專利名稱：真空滅弧室的陶瓷外殼與屏蔽筒固定結(jié)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種真空滅弧室的陶瓷外殼與屏蔽筒固定結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)：
目前陶瓷真空滅弧室(一節(jié)瓷殼)的陶瓷外殼與屏蔽筒固定方式基本上采用旋壓 屏蔽筒固定、中間封接環(huán)焊接固定和屏蔽筒靜端固定等固定方式。旋壓屏蔽筒固定方式是 采用屏蔽筒的端口翻邊固定中間固定環(huán)和瓷殼，這種方式屬于屏蔽筒一端固定，其缺點一 是旋壓端口時易產(chǎn)生毛刺；二是經(jīng)過真空焊接后要產(chǎn)生間隙(由于兩種不同材料的膨脹系 數(shù)差異出現(xiàn)松動)；三是由于是單側(cè)固定，屬于線固定不能很好的控制屏蔽筒和瓷殼的相 對位置；四是這種固定方式使滅弧室的內(nèi)部電場分布不均勻易造成絕緣強度不高的現(xiàn)象。 中間封接環(huán)焊接方式需要在瓷殼的內(nèi)臺階上金屬化再通過中間封接環(huán)和屏蔽筒進行焊接， 操作復(fù)雜，焊接的可靠性變差。屏蔽筒靜端固定方式可以消除前述兩項缺點，但是不能改變 電場分布不均勻的現(xiàn)象。
發(fā)明內(nèi)容本實用新型解決的技術(shù)問題設(shè)計一種真空滅弧室的陶瓷外殼與屏蔽筒固定結(jié) 構(gòu)，能有效控制屏蔽筒和瓷殼的相對位置，使滅弧室的電場分布更加均勻，提高滅弧室的絕 緣強度，且裝配和封接的操作更加簡便。本實用新型的技術(shù)解決方案一種真空滅弧室的陶瓷外殼與屏蔽筒固定結(jié)構(gòu)，包 括圓管形的瓷殼和位于瓷殼中的圓形金屬屏蔽筒，瓷殼的內(nèi)壁上制有環(huán)形凸臺，環(huán)形凸臺 內(nèi)壁的中下部制有內(nèi)螺紋；金屬屏蔽筒的外壁上帶有外螺紋，將金屬屏蔽筒通過外螺紋自 下而上旋裝在瓷殼的內(nèi)螺紋上，在屏蔽筒的外壁上固定環(huán)形擋圈，且環(huán)形擋圈緊貼在環(huán)形 凸臺的上端面，并位于外螺紋的上方。所述金屬屏蔽筒的外壁上制有外螺紋。或所述金屬屏蔽筒的外壁上固定有一個帶 外螺紋的金屬環(huán)。所述環(huán)形凸臺6位于瓷殼1內(nèi)壁的中間位置，所述外螺紋3位于金屬屏蔽筒2外 壁的中間位置。所述擋圈為焊接在金屬屏蔽筒外壁上的一圈釬焊焊料。本實用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比具有的優(yōu)點和效果1、本實用新型將屏蔽筒固定在瓷殼的中間位置，解決了滅弧室內(nèi)部電場分布不均 勻的問題，使得滅弧室的電場分布更加均勻。2、本實用新型屏蔽筒與瓷殼的固定接觸面較寬，能有效控制屏蔽筒和瓷殼的相對 位置，進而有效提高滅弧室的絕緣強度。3、本實用新型裝配和封接的操作很簡單，生產(chǎn)成本較低。且采用釬焊焊料封接屏 蔽筒，能有效解決不同材料膨脹系數(shù)不同所導(dǎo)致的間隙問題。
圖1為本實用新型第一種實施例的結(jié)構(gòu)示意圖，圖2為本實用新型第二種實施例的結(jié)構(gòu)示意圖，圖3為圖1的局部放大示意圖，圖4為圖2的局部放大示意圖。
具體實施方式
以下結(jié)合附圖1、3描述本實用新型的第一種實施例。一種真空滅弧室的陶瓷外殼與屏蔽筒固定結(jié)構(gòu)，包括圓管形的瓷殼1和位于瓷殼 1中的圓形金屬屏蔽筒2，瓷殼1內(nèi)壁的中間位置制有環(huán)形凸臺6，環(huán)形凸臺6內(nèi)壁的中下部 制有內(nèi)螺紋4 ；金屬屏蔽筒2外壁的中間位置制有外螺紋3，將金屬屏蔽筒2通過外螺紋3 自下而上旋裝在瓷殼1的內(nèi)螺紋4上，在屏蔽筒2的外壁上焊接一圈釬焊焊料形成環(huán)形擋 圈5，且環(huán)形擋圈5緊貼在環(huán)形凸臺6的上端面，并位于外螺紋3的上方。由于環(huán)形凸臺6 內(nèi)壁的上部無內(nèi)螺紋4，因此金屬屏蔽筒2只能自下而上單向旋入瓷殼1，且由于擋圈5的 止退作用，使金屬屏蔽筒2旋入瓷殼1后不能退出，從而將金屬屏蔽筒2封接固定在瓷殼1 中。
以下結(jié)合附圖2、4描述本實用新型的第二種實施例。基本結(jié)構(gòu)與第一種實施例相同，不同之處是金屬屏蔽筒2的外壁上焊接固定有一 個帶外螺紋3的金屬環(huán)7。
權(quán)利要求一種真空滅弧室的陶瓷外殼與屏蔽筒固定結(jié)構(gòu)，包括圓管形的瓷殼(1)和位于瓷殼(1)中的圓形金屬屏蔽筒(2)，其特征是瓷殼(1)的內(nèi)壁上制有環(huán)形凸臺(6)，環(huán)形凸臺(6)內(nèi)壁的中下部制有內(nèi)螺紋(4)；金屬屏蔽筒(2)的外壁上帶有外螺紋(3)，將金屬屏蔽筒(2)通過外螺紋(3)自下而上旋裝在瓷殼(1)的內(nèi)螺紋(4)上，在屏蔽筒(2)的外壁上固定環(huán)形擋圈(5)，且環(huán)形擋圈(5)緊貼在環(huán)形凸臺(6)的上端面，并位于外螺紋(3)的上方。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空滅弧室的陶瓷外殼與屏蔽筒固定結(jié)構(gòu)，其特征是所述 金屬屏蔽筒(2)的外壁上制有外螺紋(3)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空滅弧室的陶瓷外殼與屏蔽筒固定結(jié)構(gòu)，其特征是所述 金屬屏蔽筒(2)的外壁上固定有一個帶外螺紋(3)的金屬環(huán)(7)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2或3所述的真空滅弧室的陶瓷外殼與屏蔽筒固定結(jié)構(gòu)，其特征 是所述環(huán)形凸臺(6)位于瓷殼(1)內(nèi)壁的中間位置，所述外螺紋(3)位于金屬屏蔽筒(2) 外壁的中間位置。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的真空滅弧室的陶瓷外殼與屏蔽筒固定結(jié)構(gòu)，其特征是所述 擋圈(5)為焊接在金屬屏蔽筒(2)外壁上的一圈釬焊焊料。
專利摘要一種真空滅弧室的陶瓷外殼與屏蔽筒固定結(jié)構(gòu)，包括圓管形的瓷殼和位于瓷殼中的圓形金屬屏蔽筒，瓷殼的內(nèi)壁上制有環(huán)形凸臺，環(huán)形凸臺內(nèi)壁的中下部制有內(nèi)螺紋；金屬屏蔽筒的外壁上帶有外螺紋，將金屬屏蔽筒通過外螺紋自下而上旋裝在瓷殼的內(nèi)螺紋上，在屏蔽筒的外壁上固定環(huán)形擋圈，且環(huán)形擋圈緊貼在環(huán)形凸臺的上端面，并位于外螺紋的上方。本實用新型能有效控制屏蔽筒和瓷殼的相對位置，提高滅弧室的絕緣強度，使滅弧室的電場分布更加均勻，且裝配和封接的操作更加簡便。
文檔編號H01H33/664GK201667315SQ20102010123
公開日2010年12月8日 申請日期2010年1月22日 優(yōu)先權(quán)日2010年1月22日
發(fā)明者張玉珍, 楊耀華 申請人:陜西寶光真空電器股份有限公司