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一種腔外倍頻摻釹釔鋁石榴石激光裝置的制作方法

文檔序號:7186532閱讀:287來源:國知局
專利名稱:一種腔外倍頻摻釹釔鋁石榴石激光裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及激光裝置領(lǐng)域,具體為ー種腔外倍頻摻釹釔鋁石榴石激光裝置。
背景技術(shù)
倍頻摻釹釔鋁石榴石激光治療機(jī)在皮膚科和美容祛斑領(lǐng)域應(yīng)用廣泛。現(xiàn)有技術(shù)中倍頻摻釹釔鋁石榴石激光治療機(jī)的1064nm和532nm波長切換多是通過KTP晶體主動(dòng)運(yùn)動(dòng)進(jìn)光路而完成的,但KTP切換過程中存在不穩(wěn)定,光程差大,需要水冷的問題。
實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型目的是提供一種腔外倍頻摻釹釔鋁石榴石激光裝置,以解決現(xiàn)有技術(shù)倍頻摻釹釔鋁石榴石激光治療機(jī)采用KTP晶體主動(dòng)運(yùn)動(dòng)實(shí)現(xiàn)波長切換存在的不穩(wěn)定,光程差大,需要水冷的問題。為了達(dá)到上述目的,本實(shí)用新型所采用的技術(shù)方案為一種腔外倍頻摻釹釔鋁石榴石激光裝置,包括主光路,以及設(shè)置在主光路外的倍頻光路,其特征在于所述主光路包括Nd = YAG晶體,NdiYAG晶體出射光光路前方依次設(shè)置有由電機(jī)驅(qū)動(dòng)的旋轉(zhuǎn)鏡、第一高通濾波片、第一全反鏡,所述旋轉(zhuǎn)鏡具有光透過部分和光反射部分,主光路中還設(shè)置有七關(guān)節(jié)臂,七關(guān)節(jié)臂入口朝向第一全反鏡,所述倍頻光路包括第ニ全反鏡,以及設(shè)置在第二全反鏡光路前方的KTP晶體、第二高通濾波片、激光吸收池,倍頻光路中第二全反鏡反射方向朝向主光路中旋轉(zhuǎn)鏡且第二全反鏡與旋轉(zhuǎn)鏡光路配合,倍頻光路中第二高通濾波片反射面與主光路中第一高通濾波片反射面相對且第二高通濾波片與第一高通濾波片光路配合;未倍頻時(shí),電機(jī)驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)鏡轉(zhuǎn)動(dòng)至旋轉(zhuǎn)鏡的光透過部分處于NdiYAG晶體的出射光光路上,NdiYAG晶體的出射光依次經(jīng)過旋轉(zhuǎn)鏡通孔部分、第一高通濾波片后入射至第一全反鏡,被第一全反鏡反射至七關(guān)節(jié)臂中;倍頻時(shí),電機(jī)驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)鏡轉(zhuǎn)動(dòng)至旋轉(zhuǎn)鏡的光反射部分處于Nd =YAG晶體的出射光光路上,Nd =YAG晶體的出射光被旋轉(zhuǎn)鏡的光反射部分反射至倍頻光路的第二全反鏡,再被第二全反鏡反射后經(jīng)過倍頻光路中KTP晶體后入射至第二高通濾波片,一部分光透射過第二高通濾波片后入射至激光吸收池,另一部分光被第二高通濾波片反射至主光路中的第一高通濾波片,再依次被第一高通濾波片、第一全反鏡反射至七關(guān)節(jié)臂中。所述的ー種腔外倍頻摻釹釔鋁石榴石激光裝置,其特征在于主光路、倍頻光路分別設(shè)置。所述的ー種腔外倍頻摻釹釔鋁石榴石激光裝置,其特征在于Nd:YAG晶體后部配置有后腔鏡,Nd:YAG晶體前部配置有前腔鏡。所述的ー種腔外倍頻摻釹釔鋁石榴石激光裝置,其特征在于旋轉(zhuǎn)鏡包括金屬鏡框,金屬鏡框中對稱設(shè)置有光通孔,其中一個(gè)光通孔中設(shè)置有全反鏡,旋轉(zhuǎn)鏡中全反鏡為光反射部分,未安裝有全反鏡的光通孔為光透過部分。所述的ー種腔外倍頻摻釹釔鋁石榴石激光裝置,其特征在干高通濾波片,沿光路45°放置,532nm激光全反射,1064nm激光全透射。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡單、穩(wěn)定可靠、易于制造和使用。采用電機(jī)和若干光學(xué)鏡片實(shí)現(xiàn)摻釹釔鋁石榴石(Rd:YAG)激光的腔外倍頻切換,KTP晶體可以始終保持靜止?fàn)顟B(tài)。本實(shí)用新型消除了光點(diǎn)的不一致問題,減小光程差,機(jī)械結(jié)構(gòu)簡單,穩(wěn)定性好,KTP保持靜止,避免了 KTP切換過程的不穩(wěn)定問題,在大能量條件下,KTP晶體風(fēng)冷即可,不必水冷。本實(shí)用新型具有光程差小、穩(wěn)定性好、KTP熱 效應(yīng)小的優(yōu)點(diǎn)。

圖I為未倍頻時(shí)本實(shí)用新型的光路原理圖。圖2為倍頻時(shí)本實(shí)用新型的光路原理圖。圖3為本實(shí)用新型旋轉(zhuǎn)鏡結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
如圖I、圖2所示。一種腔外倍頻摻釹釔鋁石榴石激光裝置,包括主光路,以及設(shè)置在主光路外的倍頻光路,主光路包括Nd =YAG晶體2,Nd =YAG晶體2出射光光路前方依次設(shè)置有由伺服電機(jī)5驅(qū)動(dòng)的旋轉(zhuǎn)鏡4、532nm及1064nm全反鏡11,旋轉(zhuǎn)鏡4具有光透過部分和光反射部分,主光路中還設(shè)置有七關(guān)節(jié)臂12,七關(guān)節(jié)臂12的入口朝向全反鏡11,倍頻光路包括45° 1064nm全反鏡6,以及設(shè)置在45° 1064nm全反鏡6光路前方的KTP晶體7、高通濾波片8、激光吸收池9,倍頻光路中45° 1064nm全反鏡6反射面朝向主光路中旋轉(zhuǎn)鏡4且45° 1064nm全反鏡6與旋轉(zhuǎn)鏡4光路配合,倍頻光路中高通濾波片8反射面與主光路中高通濾波片10反射面相對且高通濾波片8與高通濾波片10光路配合;未倍頻時(shí),伺服電機(jī)5驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)鏡4轉(zhuǎn)動(dòng)至旋轉(zhuǎn)鏡4的通孔部分處于Nd = YAG晶體2的出射光光路上,Nd YAG晶體2的出射光依次經(jīng)過旋轉(zhuǎn)鏡4通孔部分、高通濾波片10后入射11,被45° 532nm及1064nm全反鏡11反射至七關(guān)節(jié)臂12中;倍頻時(shí),伺服電機(jī)5驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)鏡4轉(zhuǎn)動(dòng)至旋轉(zhuǎn)鏡4的光反射部分處于Nd = YAG晶體2的出射光光路上,Nd: YAG晶體2的出射光被旋轉(zhuǎn)鏡4的光反射部分反射至倍頻光路的45° 1064nm全反鏡6,再被45° 1064nm全反鏡6反射后經(jīng)過倍頻光路中KTP晶體7后入射至高通濾波片8,1064nm光透射過高通濾波片8后入射至激光吸收池9,532nm光被高通濾波片8反射至主光路中的高通濾波片10,再依次被高通濾波片10、45° 532nm及1064nm全反鏡11反射至七關(guān)節(jié)臂12中。主光路、倍頻光路分別設(shè)置。Nd:YAG晶體2后部配置有后腔鏡I, Nd:YAG晶體2前部配置有前腔鏡3。如圖3所不。旋轉(zhuǎn)鏡4包括金屬鏡框13,金屬鏡框13中對稱設(shè)置有光通孔14,其中一個(gè)光通孔中設(shè)置有45° 532nm全反鏡15。旋轉(zhuǎn)鏡4中45° 532nm全反鏡15為光反射部分,未安裝有45° 532nm全反鏡15的光通孔14為光透過部分。未倍頻時(shí),Nd =YAG晶體2輸出1064nm激光的工作狀態(tài),此時(shí)光束從旋轉(zhuǎn)鏡4中的通孔14穿過,從45°高通濾波片10中直接透過。倍頻時(shí),Nd:YAG晶體2輸出532nm激光的工作狀態(tài),此時(shí)光束被旋轉(zhuǎn)鏡4的5° 532nm全反鏡15反射到倍頻光路,經(jīng)KTP晶體7倍頻,經(jīng)45°高通濾波片8和45°高通濾波片10濾光后輸出532nm激光。
權(quán)利要求1.一種腔外倍頻摻釹釔鋁石榴石激光裝置,包括主光路,以及設(shè)置在主光路外的倍頻光路,其特征在于所述主光路包括Nd = YAG晶體,NdiYAG晶體出射光光路前方依次設(shè)置有由電機(jī)驅(qū)動(dòng)的旋轉(zhuǎn)鏡、第一高通濾波片、第一全反鏡,所述旋轉(zhuǎn)鏡由全反鏡片和通孔兩部分組成,第一全反鏡后設(shè)置七關(guān)節(jié)臂,所述倍頻光路包括第二全反鏡,以及設(shè)置在第二全反鏡光路前方的KTP晶體、第二高通濾波片、激光吸收池,倍頻光路中第二全反鏡入射方向朝向主光路中旋轉(zhuǎn)鏡且第二全反鏡與旋轉(zhuǎn)鏡光路配合,倍頻光路中第二高通濾波片反射面與主光路中第一高通濾波片反射面相對且第二高通濾波片與第一高通濾波片光路配合;未倍頻時(shí),電機(jī)驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)鏡轉(zhuǎn)動(dòng)至通孔部分處于Nd :YAG晶體的出射光光路上,Nd :YAG晶體的出射光依次經(jīng)過旋轉(zhuǎn)鏡通孔部分、第一高通濾波片后入射至第一全反鏡,被第一全反鏡反射至七關(guān)節(jié)臂中;倍頻時(shí),電機(jī)驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)鏡轉(zhuǎn)動(dòng)至旋轉(zhuǎn)鏡的反射鏡部分處于Nd =YAG晶體的出射光光路上,Nd =YAG晶體的出射光被旋轉(zhuǎn)鏡的反射鏡反射至倍頻光路的第二全反鏡,再被第二全反鏡反射后經(jīng)過倍頻光路中KTP晶體后入射至第二高通濾波片,1064nm激光透射過第二高通濾波片后入射至激光吸收池,532nm激光被第二高通濾波片反射至主光路中的第一高通濾波片,再依次被第一高通濾波片、第一全反鏡反射至七關(guān)節(jié)臂中。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的一種腔外倍頻摻釹釔鋁石榴石激光裝置,其特征在于主光路、倍頻光路分別設(shè)置。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的一種腔外倍頻摻釹釔鋁石榴石激光裝置,其特征在于NdYAG晶體后部配置有后腔鏡,Nd YAG晶體前部配置有前腔鏡。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的一種腔外倍頻摻釹釔鋁石榴石激光裝置,其特征在于:旋轉(zhuǎn)鏡包括金屬鏡框,金屬鏡框中對稱設(shè)置有通孔,其中一個(gè)通孔中設(shè)置有全反鏡。
5.根據(jù)權(quán)利要求I所述的一種腔外倍頻摻釹釔鋁石榴石激光裝置,其特征在于高通濾波片,沿光路45°放置,532nm激光全反射,1064nm激光全透射。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種腔外倍頻摻釹釔鋁石榴石激光裝置,采用電機(jī)和若干光學(xué)鏡片實(shí)現(xiàn)摻釹釔鋁石榴石(Rd:YAG)激光的腔外倍頻切換。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡單、穩(wěn)定可靠、易于制造和使用,是一種光程差小、穩(wěn)定性好、KTP熱效應(yīng)小的腔外倍頻摻釹釔鋁石榴石激光裝置。
文檔編號H01S3/10GK202373841SQ201120495078
公開日2012年8月8日 申請日期2011年12月2日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月2日
發(fā)明者楊明智, 汪洪源, 王和平, 程庭清, 鄧國輝, 黃恒 申請人:合肥安恒光電有限公司
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