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一種陣列基板及其平板顯示器的制作方法

文檔序號(hào):6785379閱讀:193來(lái)源:國(guó)知局
專利名稱:一種陣列基板及其平板顯示器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及一種平板顯示器,特別涉及一種陣列基板及平板顯示器。
背景技術(shù)
平板顯示器具有完全平面化、輕、薄、省電等特點(diǎn),符合未來(lái)圖像顯示器發(fā)展的必然趨勢(shì),近年來(lái)得到了飛速發(fā)展。目前主要的平板顯示器包括:液晶顯示器(Liquidcrystaldisplay, LCD)、有機(jī)發(fā)光顯不器(Organiclight-emittingdiodedisplay, 0LED)、場(chǎng)效應(yīng)顯不器(Fieldemissiondisplay, FED)、等離子顯不器(Plasmadisplaypanel, PDP)以及投影顯示技術(shù)(包括CathodeRayTub,陰極射線管投影技術(shù)、Liquidcrystaldisplay,液晶顯示投影技術(shù)、Liquidcrystalon Silicon,娃基液晶反射投影技術(shù)、DigitalLightProcession,數(shù)字光處理投影技術(shù))等。液晶顯示器是眾多平板顯示器件中發(fā)展最快、技術(shù)最成熟、應(yīng)用面最廣。通常,液晶顯示器包括彩膜基板、陣列基板以及填充于所述彩膜基板和陣列基板之間的液晶。陣列基板上通常設(shè)置眾多的薄膜層,通過(guò)對(duì)各薄膜層的刻蝕形成薄膜晶體管、像素電極以及公共電極等。為了將更多外圍電路集成在陣列基板上,還會(huì)在陣列基板上形成一些驅(qū)動(dòng)電路。隨著薄膜晶體管的功能越來(lái)越強(qiáng)大,陣列基板上集成的電路越來(lái)越多,在形成薄膜晶體管和一些主要電路后,陣列基板表面的段差變得非常大。為避免較大的段差導(dǎo)致的各種顯示問(wèn)題,通常,在陣列基板表面會(huì)形成一層平坦層。如圖1所 示,陣列基板100包括一絕緣層101、平坦層102以及一鈍化層103。其中,所述平坦層102形成于所述絕緣層101上,所述鈍化層103形成于所述平坦層102上。通常,平坦層102采用有機(jī)膜材料,而鈍化層103的制作過(guò)程中,多采用高溫工藝,有機(jī)膜材料在經(jīng)過(guò)高溫工藝后,會(huì)揮發(fā)出一些水汽和其他物質(zhì),但是這些揮發(fā)物質(zhì)通常無(wú)法穿透膜質(zhì)致密的鈍化層,從而導(dǎo)致個(gè)別區(qū)域的鈍化層103的表面形成鼓起104(arraybubble),最終導(dǎo)致不良。特別是在顯示區(qū)域外的周邊區(qū)域內(nèi),鈍化層鼓起的現(xiàn)象尤為明顯。另外,由于有機(jī)膜揮發(fā)物質(zhì)存留在鈍化層103和平坦層102之間,使所述鈍化層103和平坦層102之間的粘附力下降,從而導(dǎo)致所述陣列基板100在后續(xù)的剝離信賴性測(cè)試(Peelingtest)中,容易出現(xiàn)鈍化層103被剝落的情形。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型提供一種陣列基板及其液晶顯示器,以解決鈍化層表面鼓起和剝離信賴性差的問(wèn)題,從而實(shí)現(xiàn)降低陣列基板的不良發(fā)生率和提高信賴性品質(zhì)的目的。為解決上述技術(shù)為題,本實(shí)用新型提供一種陣列基板,包括:一基板,所述基板包括顯示區(qū)域和包圍所述顯示區(qū)域的周邊區(qū)域;一形成于所述基板上的平坦層;一形成于所述平坦層上的鈍化層;其中,位于所述周邊區(qū)域內(nèi)的鈍化層上設(shè)置有多個(gè)透氣孔,位于所述周邊區(qū)域內(nèi)的所述平坦層上設(shè)置有多個(gè)通孔??蛇x的,所述陣列基板還包括一形成于所述基板上的絕緣層,所述平坦層形成于所述絕緣層上??蛇x的,所述透氣孔暴露出部分所述平坦層,所述通孔暴露出部分絕緣層,所述鈍化層通過(guò)所述通孔接觸所述絕緣層??蛇x的,所述透氣孔與所述通孔交錯(cuò)設(shè)置??蛇x的,所述透氣孔與所述通孔間隔設(shè)置??蛇x的,所述陣列基板還包括一形成于所述平坦層上的透明電極層,所述鈍化層形成于所述透明電極層上,所述透氣孔暴露出部分所述透明電極層,所述透明電極層上設(shè)置有多個(gè)穿孔,所述穿孔與所述通孔位置對(duì)應(yīng),所述鈍化層通過(guò)所述穿孔和所述通孔接觸所述絕緣層??蛇x的,所述透明電極層是氧化銦錫或者氧化銦鋅??蛇x的,所述鈍化層是氮化硅,所述平坦化層是有機(jī)膜。可選的,所述透氣孔和/或所述通孔為圓形或者方形。相應(yīng)的,本實(shí)用新型還提供一種液晶顯示器,包括所述陣列基板和一與所述陣列基板相對(duì)設(shè)置的彩膜基板。在本實(shí)用新型所提供的陣列基板中,位于所述周邊區(qū)域內(nèi)的鈍化層上設(shè)置有多個(gè)透氣孔,位于所述周邊區(qū)域內(nèi)的所述平坦層上設(shè)置有多個(gè)通孔。因?yàn)殁g化層上設(shè)置了透氣孔,所述透氣孔可以將平坦層暴露出來(lái),如果平坦層在高溫工藝中有物質(zhì)揮發(fā)出來(lái),所述揮發(fā)的物質(zhì)可以經(jīng)由透氣孔發(fā)散出去`,因此可以大大減少因此而產(chǎn)生的鈍化層的鼓起。另外,因?yàn)槠教箤由显O(shè)置了多個(gè)通孔,鈍化層經(jīng)由通孔與平坦層下面的膜層接觸,增大了鈍化層與平坦層的接觸面積,提高了鈍化層與平坦層的粘附性,同時(shí)增加了鈍化層和其他膜層的接觸面積,提高了鈍化層與下面膜層的粘附性,從而提高了陣列基板的剝離信賴性。

圖1為現(xiàn)有技術(shù)中陣列基板的剖面圖;圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例一的陣列基板的俯視圖;圖3為圖2中沿A-A’的剖面圖;圖4為本實(shí)用新型實(shí)施例二的陣列基板的剖面圖。
具體實(shí)施方式
為了使本實(shí)用新型的目的,技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚,
以下結(jié)合附圖來(lái)進(jìn)一步做詳細(xì)說(shuō)明。實(shí)施例一如圖2、圖3所示,本實(shí)施例的陣列基板200包括:基板201、形成于所述基板201上的平坦層202和形成于所述平坦層202上的鈍化層203。其中,所述基板201包括顯示區(qū)域2011和包圍所述顯示區(qū)域2011的周邊區(qū)域2012。具體的,所述鈍化層和平坦化層是透明絕緣材料。優(yōu)選的,所述鈍化層203是氮化硅,所述平坦化202層是有機(jī)膜。其中,位于所述周邊區(qū)域2012內(nèi)的鈍化層203上設(shè)置有多個(gè)透氣孔2031,位于所述周邊區(qū)域2012內(nèi)的所述平坦層202上設(shè)置有多個(gè)通孔2021。在所述鈍化層203上設(shè)置透氣孔2031后,所述透氣孔2031將所述平坦層202的部分表面暴露出來(lái)。如果后續(xù)出現(xiàn)高溫工藝的話,平坦層202因?yàn)楦邷厮a(chǎn)生的揮發(fā)物,可以經(jīng)由所述透氣孔2031散發(fā)出去,避免了揮發(fā)物聚集在平坦層202和鈍化層203之間,產(chǎn)生鼓起的問(wèn)題。所述透氣孔2031與所述通孔2021交錯(cuò)設(shè)置,例如每隔N (N為自然數(shù))個(gè)透氣孔2031設(shè)置一個(gè)通孔2021,或者每隔一個(gè)透氣孔2031設(shè)置M (M為自然數(shù))個(gè)通孔2021。優(yōu)選的,所述透氣孔2031與所述通孔2021間隔設(shè)置,即每隔一個(gè)透氣孔2031設(shè)置一個(gè)通孔2021,如圖2中所示。所述透氣孔2031與所述通孔2021的形狀可以是任意形狀,例如方形(包括長(zhǎng)方形或者正方形)、三角形、圓形、橢圓形、十字形或者其他幾何圖形。優(yōu)選的,所述透氣孔2031和/或所述通孔2021為圓形或者方形,圖中示出的是方形。進(jìn)一步地,結(jié)合圖2和圖3,通常所述陣列基板200還包括形成于基板上的絕緣層204,所述平坦層202形成于所述絕緣層204上,所述鈍化層203形成于所述平坦層202上。所述透氣孔2031暴露出部分所述平坦層202。當(dāng)對(duì)陣列基板200進(jìn)行高溫工藝時(shí),所述平坦層202因?yàn)楦邷厮鶕]發(fā)出來(lái)的物質(zhì)會(huì)經(jīng)由所述透氣孔2031發(fā)散掉,而不會(huì)匯集在平坦層202和鈍化層203之間的某個(gè)地方造成鈍化層203的鼓起。繼續(xù)參考圖2和圖3,所述通孔2021會(huì)使鈍化層203和平坦層202的接觸面從平面變?yōu)樾泵妫龃罅私佑|面積,從而使得鈍化層203和平坦層202的粘附性提高。而且,所述通孔2021暴露出部分絕緣層204,所述鈍化層203通過(guò)所述通孔2021接觸所述絕緣層204,而鈍化層203和絕緣層204同為絕緣無(wú)機(jī)物質(zhì),因此鈍化層203和絕緣層204的粘附性要明顯優(yōu)于鈍化層203和平坦層202的粘附性,從而使得鈍化層203的粘附性進(jìn)一步增強(qiáng)。實(shí)施例二本實(shí)施例與實(shí)施例一的不同之處在于,在所述平坦層和鈍化層之間增加了透明電極層。如圖4所示,通常,所述平坦層202為有機(jī)材料,而有機(jī)材料比較容易因?yàn)橥饨绛h(huán)境而發(fā)生變化,例如高溫或者高濕等。為了保護(hù)所述透氣孔2031所暴露出的那部分平坦層202不受外界環(huán)境影響,可以在所述平坦層202上設(shè)置透明電極層205,所述鈍化層203形成于所述透明電極層205上,所述透氣孔2031孔暴露出部分所述透明電極層205,所述透明電極層205上設(shè)置有多個(gè)穿孔2051,所述穿孔2051與所述通孔2021位置對(duì)應(yīng)(也即它們形成在基板201的同一個(gè)位置上,形成互相匹配的一個(gè)整體),所述鈍化層203通過(guò)所述穿孔2051和所述通孔2021接觸所述絕緣層204。所述透明電極層205是透明的導(dǎo)電材料,優(yōu)選的,所述透明電極層205是氧化銦錫或者氧化銦鋅。因?yàn)檠趸熷a或者氧化銦鋅的膜質(zhì)比較疏松,因此平坦層202的揮發(fā)物質(zhì)仍然可以通過(guò)氧化銦錫或者氧化銦鋅膜層發(fā)散出去,同時(shí)也能夠?qū)ζ教箤?02仍能起到一定的保護(hù)作用。另外,包括所述陣列基板200的平板顯示器也屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。具體的,本實(shí)用新型還提供一種平 板顯示器包括以上任意一種實(shí)施例所述陣列基板200和一與所述陣列基板200相對(duì)設(shè)置的彩膜基板。優(yōu)選的,所述平板顯示器是液晶顯示器,包括以上任意一種實(shí)施例所述陣列基板和一與所述陣列基板相對(duì)設(shè)置的彩膜基板,以及填充于所述陣列基板和彩膜基板中的液晶。由于平板顯示器的其他慣常結(jié)構(gòu)為本領(lǐng)域公知技術(shù),在此不再贅述。綜上所述,在本實(shí)用新型所提供的陣列基板中,因?yàn)殁g化層上設(shè)置了透氣孔,所述透氣孔可以將平坦層暴露出來(lái),因此平坦層的揮發(fā)物質(zhì)可以經(jīng)由所述透氣孔發(fā)散出去,可以大大減少因此而產(chǎn)生的鈍化層的鼓起。另外,因?yàn)槠教箤由显O(shè)置了多個(gè)通孔,鈍化層經(jīng)由所述通孔與平坦層下面的膜層接觸,不僅增大了鈍化層與平坦層的接觸面積,提高了鈍化層與平坦層的粘附性,也同時(shí)增加了鈍化層和其他膜層的接觸面積,進(jìn)一步提高了鈍化層與下面膜層的粘附性,從而提高了陣列基板的剝離信賴性。顯然,本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對(duì)實(shí)用新型進(jìn)行各種改動(dòng)和變型而不脫離本實(shí)用新型的精神和范圍。這樣,倘若本實(shí)用新型的這些修改和變型屬于本實(shí)用新型權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi) ,則本實(shí)用新型也意圖包括這些改動(dòng)和變型在內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種陣列基板,包括: 一基板,所述基板包括顯示區(qū)域和包圍所述顯示區(qū)域的周邊區(qū)域; 一形成于所述基板上的平坦層; 一形成于所述平坦層上的鈍化層; 其特征在于,位于所述周邊區(qū)域內(nèi)的鈍化層上設(shè)置有多個(gè)透氣孔,位于所述周邊區(qū)域內(nèi)的所述平坦層上設(shè)置有多個(gè)通孔。
2.如權(quán)利要求1所述的陣列基板,其特征在于,還包括一形成于所述基板上的絕緣層,所述平坦層形成于所述絕緣層上。
3.如權(quán)利要求2所述的陣列基板,其特征在于,所述透氣孔暴露出部分所述平坦層,所述通孔暴露出部分絕緣層,所述鈍化層通過(guò)所述通孔接觸所述絕緣層。
4.如權(quán)利要求1所述的陣列基板,其特征在于,所述透氣孔與所述通孔交錯(cuò)設(shè)置。
5.如權(quán)利要求4所述的陣列基板,其特征在于,所述透氣孔與所述通孔間隔設(shè)置。
6.如權(quán)利要求2所述的陣列基板,其特征在于,還包括一形成于所述平坦層上的透明電極層,所述鈍化層形成于所述透明電極層上,所述透氣孔暴露出部分所述透明電極層,所述透明電極層上設(shè)置有多個(gè)穿孔,所述穿孔與所述通孔位置對(duì)應(yīng),所述鈍化層通過(guò)所述穿孔和所述通孔接觸所述絕緣層。
7.如權(quán)利要求6所述的陣列基板,其特征在于,所述透明電極層是氧化銦錫或者氧化銦鋅。
8.如權(quán)利要求1所述·的陣列基板,其特征在于,所述鈍化層是氮化硅,所述平坦層是有機(jī)膜。
9.如權(quán)利要求1所述的陣列基板,其特征在于,所述透氣孔和/或所述通孔為圓形或者方形。
10.一種平板顯示器,包括一如權(quán)利要求1至9任意一項(xiàng)所述的陣列基板和一與所述陣列基板相對(duì)設(shè)置的彩膜基板。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種陣列基板及其平板顯示器。所述陣列基板包括一基板,所述基板包括顯示區(qū)域和包圍所述顯示區(qū)域的周邊區(qū)域;一形成于所述基板上的平坦層;一形成于所述平坦層上的鈍化層;其中,位于所述周邊區(qū)域內(nèi)的鈍化層上設(shè)置有多個(gè)透氣孔,位于所述周邊區(qū)域內(nèi)的所述平坦層上設(shè)置有多個(gè)通孔。所述平板顯示器,包括所述的陣列基板和一與所述陣列基板相對(duì)設(shè)置的彩膜基板。采用本實(shí)用新型的陣列基板,可以有效減少鈍化層的鼓起,同時(shí)還可以提高鈍化層與下面膜層的粘附性,從而提高了陣列基板的剝離信賴性。
文檔編號(hào)H01L27/12GK203134796SQ201220728769
公開日2013年8月14日 申請(qǐng)日期2012年12月26日 優(yōu)先權(quán)日2012年12月26日
發(fā)明者彥文晶, 李俊誼 申請(qǐng)人:廈門天馬微電子有限公司
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