專利名稱：用于陶瓷薄膜生產(chǎn)的噴槍墊片的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及陶瓷元件的生產(chǎn)領(lǐng)域，特別是指用于陶瓷薄膜生產(chǎn)的噴槍墊片。
背景技術(shù)：
在陶瓷元件如陶瓷電容器的生產(chǎn)過程中，陶瓷薄膜的涂布相當(dāng)重要。陶瓷薄膜的涂布過程如下將聚四氟乙烯材料制成的特定形狀的噴槍墊片放置于噴槍刀口內(nèi)，將噴槍 安裝在涂布機(jī)上，使瓷漿從噴槍口噴出進(jìn)行涂布。在這一涂布過程中，噴槍墊片的形狀對涂 布出來的薄膜厚度的均勻性影響極大，參照附圖1和圖2，為現(xiàn)有技術(shù)中采用的兩種噴槍墊 片，對其進(jìn)行試驗(yàn)，試驗(yàn)步驟如下按照試驗(yàn)要求制作聚四弗墊片形狀，調(diào)整好噴槍刀口，刀 口尺寸為240mm，將噴槍安裝在涂布機(jī)上；將薄帶安裝在卷軸上，調(diào)整薄帶及噴槍刀口的位 置；把精煉好的瓷漿裝入壓力桶中，用溶劑清洗刀口，并密封刀口 ；準(zhǔn)備工作完成后，開始 進(jìn)行涂布觀察；清洗噴槍，安裝好噴槍儲存起來。經(jīng)試驗(yàn)可知，圖1中采用單一斜坡時(shí)其涂 布出來的產(chǎn)品膜厚最大值63. 2 μ m,最小值45. 5 μ m,膜厚偏差17. 7 μ m,膜厚均勻性較差； 圖2中采用直角+斜坡的墊片其涂布出來的產(chǎn)品膜厚最大值52. 8 μ m,最小值44. 8 μ m，膜 厚偏差8 μ m，膜厚均勻性較差。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的主要目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)中由于噴槍墊片設(shè)計(jì)不合理造成的涂 布出來的產(chǎn)品膜厚均勻性較差的問題，提供用于陶瓷薄膜生產(chǎn)的噴槍墊片，可大大使得涂 布出來的產(chǎn)品膜厚均勻性大為提高。本實(shí)用新型采用如下技術(shù)方案用于陶瓷薄膜生產(chǎn)的噴槍墊片，包括一墊片本體，該墊片本體具有相互連接的一 第一斜坡和一第二斜坡，該第一斜坡與豎直線的夾角為5-15°，該第二斜坡與豎直線的夾 角為 20-50°。優(yōu)選地，所述第一斜坡和第二斜坡的豎直高度比為2-7。優(yōu)選地，所述第一斜坡和第二斜坡的豎直高度比為3-6。優(yōu)選地，所述第一斜坡與豎直線的夾角為7-13°。優(yōu)選地，所述第二斜坡與豎直線的夾角為35-45°。優(yōu)選地，該噴槍墊片為聚四氟乙烯材料。本實(shí)用新型用于陶瓷薄膜生產(chǎn)的噴槍墊片在使用時(shí)，兩片噴槍墊片相對稱使用， 放置于噴槍刀口內(nèi)，形成瓷漿噴出通道，瓷漿從該瓷漿噴出通道中噴出形成陶瓷薄膜。由上述對本實(shí)用新型的描述可知，與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型用于陶瓷薄膜生 產(chǎn)的噴槍墊片設(shè)計(jì)成具有第一斜坡和第二斜坡的雙斜坡結(jié)構(gòu)，經(jīng)試驗(yàn)證實(shí)，可使得涂布出 來的產(chǎn)品膜厚均勻性大為提高。
圖1為現(xiàn)有技術(shù)中采用單一斜坡的墊片的使用結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為現(xiàn)有技術(shù)中采用直角+斜坡的墊片的使用結(jié)構(gòu)示意圖；圖3為本實(shí)用新型具體實(shí)施方式
的使用結(jié)構(gòu)示意圖；圖4為本實(shí)用新型具體實(shí)施方式
的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
以下通過具體實(shí)施方式
對本實(shí)用新型作進(jìn)一步的描述。參照圖3和圖4，本實(shí)用新型用于陶瓷薄膜生產(chǎn)的噴槍墊片，包括一墊片本體100，墊片本體100具有相互連接的一第一斜坡10和一第二斜坡20，第一斜坡10與豎直線的夾 角a為9°，第二斜坡20與豎直線的夾角b為39°，第一斜坡10和第二斜坡20的豎直高 度比L1/L2為4. 8。采用背景技術(shù)中的試驗(yàn)方法進(jìn)行試驗(yàn)，經(jīng)試驗(yàn)可知，本實(shí)用新型涂布出來的產(chǎn)品 膜厚最大值52. 8 μ m,最小值48 μ m,膜厚偏差4. 8 μ m，膜厚均勻性較佳。上述僅為本實(shí)用新型的一個(gè)具體實(shí)施方式
，但本實(shí)用新型的設(shè)計(jì)構(gòu)思并不局限于 此，凡利用此構(gòu)思對本實(shí)用新型進(jìn)行非實(shí)質(zhì)性的改動，均應(yīng)屬于侵犯本實(shí)用新型保護(hù)范圍 的行為。
權(quán)利要求用于陶瓷薄膜生產(chǎn)的噴槍墊片，包括一墊片本體，其特征在于該墊片本體具有相互連接的一第一斜坡和一第二斜坡，該第一斜坡與豎直線的夾角為5 15°，該第二斜坡與豎直線的夾角為20 50°。
2.如權(quán)利要求1所述用于陶瓷薄膜生產(chǎn)的噴槍墊片，其特征在于所述第一斜坡和第 二斜坡的豎直高度比為2-7。
3.如權(quán)利要求1或2所述用于陶瓷薄膜生產(chǎn)的噴槍墊片，其特征在于所述第一斜坡 和第二斜坡的豎直高度比為3-6。
4.如權(quán)利要求1或2所述用于陶瓷薄膜生產(chǎn)的噴槍墊片，其特征在于所述第一斜坡 與豎直線的夾角為7-13°。
5.如權(quán)利要求1或2所述用于陶瓷薄膜生產(chǎn)的噴槍墊片，其特征在于所述第二斜坡 與豎直線的夾角為35-45°。
6.如權(quán)利要求1或2所述用于陶瓷薄膜生產(chǎn)的噴槍墊片，其特征在于該噴槍墊片為 聚四氟乙烯材料。
專利摘要本實(shí)用新型涉及陶瓷元件的生產(chǎn)領(lǐng)域，特別是指用于陶瓷薄膜生產(chǎn)的噴槍墊片，包括一墊片本體，該墊片本體具有相互連接的一第一斜坡和一第二斜坡，該第一斜坡與豎直線的夾角為5-15°，該第二斜坡與豎直線的夾角為20-50°。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型用于陶瓷薄膜生產(chǎn)的噴槍墊片設(shè)計(jì)成具有第一斜坡和第二斜坡的雙斜坡結(jié)構(gòu)，經(jīng)試驗(yàn)證實(shí)，可使得涂布出來的產(chǎn)品膜厚均勻性大為提高。
文檔編號H01G13/00GK201732696SQ20102022660
公開日2011年2月2日 申請日期2010年6月9日 優(yōu)先權(quán)日2010年6月9日
發(fā)明者葉進(jìn)發(fā), 林小藝, 柯彬煌, 王凱星 申請人:福建火炬電子科技股份有限公司