一種電容電極清洗裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種電容電極清洗裝置，具有底板，所述底板上設(shè)置有用于存儲(chǔ)液體的儲(chǔ)液槽，所述儲(chǔ)液槽前端面設(shè)置有整形塊，側(cè)面設(shè)置有能夠使其內(nèi)部液體循環(huán)的噴頭；所述整形塊高于儲(chǔ)液槽，其左端設(shè)置有支架，支架上設(shè)置有用于驅(qū)動(dòng)連帶的驅(qū)動(dòng)輪；所述整形塊上設(shè)置有壓架；所述整形塊的右側(cè)設(shè)置有導(dǎo)向輪。這種電容電極清洗裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，可以自動(dòng)對(duì)電極進(jìn)行清洗，且電極在清洗過程中不變形，提高了生產(chǎn)效率，降低了生產(chǎn)成本。
【專利說明】—種電容電極清洗裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ] 本發(fā)明涉及電容清洗裝置，尤其涉及一種電容電極清洗裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]在很多電子產(chǎn)品中，電容器都是必不可少的電子元器件，它在電子設(shè)備中充當(dāng)整流器的平滑濾波、電源和退耦、交流信號(hào)的旁路、交直流電路的交流耦合等。
[0003]—般電容均由電極和介質(zhì)塊組成，為了保證電容電極的可靠性，電極在于介質(zhì)組合之前要對(duì)電極的連接部位進(jìn)行清洗。一般的電極清洗主要是人工清洗，效率慢，且容易使電極變形，影響安裝。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是，提供一種能夠自動(dòng)清洗電極的電容電極清洗裝置。
[0005]為了解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明是通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的:一種電容電極清洗裝置，具有底板，所述底板上設(shè)置有用于存儲(chǔ)液體的儲(chǔ)液槽，所述儲(chǔ)液槽前端面設(shè)置有整形塊，側(cè)面設(shè)置有能夠使其內(nèi)部液體循環(huán)的噴頭；所述整形塊高于儲(chǔ)液槽，其左端設(shè)置有支架，支架上設(shè)置有用于驅(qū)動(dòng)連帶的驅(qū)動(dòng)輪。
[0006]優(yōu)選的，所述整形塊上設(shè)置有壓架。
[0007]優(yōu)選的，所述整形塊的右側(cè)設(shè)置有導(dǎo)向輪。
[0008]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益之處是:這種電容電極清洗裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，可以自動(dòng)對(duì)電極進(jìn)行清洗，且電極在清洗過程中不變形，提高了生產(chǎn)效率，降低了生產(chǎn)成本。
[0009]【專利附圖】

【附圖說明】:
下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明進(jìn)一步說明。
[0010]圖1是本發(fā)明一種電容電極清洗裝置結(jié)構(gòu)示意圖。
[0011]圖中:1、底板；2、整形塊；3、導(dǎo)向輪；4、驅(qū)動(dòng)輪；5、支架；6、儲(chǔ)液槽；7、噴頭；8、壓架；9、鏈帶；10、電極。
[0012]【具體實(shí)施方式】:
下面結(jié)合附圖及【具體實(shí)施方式】對(duì)本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)描述:
圖1所示一種電容電極清洗裝置，具有底板1，所述底板I上設(shè)置有用于存儲(chǔ)液體的儲(chǔ)液槽6，所述儲(chǔ)液槽6前端面設(shè)置有整形塊2，整形塊2高于儲(chǔ)液槽6，儲(chǔ)液槽6側(cè)面設(shè)置有能夠使其內(nèi)部液體循環(huán)的噴頭7 ;所述整形塊2上設(shè)置有壓架8，整形塊2左端設(shè)置有支架5，支架5上設(shè)置有用于驅(qū)動(dòng)連帶9的驅(qū)動(dòng)輪4，整形塊2右側(cè)設(shè)置有導(dǎo)向輪3。
[0013]工作時(shí)，串聯(lián)有電極10的連帶9通過驅(qū)動(dòng)輪4驅(qū)動(dòng)，通過整形塊2上的壓架8保持電極10不變形，電極10頭部位于儲(chǔ)液槽6上方，當(dāng)電極10通過儲(chǔ)液槽6時(shí)，通過噴頭7對(duì)電極10頭部進(jìn)行清洗，最后通過導(dǎo)向輪3導(dǎo)出。
[0014]這種電容電極清洗裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，可以自動(dòng)對(duì)電極10進(jìn)行清洗，且電極10在清洗過程中不變形，提高了生產(chǎn)效率，降低了生產(chǎn)成本。
[0015]需要強(qiáng)調(diào)的是:以上僅是本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已，并非對(duì)本發(fā)明作任何形式上的限制，凡是依據(jù)本發(fā)明的技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所作的任何簡(jiǎn)單修改、等同變化與修飾，均仍屬于本發(fā)明技術(shù)方案的范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種電容電極清洗裝置，其特征在于:具有底板(1)，所述底板(I)上設(shè)置有用于存儲(chǔ)液體的儲(chǔ)液槽(6)，所述儲(chǔ)液槽(6)前端面設(shè)置有整形塊(2)，側(cè)面設(shè)置有能夠使其內(nèi)部液體循環(huán)的噴頭(7);所述整形塊(2)高于儲(chǔ)液槽(6)，其左端設(shè)置有支架(5)，支架(5)上設(shè)置有用于驅(qū)動(dòng)連帶(9)的驅(qū)動(dòng)輪(4)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電容電極清洗裝置，其特征在于:所述整形塊(2)上設(shè)置有壓架(8)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電容電極清洗裝置，其特征在于:所述整形塊(2)的右側(cè)設(shè)置有導(dǎo)向輪(3)。
【文檔編號(hào)】H01G13/00GK103441002SQ201310352031
【公開日】2013年12月11日 申請(qǐng)日期:2013年8月14日 優(yōu)先權(quán)日:2013年8月14日
【發(fā)明者】陸全明 申請(qǐng)人:吳江佳藝電子科技有限公司