艙室結(jié)構(gòu)為雙層密封艙室結(jié)構(gòu)。所述雙層密封艙室結(jié)構(gòu)之間由H形墻板結(jié)構(gòu)和矩形墻結(jié)構(gòu)交替組成。優(yōu)選地，所述每一密封艙室結(jié)構(gòu)的橫截面為圓形、跑道圓、正方形、矩形、三角形、多邊形和扇形中的一種。所述每層密封艙室結(jié)構(gòu)為雙排艙室。所述雙排艙室對(duì)稱設(shè)置或交錯(cuò)設(shè)置。所述每層密封艙室結(jié)構(gòu)為鏤空排列艙室。優(yōu)選地，所述鏤空排列艙室為正六邊形鏤空或者正三角形鏤空。
[0045]如圖2a至圖2c所示的密封圈結(jié)構(gòu)示意圖，本實(shí)施例中，所述密封圈外徑42mm，內(nèi)徑34臟，密封圈橫截面寬度4臟，高度3mm，密封線墻體及隔層厚度1mm，其中隔層9作為上密封面11和下密封面14的彈力加強(qiáng)區(qū)，上層與下層都設(shè)置形狀、大小、數(shù)量都相等的密封艙室，其包括上層密封艙室12和下層密封艙室7。密封艙室的室內(nèi)空間要求足夠大，能夠容納密封圈在20?40%壓縮率的情況下的密封材料變形，密封圈的橫截面的幾何形狀由H型墻板6和矩形隔墻板13組成。即所述密封艙室由H型墻板6、矩形隔墻板13、外承力墻板8和內(nèi)承力墻板10構(gòu)成。所述上密封面11和下密封面14是由一定數(shù)量封閉的幾何圖形排列組合而成。
[0046]圖5顯示為使用本發(fā)明在檢漏裝置的安裝圖，用于密封圈防密封面深漏點(diǎn)的試驗(yàn)。密封圈23設(shè)置于密封面之間，該檢漏裝置中間設(shè)有進(jìn)氣孔22。圖5所示的裝有密封圈的檢漏裝置，其中有密封圈槽的密封面，螺栓緊固孔19，密封圈23，檢漏進(jìn)氣孔22，密封圈外徑42mm,內(nèi)徑34mm,密封圈橫截面:寬度4mm,高度3mm,密封圈槽外徑42mm,內(nèi)徑34mm,密封圈橫截面:寬度4_，高度2.1_，密封圈按30%壓縮率設(shè)定密封圈槽的深度。如圖6所示為檢漏裝置密封面刻有限深漏點(diǎn)的示意圖。密封圈壓痕27內(nèi)外均顯示出深漏點(diǎn)26。，該裝置是人為在密封面上設(shè)置諸多深漏點(diǎn)檢漏裝置，其中預(yù)設(shè)深漏點(diǎn)26,深漏點(diǎn)寬度2mm,深漏點(diǎn)深度為0.5mm,密封圈壓痕位置27,設(shè)置深漏點(diǎn)的密封面。將所述檢漏裝置浸泡在透明水箱內(nèi)的水里進(jìn)行檢漏，測(cè)試氣壓為0.2MPa，靜置3天后仍沒(méi)有發(fā)現(xiàn)有氣泡漏出。如圖7所示檢漏裝置密封面刻有無(wú)限淺漏點(diǎn)示意圖，用于密封圈防密封面淺漏點(diǎn)的試驗(yàn)。該裝置人為在密封面上設(shè)置諸多條模擬無(wú)限淺漏點(diǎn)測(cè)試裝置，其中預(yù)設(shè)模擬無(wú)限淺漏點(diǎn)27，淺漏點(diǎn)深度為0.3_。安裝后的檢漏裝置浸泡在透明水箱進(jìn)行檢漏,測(cè)試氣壓為0.2MPa,靜置3天后檢漏裝置沒(méi)有發(fā)現(xiàn)氣泡漏出。
[0047]如圖8所示液流框密封圈安裝示意圖。用于10千瓦全釩液流電池液流框密封試驗(yàn)。其中液流框密封圈35，主流道密封圈365，液流框37，檢漏氣壓為0.2MPa，靜置3天后仍沒(méi)有發(fā)現(xiàn)有氣泡漏出。
[0048]如圖9a至9c所示的密封艙室正面俯視圖形為圓形的密封面結(jié)構(gòu)示意圖，其中，圖9a顯示為每層密封艙室為對(duì)稱的兩排設(shè)置。圖9b顯示為每層密封艙室為錯(cuò)開(kāi)的兩排設(shè)置。圖9c顯示為每層密封艙室為單排設(shè)置。
[0049]如圖1Oa至IOc所示的密封艙室正面俯視圖形為跑道形的密封面結(jié)構(gòu)示意圖，其中，圖1Oa顯示為每層密封艙室為錯(cuò)開(kāi)的兩排設(shè)置。圖1Ob顯示為每層密封艙室為對(duì)稱的兩排設(shè)置。圖1Oc顯示為每層密封艙室為單排設(shè)置。
[0050]如圖1la至Ilc所示的密封艙室正面俯視圖形為正方形的密封面結(jié)構(gòu)示意圖，其中，圖1la顯示為每層密封艙室為錯(cuò)開(kāi)的兩排設(shè)置。圖1lb顯示為每層密封艙室為對(duì)稱的兩排設(shè)置。圖1lc顯示為每層密封艙室為單排設(shè)置。
[0051]如圖12a至12c所示的密封艙室正面圖是圖形為長(zhǎng)方形的密封面結(jié)構(gòu)示意圖，其中，圖12a顯示為每層密封艙室為錯(cuò)開(kāi)的兩排設(shè)置。圖12b顯示為每層密封艙室為對(duì)稱的兩排設(shè)置。圖12c顯示為每層密封艙室為單排設(shè)置。
[0052]如圖13a至13c所示的密封艙室正面圖是圖形為三角形的密封面結(jié)構(gòu)示意圖，其中，圖13a顯不為每層密封艙室為一正一倒的正三角形組合的兩排設(shè)置。圖13b顯不為中部為正方形，兩側(cè)為對(duì)稱的三角形(頂角對(duì)頂角)設(shè)置的艙室結(jié)構(gòu)。圖13c顯示為單層密封艙室，該單層密封艙室為一正一倒的正三角形組合的兩排設(shè)置。
[0053]如圖14a至14b所示的密封艙室正面俯視圖形為蜂窩狀的密封面結(jié)構(gòu)示意圖，其中，圖14a顯示為每層密封艙室為兩排一樣的蜂窩狀設(shè)置。圖14b顯示為單排蜂窩狀設(shè)置的艙室結(jié)構(gòu)。
[0054]本發(fā)明密封艙室主要功能是解決密封面上出現(xiàn)有限數(shù)量的深漏點(diǎn)的密封問(wèn)題，如圖3所示，這是密封圈防密封面深漏點(diǎn)的分析圖，其中黑色區(qū)域18表示深漏點(diǎn)，當(dāng)密封面出現(xiàn)圖中出現(xiàn)的種種深漏點(diǎn)情況，本發(fā)明密封圈可以對(duì)上述情況進(jìn)行有效的密封。請(qǐng)繼續(xù)參閱附圖3所示的防深度漏點(diǎn)的效果圖。在本實(shí)施例中，上層密封面17和下層密封面15與密封圈之間有深漏點(diǎn)18。從該截面圖中的密封圈縱截面16中可以看出，上下層的密封艙室是的深漏點(diǎn)隔離。
[0055]本發(fā)明可以實(shí)現(xiàn)高壓縮率，能夠解決密封面上出現(xiàn)無(wú)限數(shù)量的淺漏點(diǎn)的密封問(wèn)題，如圖4所示，當(dāng)密封面出現(xiàn)大小不等、形狀各異的無(wú)限量的淺漏點(diǎn)，其中測(cè)漏裝置螺栓孔19，測(cè)漏裝置密封面20，無(wú)限數(shù)量淺漏點(diǎn)21，當(dāng)密封面出現(xiàn)圖中出現(xiàn)的無(wú)情況，本發(fā)明密封圈可以對(duì)上述情況進(jìn)行有效的密封。
[0056]綜上所述，本發(fā)明有效克服了現(xiàn)有技術(shù)中的種種缺點(diǎn)而具高度產(chǎn)業(yè)利用價(jià)值。
[0057]上述實(shí)施例僅例示性說(shuō)明本發(fā)明的原理及其功效，而非用于限制本發(fā)明。任何熟悉此技術(shù)的人士皆可在不違背本發(fā)明的精神及范疇下，對(duì)上述實(shí)施例進(jìn)行修飾或改變。因此，舉凡所屬【技術(shù)領(lǐng)域】中具有通常知識(shí)者在未脫離本發(fā)明所揭示的精神與技術(shù)思想下所完成的一切等效修飾或改變，仍應(yīng)由本發(fā)明的權(quán)利要求所涵蓋。
【權(quán)利要求】
1.一種密封圈，其特征在于，所述密封圈內(nèi)設(shè)有若干密封艙室結(jié)構(gòu)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的密封圈，其特征在于，所述密封艙室結(jié)構(gòu)容納密封圈在20?40%壓縮率的情況下的變形。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的密封圈，其特征在于，所述密封艙室結(jié)構(gòu)為雙層密封艙室結(jié)構(gòu)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的密封圈，其特征在于，所述雙層密封艙室橫截面由H形墻板結(jié)構(gòu)和矩形墻結(jié)構(gòu)交替組成。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的密封圈，其特征在于，所述每一密封艙室結(jié)構(gòu)的正面俯視圖形為圓形、跑道圓、正方形、矩形、三角形、多邊形和扇形中的一種。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的密封圈，其特征在于，所述每層密封艙室結(jié)構(gòu)為雙排艙室。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的密封圈，其特征在于，所述雙排艙室對(duì)稱設(shè)置或交錯(cuò)設(shè)置。
【文檔編號(hào)】H01M2/08GK103682187SQ201310705306
【公開(kāi)日】2014年3月26日 申請(qǐng)日期:2013年12月19日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月19日
【發(fā)明者】楊輝, 汪保國(guó), 李雪梅, 張海峰, 邢新峰 申請(qǐng)人:中國(guó)科學(xué)院上海高等研究院