專利名稱：柔性顯示器的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
該文件涉及柔性顯示器的制造方法，更具體地說，涉及承載基板能夠被重復利用的柔性顯示器的制造方法。
背景技術(shù)：
本申請要求2011年6月28日提交的韓國專利申請No. 10-2011-0062820的優(yōu)先權(quán)，此處通過引入的方式將其并入。現(xiàn)今，隨著多媒體的發(fā)展，顯示裝置獲得了更大的重要性。同時，各種平板顯示器(如，IXD (液晶顯示器)、TOP (等離子顯示面板)、FED (場發(fā)射顯示器)、OLED (有機發(fā)光二極管顯示裝置)、EPD (電泳顯示器)等)正在投入實際使用。 目前，已經(jīng)開發(fā)了這樣一種柔性顯示器，其由柔性材料(如塑料等)而不是普通的非柔性玻璃基板制成，使得即使當如紙一樣彎曲時，也可以保持顯示性能。但是，柔性顯示器的基板很容易彎曲，以至于在制造過程中基板應當被支撐在如承載基板的硬基板上。圖I是示出了常規(guī)柔性顯示器的制造方法的順序步驟的流程圖。參照圖1，為了制造常規(guī)柔性顯示器，在承載基板上形成犧牲層，接著在犧牲層上形成柔性基板(SlO)。在柔性基板上形成TFT陣列(S20)，將顯示裝置附接到TFT陣列，接著將柔性基板劃線成多個盒單元(cell unit) (S30) 0然后，對由柔性基板和顯示裝置組成的盒單元柔性顯示器進行密封(S40)，接著將承載基板與柔性基板分離(S50)。由此，完成柔性顯示器的制造。但是，在常規(guī)柔性顯示器中，由于在承載基板和柔性基板彼此附接的狀態(tài)下，執(zhí)行劃線處理，所以承載基板一旦使用過，就應當丟棄。因此，由于承載基板是不可重復利用的，所以存在的問題在于成本增加。

發(fā)明內(nèi)容
該文件的一個方面是提供一種可以簡化制造過程并且降低制造費用的柔性顯示器的制造方法。根據(jù)本發(fā)明的一個示例性實施方式的柔性顯示器的制造方法可以包括以下步驟在承載基板上形成犧牲層；在所述犧牲層上形成柔性基板；在所述柔性基板上形成TFT陣列；對所述犧牲層進行蝕刻，以將所述承載基板與所述柔性基板分離；將所述柔性基板附接到粘著輥；以及將已經(jīng)附接到所述粘著輥的所述柔性基板附接到背基板。根據(jù)本發(fā)明的另一個示例性實施方式的柔性顯示器的制造方法可以包括以下步驟在承載基板上形成犧牲層；在所述犧牲層上形成緩沖層；在所述緩沖層上形成TFT陣列；對所述犧牲層進行蝕刻，以使所述承載基板與上面形成有所述TFT陣列的所述緩沖層分離；將上面形成有所述TFT陣列的所述緩沖層附接到粘著輥；以及將上面形成有所述TFT陣列并且已經(jīng)附接到所述粘著輥的所述緩沖層附接到背基板。


附圖被包括進來以提供對本發(fā)明的進一步理解，其被并入且構(gòu)成本說明書的一部分，附圖示出了本發(fā)明的實施方式，并與說明書一起用于解釋本發(fā)明的原理。圖I是示出了常規(guī)柔性顯示器的制造方法的順序步驟的流程圖；
圖2是示出了根據(jù)本發(fā)明的第一實施方式的柔性顯示器的制造方法的順序步驟的流程圖；圖3a至圖3f是示出了根據(jù)本發(fā)明的第一實施方式的柔性顯示器的制造方法的順序步驟的圖；圖4是示出了 TFT陣列和電泳膜的圖；圖5是示出了根據(jù)本發(fā)明的第二實施方式的柔性顯示器的制造方法的順序步驟的流程圖；以及圖6a至圖6f是示出了根據(jù)本發(fā)明的第二實施方式的柔性顯示器的制造方法的順序步驟的圖。
具體實施例方式現(xiàn)在將詳細描述本發(fā)明的實施方式，其示例在附圖中例示。圖2是示出了根據(jù)本發(fā)明的第一實施方式的柔性顯示器的制造方法的順序步驟的流程圖。參照圖2，根據(jù)本發(fā)明的第一實施方式的柔性顯示器的制造方法包括在承載基板上形成犧牲層的處理(S100)，形成柔性基板的處理(SllO)，形成TFT陣列的處理(S120)，分離柔性基板的處理(S130)，將柔性基板附接到粘著輥的處理(S140)，將柔性基板附接到背基板的處理(S150)，劃線和密封處理(S160)，以及附接C0G/FPC的處理(S170)。更具體地，在承載基板上形成犧牲層的處理(S100)是在硬并且耐高溫的承載基板(如，玻璃)上形成犧牲層的處理。形成柔性基板的處理(SllO)是通過在犧牲層的整個表面上涂布聚酰亞胺來形成柔性基板的處理，而形成TFT陣列的處理(S120)是在柔性基板上形成TFT陣列的處理。形成顯示裝置的處理(S125)是在TFT陣列上形成顯示裝置的處理，該處理可以在形成TFT陣列的處理之后或在劃線和密封處理之前執(zhí)行。并且，分離柔性基板的處理(S130)是將承載基板與柔性基板分離的處理，而將柔性基板附接到粘著輥的處理(S140)是將分離后的柔性基板繞著粘著輥卷繞，以附接到該粘著輥的處理。將柔性基板附接到背基板的處理(S150)是通過滾動粘著輥將已經(jīng)附接到粘著輥的柔性基板附接到背基板的處理，而劃線和密封處理(S160)是將柔性基板切割成盒單元并且密封該盒單元的處理。最后，附接C0G/FPC的處理(S170)的處理是附接COG/FPC以由此完成柔性顯示器的制造的處理。圖3a至圖3f是示出了根據(jù)本發(fā)明的第一實施方式的柔性顯示器的制造方法的順序步驟的圖，而圖4是示出了 TFT陣列和電泳膜的圖。參照圖3a，在由玻璃制成的承載基板210上形成無機絕緣膜215。由氮化硅制成的無機絕緣膜215起到提高與后續(xù)步驟中形成的犧牲層的粘著性。并且，在無機絕緣膜215上沉積非晶硅，以形成犧牲層220。然后，在犧牲層220的整個表面上旋轉(zhuǎn)涂布作為聚合物材料的聚酰亞胺。接著，對所涂布的聚酰亞胺進行硬化，以形成柔性基板230。其后，在柔性基板230上形成緩沖層235。緩沖層235起到提高與由聚合物材料制成的柔性基板230的接合性的作用，并且還起到防止當聚合物材料暴露于高溫時可能出現(xiàn)的有機氣體或有機微粒的排放。然后，參照圖3b，在緩沖層235上形成TFT陣列300。將參照示出了 TFT陣列300的圖4更詳細地進行描述。在緩沖層235上層疊金屬，以形成柵極315，并且在柵極315上層疊硅的氧化物或硅的氮化物，以形成柵絕緣膜320，用于隔離柵極315。接著，在柵絕緣膜320上提供非晶硅或含有已結(jié)晶非晶硅的多晶硅，并且對其進行構(gòu)圖，以由此形成與柵極315相對應的半導體層325。并且，歐姆接觸層330形成在半導體層325的任意一側(cè)上，并且低電阻金屬堆疊在歐姆接觸層330上并且對該低電阻金屬層進行構(gòu)圖，以由此形成連接至歐姆接觸層330的源極335a和漏極335b。由此，完成TFT的制造。此后，設(shè)置保護TFT的平坦化膜340，并且設(shè)置第一電極345，該第一電極345經(jīng)由 平坦化膜340的接觸孔連接至漏極335b，由此獲得TFT陣列300。接著，參照圖3c的(a)，將承載基板210與上面形成有TFT陣列300的柔性基板230分離。這里，當激光照射到承載基板210和柔性基板230之間的犧牲層220時，犧牲層220生成氫氣，這使柔性基板230與承載基板210分離。當將承載基板210與柔性基板230分離時，使粘著輥400與柔性基板230接觸，并且在其上滾動。結(jié)果，如圖3c中(b)所示，柔性基板230繞著粘著輥400卷繞，以附接到粘著輥400。這里，粘著輥400具有涂布在上面的粘合劑410，如聚二甲基硅氧烷，使得柔性基板230可以附接到粘著輥400。接著，參照圖3c的(C)和(d)，涂布有粘合劑的背基板430放置在粘著輥400下方，并且使粘著輥400與背基板430接觸，并且在其上滾動，使得柔性基板230附接到背基板430。因此，柔性基板230與承載基板210分離，并且附接到背基板430，而承載基板210將在制造柔性基板的處理中被再次使用。接著，參照圖3d，在TFT陣列300上形成顯示裝置350。本發(fā)明的示例性顯示裝置350可以包括OLED (有機發(fā)光二極管顯示裝置)、IXD (液晶顯示器)、EPD (電泳顯示器)、F1DP(等離子體顯示面板)等。將EF1D作為該示例性實施方式中的示例。更具體地，參照圖4，在TFT陣列300上形成鈍化膜345，并且作為電泳顯示裝置的電泳膜350附接到鈍化膜345。電泳膜350由含有帶電染料顆粒的囊361，以及位于囊361上/下的上保護層363和下保護層362組成。囊361包含與正電壓反應的黑染料顆粒361a、與負電壓反應的白染料顆粒361b以及溶劑361c。上保護層363和下保護層362起到在保護球形的囊361的同時防止囊361移動。這些上保護層363和下保護層362由塑料或具有彈性的導電材料制成。并且，上面形成有第二電極370的保護膜380設(shè)置在電泳膜350上。其后，參照圖3e，利用刀或激光刀將附接有電泳膜350的柔性顯示器460劃成多個盒單元。并且，為了進行密封，將密封劑450涂布在各盒單元的柔性顯示器460的周邊。然后，參照圖3f，C0G/FPC470附接到柔性顯示器460。由此，完成根據(jù)本發(fā)明的第一實施方式的柔性顯示器460的制造。如上所述，根據(jù)本發(fā)明的第一實施方式的柔性顯示器的制造方法具有的優(yōu)點在于由于承載基板在劃線處理之前與柔性基板分離，所以可以重復利用承載基板，因此可以降低制造費用。此外，該方法具有的優(yōu)點在于由于利用粘著輥以簡單方式將柔性基板附接到背基板，所以可以使制造處理簡化，這導致生產(chǎn)率高。同時，與根據(jù)本發(fā)明的上述第一實施方式不同，在沒有形成柔性基板的處理的情況下，可以制造柔性顯示器。圖5是示出了根據(jù)本發(fā)明的第二實施方式的柔性顯示器的制造方法的順序步驟的流程圖。根據(jù)本發(fā)明的第二實施方式的柔性顯示器的制造方法包括在承載基板上形成犧牲層的處理(S500);形成緩沖層的處理(S510);形成TFT陣列的處理(S520);分離緩沖層的處理(S530) ^fTFT陣列附接至粘著輥的處理(S540);將TFT陣列附接至背基板的處理(S550);劃線和密封處理(S560)以及附接C0G/FPC的處理(S570)。更具體地，在承載基板上形成犧牲層的處理(S500)是在硬并且耐高溫的承載基 板(如，玻璃)上形成犧牲層的處理。形成緩沖層的處理(S510)是利用硅的氧化物或硅的氮化物在犧牲層上形成緩沖層的處理，而形成TFT陣列的處理(S520)是在緩沖層上形成TFT陣列的處理。形成顯示裝置的處理(S525)是在TFT陣列上形成顯示裝置的處理，該處理可以在形成TFT陣列的處理之后或者劃線和密封處理之前執(zhí)行。并且，分離緩沖層的處理(S530)是將承載基板與緩沖層分離的處理，而將TFT陣列附接到粘著輥的處理(S540)是將上面形成有TFT陣列的緩沖層繞著粘著輥卷繞，以附接到粘著輥。將TFT陣列附接到背基板的處理(S550)是通過滾動粘著輥將緩沖層附接到背基板的處理，而劃線和密封處理(S560)是將柔性基板切成多個盒單元并且對該盒單元進行密封的處理。最后，附接C0G/FPC的處理(S570)是附接C0G/FPC的處理，以由此完成柔性顯示器的制造。圖6a至圖6f是示出了根據(jù)本發(fā)明的第二實施方式的柔性顯示器的制造方法的順序步驟的圖。將簡單描述與上述第一實施方式的處理相同的處理。參照圖6a，在由玻璃制成的承載基板610上形成無機絕緣膜615，并且在無機絕緣膜615上沉積非晶硅，以形成犧牲層620。此后，在犧牲層620上形成緩沖層635。緩沖層635起到當與承載基板610分離時支撐形成在上面的TFT陣列的作用。接著，參照圖6b，在緩沖層635上形成TFT陣列700。TFT陣列700與第一實施方式中描述的相同，因此省略其描述。然后，參照圖6c中(a)，將上面形成有TFT陣列700的緩沖層635與承載基板610分離。這里，當激光照射到承載基板610和緩沖層635之間的犧牲層620時，犧牲層620生成氫氣，這將緩沖層635與承載基板610分離。當承載基板610與緩沖層635分離時，使粘著輥800與上面形成有TFT陣列700的緩沖層635接觸，并且在緩沖層635上滾動。結(jié)果，如圖6c的(b)所示，緩沖層635繞著粘著輥800卷繞，以附接到粘著輥800。接著，參照圖6c的(C)和(d)，涂布有粘合劑的背基板830放置在粘著輥800下方，并且使粘著輥800與背基板830接觸，并且在背基板830上滾動，使得緩沖層635附接到背基板830。因此，緩沖層635與承載基板610分離，并且附接到背基板630，而承載基板610將在制造柔性基板的處理中被再次使用。然后，參照圖6d，在TFT陣列700上形成顯示裝置750。如在第一實施方式中，將作為電泳顯示裝置的電泳膜作為本發(fā)明的顯示裝置750的示例。其后，參照圖6e，利用刀或激光刀將附接有電泳膜750的柔性顯示器860劃為多個盒單元。并且，為了密封，在各盒單元的柔性顯示器860的周邊涂布密封劑850。接著，參照圖6f，C0G/FPC870附接到柔性顯示器860。由此，完成根據(jù)本發(fā)明的第二實施方式的柔性顯示器860的制造。如上所述，根據(jù)本發(fā)明的第二實施方式的柔性顯示器的制造方法具有的優(yōu)點在于由于承載基板在劃線處理之前與上面形成有TFT陣列的緩沖層分離，所以可以重復利用承載基板，因此可以降低制造費用。此外，該方法具有的優(yōu)點在于由于利用粘著輥以簡單方式將上面形成有TFT陣列的緩沖層附接到背基板，所以可以使制造處理簡化，這導致生產(chǎn)率高。而且，本方法具有的優(yōu)點在于通過省略制造由聚酰亞胺制成的柔性基板，可以降低制造費用。
前述實施方式和優(yōu)點僅僅是示例性的，并不是要解釋為限制本發(fā)明。本教導可以容易地應用于其他類型的裝置。對前述實施方式的描述的目的是說明性的，而不是限制權(quán)利要求的范圍。許多替代、修改和變型對于本領(lǐng)域的技術(shù)人員將是明顯的。在權(quán)利要求書中，裝置加功能語句旨在覆蓋這里描述的執(zhí)行所記載的功能的結(jié)構(gòu)，不僅包括結(jié)構(gòu)等同物，也包括等同的結(jié)構(gòu)。而且，除非在權(quán)利要求的限定中明確記載了術(shù)語“單元(means)”，否則不應以35USC 112(6)來解釋此限定。
權(quán)利要求
1.一種制造柔性顯示器的方法，該方法包括以下步驟 在承載基板上形成犧牲層； 在所述犧牲層上形成柔性基板； 在所述柔性基板上形成TFT陣列； 對所述犧牲層進行蝕刻，使所述柔性基板與所述承載基板分離； 將所述柔性基板附接到粘著輥；以及 將已附接到所述粘著輥的所述柔性基板附接到背基板。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的方法，該方法還包括以下步驟 在使所述柔性基板與所述承載基板分離之前，或者在將所述柔性基板附接到所述背基板之后，在所述柔性基板上形成顯示裝置。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，該方法還包括以下步驟 在形成所述顯示裝置之后，對所附接的柔性基板進行劃線并密封。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中，所述顯示裝置是從由以下各項構(gòu)成的組中選擇的任意ー種有機發(fā)光二極管顯示裝置OLED、液晶顯示器LCD、電泳顯示器EH)和等離子體顯示面板rop。
5.根據(jù)權(quán)利要求I所述的方法，其中，通過激光照射對所述犧牲層進行蝕刻。
6.根據(jù)權(quán)利要求I所述的方法，其中，所述粘著輥是涂布有粘合劑的輥。
7.一種制造柔性顯示器的方法，該方法包括以下步驟 在承載基板上形成犧牲層； 在所述犧牲層上形成緩沖層； 在所述緩沖層上形成TFT陣列； 對所述犧牲層進行蝕刻，以使上面形成有所述TFT陣列的所述緩沖層與所述承載基板分離； 將上面形成有所述TFT陣列的所述緩沖層附接到粘著輥；以及 將上面形成有所述TFT陣列并且已附接到所述粘著輥的所述緩沖層附接到背基板。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，該方法還包括以下步驟 在使上面形成有所述TFT陣列的所述緩沖層與所述承載基板分離之前，或者在將上面形成所述TFT陣列的所述緩沖層附接到所述背基板之后，在所述背基板上形成顯示裝置。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，該方法還包括以下步驟 在形成所述顯示裝置之后，對所附接的背基板進行劃線并密封。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其中，通過激光照射對所述犧牲層進行蝕刻。
11.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其中，所述粘著輥是涂布有粘合劑的輥。
12.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其中，所述背基板是柔性基板。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種可以使制造處理簡化并且降低制造費用的柔性顯示器的制造方法。根據(jù)本發(fā)明的一個示例性實施方式的一種制造柔性顯示器的方法可以包括以下步驟在承載基板上形成犧牲層；在所述犧牲層上形成柔性基板；在所述柔性基板上形成TFT陣列；對所述犧牲層進行蝕刻，以使所述柔性基板與所述承載基板分離；將所述柔性基板附接到粘著輥；以及將已附接到所述粘著輥的所述柔性基板附接到背基板。
文檔編號H01L21/77GK102856252SQ201110427810
公開日2013年1月2日 申請日期2011年12月19日 優(yōu)先權(quán)日2011年6月28日
發(fā)明者宋泰俊, 柳洵城 申請人:樂金顯示有限公司