專利名稱：光學(xué)膜和包括光學(xué)膜的發(fā)光器件的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)施例涉及發(fā)光器件。
背景技術(shù)：
發(fā)光二極管(在下文中，被稱為L(zhǎng)ED)是用于將電能轉(zhuǎn)換為光的半導(dǎo)體元件。與諸 如熒光燈和白熾燈等等的現(xiàn)有的光源相比較，LED具有低功率消耗、半永久性壽命、快速響 應(yīng)速度、安全、以及環(huán)保的優(yōu)點(diǎn)。為此，許多的研究被專注于利用LED來(lái)置換現(xiàn)有光源。LED 現(xiàn)在被日益用作用于例如，被用于室內(nèi)和室外的各種燈、液晶顯示裝置、電光標(biāo)志、以及街 燈等等的照明裝置的光源。

發(fā)明內(nèi)容
一個(gè)實(shí)施例是一種光學(xué)膜。所述光學(xué)膜包括基膜，該基膜包括具有光透射率和耐 熱性的材料；基質(zhì)層(matrix layer)，該基質(zhì)層被布置在基膜上并且包括熒光材料；以及 保護(hù)層，該保護(hù)層被布置在基質(zhì)層上并且包括具有粘合特性的材料。另一實(shí)施例是一種光學(xué)膜。所述光學(xué)膜包括基膜，該基膜具有在大約10 μ m和大 約500 μ m之間的厚度；基質(zhì)層，該基質(zhì)層被布置在基膜上并且包括熒光材料，并且具有在 大約20 μ m和大約500 μ m之間的厚度；以及保護(hù)層，該保護(hù)層被布置在基質(zhì)層上，具有大約 80%的光透射率或/和在大約2，OOOcp和大約10，OOOcp的粘度。又一實(shí)施例是一種光學(xué)膜。所述光學(xué)膜包括發(fā)光芯片；以及光學(xué)膜，該光學(xué)膜包 括由從發(fā)光芯片發(fā)射的光激勵(lì)的至少一種熒光材料，其中經(jīng)過(guò)光學(xué)膜的光具有在85和100 之間的顯色性指數(shù)(CRI)。


圖1是根據(jù)第一實(shí)施例的光學(xué)膜的橫截面圖。圖2至圖5是示出用于描述用于制造根據(jù)第一實(shí)施例的光學(xué)膜的方法的視圖。圖6是根據(jù)第二實(shí)施例的光學(xué)膜的橫截面圖。圖7是示出用于制造根據(jù)第一實(shí)施例的光學(xué)膜的方法的流程圖。圖8是示出根據(jù)第三實(shí)施例的光學(xué)膜的橫截面圖。圖9至圖11是用于描述用于制造根據(jù)第三實(shí)施例的光學(xué)膜的方法的視圖。圖12是示出制造根據(jù)第三實(shí)施例的光學(xué)膜的方法的流程圖。圖13是示出根據(jù)實(shí)施例的發(fā)光器件的視圖。
圖14是示出基于發(fā)光器件的色溫的熒光材料的種類和數(shù)量的表。圖15至圖20是示出發(fā)光器件的顯色性指數(shù)(CRI)變化的圖。圖21是示出包括發(fā)光器件的照明單元(light unit)的視圖。
具體實(shí)施例方式在下文中，將會(huì)參考附圖詳細(xì)地描述實(shí)施例。將會(huì)理解的是，當(dāng)元件被稱為是在另一元件“上”或者“下”時(shí)，它能夠直接地位于 元件上/下，并且也可以出現(xiàn)一個(gè)或者多個(gè)中間元件。[第一實(shí)施例]圖1是根據(jù)第一實(shí)施例的光學(xué)膜1的橫截面圖。參考圖1，光學(xué)膜1包括基膜10、基膜10上的基質(zhì)層(matrix layer) 20、基質(zhì) 層20上的保護(hù)層30、保護(hù)層30上的保護(hù)膜40、保護(hù)膜40上的粘合性構(gòu)件(adhesive member) 50、以及粘合性構(gòu)件50上的離型膜(release film)60?；|(zhì)層20包括熒光材料。通過(guò)光源發(fā)射的第一光來(lái)激勵(lì)熒光材料，并且該熒光材 料發(fā)射第二光。S卩，光學(xué)膜1具有能夠改變從光源發(fā)射的光的波長(zhǎng)，并且向外發(fā)射光的功能。因此，光學(xué)膜1被應(yīng)用于各種照明裝置、背光單元、發(fā)光元件、顯示裝置等等的光 源，并且被用于具有各種波長(zhǎng)的光，或者用于提高光源的顯色性指數(shù)(CRI)。在下文中，將會(huì)詳細(xì)地描述光學(xué)膜1的成分。期待的是，光學(xué)膜10是由具有優(yōu)秀的光透射率和耐熱性的樹(shù)脂材料組成。例如， 基膜10是由從聚對(duì)苯二甲酸乙二酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、丙烯酸樹(shù)脂、聚碳 酸酯(PC)、聚苯乙烯(PS)、以及聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)等組成的族中選擇的材料組成。更加具體地，基于光學(xué)膜1的使用來(lái)確定基膜10的材料。例如，如果要求高的光 透射率，那么能夠使用具有大于90%的光透射率的PET。如果要求耐熱性和耐化學(xué)性，那么 基膜10能夠由聚碳酸酯組成。然后，不存在對(duì)基膜10的材料的限制。基膜10具有處于例如10 μ m禾口 500 μ m之間，并且優(yōu)選地，20 μ m禾口 30 μ m之間的 范圍的厚度。因?yàn)殡m然具有10 μ m和500 μ m之間的厚度的基膜10易于處理并且具有優(yōu)秀 的光透射率，但是具有20 μ m和30 μ m之間的厚度的基膜10更加容易進(jìn)行處理并且具有更 加優(yōu)秀的光透射率。然而，對(duì)基膜10的厚度不存在限制。 基質(zhì)層20被形成在基膜10上。期待的是，因?yàn)楣鈱W(xué)膜1可以被應(yīng)用于在高溫時(shí)發(fā)光的光源，并且甚至要求其在 高溫時(shí)保持優(yōu)秀的光透射率、粘度、以及硬度，所以基質(zhì)層20是由具有優(yōu)秀的光透射率、粘 度、固化溫度等等的材料組成。更加具體地，由于基質(zhì)層20具有大于80%的光透射率，在低于120°C的溫度時(shí)被 固化，并且具有大于3，OOOcp的粘度，所以基質(zhì)層20能夠是由更加粘合性基膜10的材料組 成。例如，基質(zhì)層20是由樹(shù)脂材料和硅材料，優(yōu)選地為有機(jī)硅樹(shù)脂中的至少一個(gè)組成?；|(zhì)樹(shù)脂膜20具有處于20 μ m和500 μ m之間，并且優(yōu)選地，30 μ m和50 μ m之間 的范圍內(nèi)的厚度。具有此厚度的基質(zhì)層20允許之后的熒光材料、擴(kuò)散劑、以及消沫劑容易 地與之混合，允許光穩(wěn)定透射并且被容易地施加在基膜10上。
基質(zhì)層20包括熒光材料。例如，熒光材料與被液化的基質(zhì)層20混合，并且通過(guò)使 用攪拌器對(duì)其進(jìn)行攪拌。照此，熒光材料被包括在基質(zhì)層20中。通過(guò)由光源發(fā)射的第一光來(lái)激勵(lì)熒光材料，并且熒光材料發(fā)射第二光。例如，硅酸 鹽基材料、硫化物基材料、YAG系列、以及TAG基材料中的至少一個(gè)被用作熒光材料。通過(guò)從光源發(fā)射的第一光來(lái)激勵(lì)熒光材料，并且熒光材料包括黃色、紅色、綠色、 以及藍(lán)色熒光材料中的至少一個(gè)，其中，所述黃色、紅色、綠色、以及藍(lán)色熒光材料中的每一 個(gè)分別發(fā)射黃、紅、綠以及藍(lán)光。對(duì)熒光材料的種類不存在限制。同時(shí)，代表性地，作為一種硫化物基材料的無(wú)機(jī)熒光材料的CaS:Eu被用于發(fā)射深 紅色光。硫化物基材料的SrS:Eu和MgS:Eu中的至少一個(gè)被用作橘色熒光材料。硫化物基 材料的SrGaj4 = Eu2+被用作綠色熒光材料?；|(zhì)層20包括根據(jù)向其應(yīng)用光學(xué)膜1的光源而具有各種種類和數(shù)量的熒光材料。例如，當(dāng)光學(xué)膜1被應(yīng)用于白色光源時(shí)，基質(zhì)層20包括綠色和紅色熒光材料。相 對(duì)于基質(zhì)層20的100重量百分比，基質(zhì)層20包括1至60重量百分比的綠色熒光材料和1 至60重量百分比的紅色熒光材料。另外，當(dāng)光學(xué)膜1被應(yīng)用于藍(lán)色光源時(shí)，基質(zhì)層20包括綠色、黃色以及紅色熒光材 料。相對(duì)于基質(zhì)層20的100重量百分比，基質(zhì)層20包括1至60重量百分比的綠色熒光材 料、1至60重量百分比的黃色熒光材料、以及1至60重量百分比的紅色熒光材料。照此，被包括在基質(zhì)層20中的熒光材料的種類和數(shù)量取決于光源的種類而進(jìn)行 變化。對(duì)熒光材料的種類和數(shù)量不存在限制。同時(shí)，基質(zhì)層20進(jìn)一步包括擴(kuò)散劑、防泡劑、添加劑、以及固化劑中的至少一個(gè)。擴(kuò)散劑散射并且擴(kuò)散入射在基質(zhì)層20上的光。例如，擴(kuò)散劑包括Si02、Ti02、Zn0、 BaS04、CaS04、MgC03、Al(0H)3、合成硅石、玻璃珠、以及鉆石中的至少一個(gè)。然而，對(duì)擴(kuò)散劑的 種類不存在限制。擴(kuò)散劑的微粒被確定為具有用于光的擴(kuò)散的適當(dāng)?shù)某叽?，例如，? μ m至7 μ m的直徑。消沫劑移除基質(zhì)層20中的泡沫，并且提高光學(xué)膜1的可靠性。特別地，消沫劑能 夠解決在通過(guò)絲網(wǎng)印刷方法將基質(zhì)層20涂在基膜10上的處理期間產(chǎn)生的泡沫的問(wèn)題。消沫劑包括辛醇、環(huán)己醇(Cyclohexanol)、乙二醇或者各種表面活性劑中的至少 一種。然而，對(duì)消沫劑的種類不存在限制。固化劑固化基質(zhì)層20。添加劑被用于均勻地分散基質(zhì)層20中的熒光材料。保護(hù)層30被形成在基質(zhì)層20上。保護(hù)層30是由具有優(yōu)秀的光透射率、耐熱性、以及粘度的樹(shù)脂材料或/和硅材料 組成。特別地，期待的是，保護(hù)層30是由更加粘合于被形成在保護(hù)層30上的保護(hù)膜40 的材料組成。例如，保護(hù)層30是由具有大于80%的光透射率、優(yōu)秀的耐熱性、以及粘度的有 機(jī)硅樹(shù)脂形成。保護(hù)層30具有處于例如20 μ m和50 μ m之間的范圍內(nèi)的厚度。然而，對(duì)保護(hù)層的
厚度沒(méi)有限制。如果保護(hù)膜40被直接地形成在基質(zhì)層20上，那么在基質(zhì)層20和保護(hù)膜40之間不存在充分的粘合強(qiáng)度。結(jié)果，兩個(gè)層會(huì)相互隔離，并且水滲透兩個(gè)層之間的空間。這可能 是弓I起光學(xué)膜的可靠性被降低的因素。因此，在實(shí)施例中，保護(hù)層30被形成在基質(zhì)層20和保護(hù)膜40之間，允許基質(zhì)層20 被堅(jiān)固地粘合到保護(hù)膜40，并且提高光學(xué)膜1的可靠性。更加具體地，首先，以B階狀態(tài)將保護(hù)層30應(yīng)用在基質(zhì)層20上。然后在保護(hù)膜40 被粘合在B階狀態(tài)中的保護(hù)層30上之后，保護(hù)層30被固化。因此，保護(hù)膜40被穩(wěn)固地粘 合在保護(hù)層30上并且光學(xué)膜1的可靠性被提高。此外，當(dāng)以與實(shí)施例相同的方式形成保護(hù)層30時(shí)，存在保護(hù)被包括在基質(zhì)層20中 的熒光材料的效應(yīng)。即，保護(hù)層30執(zhí)行減輕將由光源產(chǎn)生的熱量傳輸?shù)綗晒獠牧?，從而?許熒光材料較少地由于熱量而退化的功能。特別地，由于紅色熒光材料通常易于受熱影響， 所以能夠借助于保護(hù)層30來(lái)更加安全地保護(hù)熒光材料。保護(hù)膜40被形成在保護(hù)層30上。保護(hù)膜40保護(hù)基質(zhì)層20，提高光學(xué)膜1的可靠 性。保護(hù)膜40是由于基膜10相同的材料組成。例如，保護(hù)層40是由從聚對(duì)苯二甲酸 乙二酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、丙烯酸樹(shù)脂、聚碳酸酯(PC)、聚苯乙烯(PS)、以 及聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)等等組成的族中選擇的材料組成。另外，保護(hù)膜40具有處于例如10 μ m和500 μ m之間，并且優(yōu)選地，為25 μ m的范
圍內(nèi)的厚度。粘合性構(gòu)件50被形成在保護(hù)膜40上。粘合性構(gòu)件50包括主體層51、第一粘合性層52a、以及第二粘合性層52b。第二粘合性層52b被形成在主體層51和保護(hù)層40之間，并且允許兩個(gè)層被相互 粘合。另外，第一粘合性層5 被形成在主體層51上，并且允許光學(xué)膜1被粘合到外部 光源。粘合性構(gòu)件50能夠被單獨(dú)地提供并且被粘合到保護(hù)膜40。否則，通過(guò)以指定的順 序堆疊第二粘合性層52b、主體層51、以及第一粘合性層5 能夠形成粘合性構(gòu)件50。對(duì)形 成粘合性構(gòu)件50的方法不存在限制。當(dāng)沒(méi)有要求粘合性構(gòu)件50時(shí)，可以不形成粘合性構(gòu) 件50。對(duì)形成粘合性構(gòu)件50的方法不存在限制。離型膜60被形成在粘合性構(gòu)件50上。離型膜60防止第一粘合性層5 被空氣 等等干燥，并且失去粘合強(qiáng)度。在移除離型膜60之后，光學(xué)膜1被粘合到光源等等。在下文中，將會(huì)詳細(xì)地描述用于制造光學(xué)膜1的方法。然而，將會(huì)簡(jiǎn)要地描述或者 省略前述描述的重復(fù)描述。圖2至圖5示出用于制造光學(xué)膜1的方法。圖7是示出用于制造光學(xué)膜1的方法 的流程圖。參考圖2，基膜10被提供(圖7的S101)?；|(zhì)層20被形成在所提供的基膜10 上(圖7的S 102)。根據(jù)對(duì)其應(yīng)用光學(xué)膜1的光源的種類來(lái)確定基膜10的材料和尺寸?；|(zhì)層20被形成在基膜10上。例如，通過(guò)形成通過(guò)將熒光材料和有機(jī)硅樹(shù)脂進(jìn)行混合和攪拌而形成的被液化的
7基質(zhì)樹(shù)脂，并且通過(guò)將被液化的基質(zhì)樹(shù)脂涂在基膜10上，形成基質(zhì)層20。例如，通過(guò)絲網(wǎng)印刷方法、狹縫涂覆方法、以及滾動(dòng)涂覆方法等等，使用在基膜10 上施加并且固化被液化的基質(zhì)樹(shù)脂來(lái)形成基質(zhì)層20。通過(guò)使用微波和紅外線干燥器等等在 大約100°C的溫度下干燥和固化基質(zhì)層20，或者通過(guò)添加固化劑來(lái)固化基質(zhì)層20。參考圖3和圖4，保護(hù)層30被形成在基質(zhì)層20 (圖7的S103)上。保護(hù)膜40被形 成在保護(hù)層30上(圖7的S104)。以B階狀態(tài)將保護(hù)層30涂在基質(zhì)層20上。然后在保護(hù)膜40被粘合在B階狀態(tài) 中的保護(hù)層30上之后，保護(hù)層30被固化。因此，保護(hù)膜40被穩(wěn)固地粘合在保護(hù)層30上， 并且光學(xué)膜1的可靠性被提高。通過(guò)添加固化劑固化保護(hù)層30，或者通過(guò)使用微波和紅外線干燥器等等在大約 100°C的溫度下干燥保護(hù)層30。保護(hù)層30是由具有優(yōu)秀的光透射率、耐熱性、以及粘合性的樹(shù)脂材料或/和硅材 料組成。保護(hù)層30具有處于20 μ m和50 μ m之間的范圍內(nèi)的厚度。保護(hù)膜40是由與基膜10相同的材料組成。保護(hù)膜40具有處于例如10 μ m和 500 μ m和之間的范圍內(nèi)的厚度。參考圖5，通過(guò)在保護(hù)膜40上形成粘合性構(gòu)件50和離型膜60來(lái)提供根據(jù)實(shí)施例 的光學(xué)膜1(圖7的S105)。粘合性構(gòu)件50能夠被單獨(dú)地提供，并且被粘合到保護(hù)膜40。否則，通過(guò)以指定的 順序堆疊第二粘合性層52b、主體層51以及第一粘合性層5 能夠形成粘合性構(gòu)件50。對(duì) 形成粘合性構(gòu)件50的方法不存在限制。當(dāng)沒(méi)有要求粘合性構(gòu)件50時(shí)，可以不形成粘合性 構(gòu)件50。對(duì)形成粘合性構(gòu)件50的方法不存在限制。離型膜60防止第一粘合性層5 被空氣等等干燥，并且失去粘合強(qiáng)度。在移除離 型膜60之后，光學(xué)膜1被粘合到光源等等。同時(shí)，為了提高光學(xué)膜1的可靠性，可以在50°C至100°C的溫度下，執(zhí)行加熱光學(xué) 膜1的后處理工藝1至M個(gè)小時(shí)。[第二實(shí)施例]在下文中，將會(huì)詳細(xì)地描述根據(jù)第二實(shí)施例的光學(xué)膜2和用于制造光學(xué)膜2的方 法。在第二實(shí)施例的描述中，其重復(fù)的描述將會(huì)被省略。圖6是根據(jù)第二實(shí)施例的光學(xué)膜的橫截面圖。根據(jù)第二實(shí)施例的光學(xué)膜2與根據(jù) 第一實(shí)施例的光學(xué)膜1的不同之處在于，光學(xué)膜2不包括保護(hù)膜。參考圖6，光學(xué)膜2包括基膜10、基膜10上的基質(zhì)層20、基質(zhì)層20上的保護(hù)層30、 保護(hù)層30上的粘合性構(gòu)件50、以及粘合性構(gòu)件50上的離型膜60。粘合性構(gòu)件50被直接地形成在保護(hù)層30上。換言之，第一實(shí)施例中所示的保護(hù) 膜沒(méi)有被形成。由于單獨(dú)的保護(hù)膜沒(méi)有被形成，所以形成比第一實(shí)施例厚的保護(hù)層30。因此，能夠 獲得光學(xué)膜2的可靠性。例如，保護(hù)層30具有處于20 μ m和100 μ m之間的范圍內(nèi)的厚度。 對(duì)保護(hù)層的厚度不存在限制。[第三實(shí)施例]圖8是示出根據(jù)第三實(shí)施例的光學(xué)膜3的橫截面圖。
參考圖8，光學(xué)膜3包括基膜10、基膜10上的基質(zhì)層20、基質(zhì)層20上的粘性層 30a、粘性層30a上的離型膜60。由于在第一實(shí)施例的光學(xué)膜中已經(jīng)描述基膜、基質(zhì)層、以及離型膜，所以其描述將 會(huì)被省略。粘性層30a被形成在基質(zhì)層20上。粘性層30a具有優(yōu)秀的光透射率和耐熱性，并 且特別是由具有優(yōu)秀的粘度的樹(shù)脂材料或/和硅材料組成。例如，粘性層30a可以是由有機(jī)硅樹(shù)脂，更加具體地，包括甲苯的溶劑型有機(jī)硅樹(shù) 脂形成。由于包括甲苯的有機(jī)硅樹(shù)脂不僅具有優(yōu)秀的粘度，而且具有高的光透射率，所以不 需要用于將光學(xué)膜2粘合到光源等等的另一粘合性構(gòu)件。換言之，通過(guò)粘性層30a的形成，能夠簡(jiǎn)化光學(xué)膜1的制造工藝，以允許光學(xué)膜 2變得較薄，并且因此減少光學(xué)膜2的光透射率的損失量。包括甲苯的有機(jī)硅樹(shù)脂的光 透射率可以至少大于90%，并且有機(jī)硅樹(shù)脂的粘度可以處于2，OOOcp(百分之一泊)和 10，OOOcp 之間。同時(shí)，優(yōu)選的是，粘性層30a的厚度是，例如，從20 μ m至100 μ m。具有該厚度的粘性層30a用于吸收由光源產(chǎn)生的并且被傳輸?shù)奖话ㄔ诨|(zhì)層 20中的熒光材料的熱量，從而減少熒光材料的退化。特別地，由于紅色熒光材料易于受熱的 影響，所以通過(guò)粘性層30a能夠更加明確地保護(hù)紅色熒光材料。對(duì)于包括揮發(fā)物甲苯的粘性層30a，在以B階狀態(tài)將粘性層30a形成在基質(zhì)層20 上之后，通過(guò)微波、紅外線干燥器等等的使用來(lái)替代單獨(dú)的固化劑，通過(guò)加熱和干燥能夠固 化粘性層30a。此外，通過(guò)添加固化劑能夠固化粘性層30a。然而，對(duì)固化粘性層30a的方 法不存在限制。離型膜60被形成在粘性層30a上。離型膜60能夠防止粘性層30a被暴露在空氣 等等中，并且失去粘合強(qiáng)度。在移除離型膜60之后光學(xué)膜2能夠被粘合到光源等等。在下文中，將會(huì)詳細(xì)地描述用于制造光學(xué)膜3的方法。然而，前述描述的重復(fù)描述 將會(huì)被簡(jiǎn)要地描述或者被省略。圖9至圖11是用于描述制造根據(jù)第三實(shí)施例的光學(xué)膜3的方法的視圖。圖12是 示出制造光學(xué)膜3的方法的流程圖。參考圖9，基膜10被提供(圖12的S101)?；|(zhì)層20被形成在基膜10上(圖12 的 S102)。根據(jù)向其應(yīng)用光學(xué)膜3的光源的種類來(lái)選擇和提供基膜10的材料和尺寸。在基膜10上形成基質(zhì)層20。例如，如下來(lái)形成基質(zhì)層20，例如，通過(guò)形成通過(guò)將有機(jī)硅樹(shù)脂和熒光材料等等進(jìn) 行混合和攪拌來(lái)形成被液化的基質(zhì)樹(shù)脂，并且然后通過(guò)將被液化的基質(zhì)樹(shù)脂涂在基膜10 上來(lái)形成基質(zhì)層20。例如，通過(guò)絲網(wǎng)印刷方法、狹縫涂覆方法、以及滾動(dòng)涂覆方法等等的使用在基膜10 上施加和固化被液化的基質(zhì)樹(shù)脂，從而形成基質(zhì)層20。通過(guò)使用微波和紅外線干燥器等等， 在大約100°C的溫度下干燥和固化基質(zhì)層20，或者通過(guò)添加固化劑來(lái)固化基質(zhì)層20。參考圖10，粘性層30a可以被形成在基質(zhì)層20上(圖12的S103)。粘性層30a具有優(yōu)秀的光透射率和耐熱性，并且特別地是由具有優(yōu)秀的粘度的樹(shù)脂材料或/和硅材料組成。例如，粘性層30a可以是由有機(jī)硅樹(shù)脂，更加具體地，包括甲苯 的溶劑型有機(jī)硅樹(shù)脂形成。優(yōu)選的是，形成具有20 μ m至100 μ m的厚度的粘性層30a。具有此厚度的粘性層 30a用于吸收由光源產(chǎn)生的并且被傳輸?shù)奖话ㄔ诨|(zhì)層20中的熒光材料的熱量，從而減 少熒光材料的退化。對(duì)于包括揮發(fā)物甲苯的粘性層30a，在以B階狀態(tài)將粘性層30a形成在基質(zhì)層 20上之后，通過(guò)微波、紅外線干燥器等等的使用來(lái)替代單獨(dú)的固化劑，通過(guò)干燥和在大約 100°C的溫度下加熱能夠固化粘性層30a。然而，對(duì)固化粘性層30a的方法不存在限制。通過(guò)粘性層30a的形成，根據(jù)實(shí)施例的光學(xué)膜3具有小厚度，改善的光穿透率、以 及簡(jiǎn)化的制造工藝。參考圖11，通過(guò)在粘性層30a上形成離型膜60能夠提供根據(jù)實(shí)施例的光學(xué)膜 3(圖 12 的 S104)。離型膜60能夠防止粘性層30a被暴露在外部，并且失去粘度。通過(guò)移除離型膜 60，光學(xué)膜3被粘合到光源。同時(shí)，為了提高光學(xué)膜3的可靠性，可以在50°C到100°C的溫度下執(zhí)行加熱光學(xué)膜 3的后處理工藝1至M小時(shí)。圖13是示出根據(jù)實(shí)施例的發(fā)光器件的視圖。參考圖13，發(fā)光器件包括發(fā)光芯片100和在第一至第三實(shí)施例中已經(jīng)描述的光學(xué) 膜1、2以及3中的任何一個(gè)，并且包括通過(guò)從發(fā)光芯片100發(fā)射的光激勵(lì)的至少一種熒光 材料。例如，發(fā)光芯片100可以包括發(fā)光二極管(在下文中，被稱為L(zhǎng)ED)。然而，對(duì)發(fā)光 芯片100的種類不存在限制。例如，LED可以包括分別發(fā)射紅光、綠光、藍(lán)光或者白光的紅色、綠色、藍(lán)色或者白 色發(fā)光二極管。通常，LED是根據(jù)氮化物半導(dǎo)體層之間的能帶隙差產(chǎn)生光的一種半導(dǎo)體器件。由于 LED僅生成根據(jù)能帶隙差的具有預(yù)定的波長(zhǎng)波段的光，所以LED具有低顯色性指數(shù)(CRI)， 并且很難被應(yīng)用于產(chǎn)生高質(zhì)量的光。因此，在實(shí)施例中，通過(guò)將從發(fā)光芯片100發(fā)射的光傳輸?shù)焦鈱W(xué)膜1、2以及3，可以 獲得高的顯色性指數(shù)(CRI)，例如，在85和100之間的顯色性指數(shù)(CRI)。換言之，通過(guò)光學(xué)膜1、2以及3傳輸?shù)墓饧?lì)被包括在光學(xué)膜1中的至少一種熒 光材料，并且生成被激勵(lì)的光。被激勵(lì)的光可能引起從發(fā)光芯片100發(fā)射的光的顯色性指 數(shù)(CRI)被提高。同時(shí)，基于由發(fā)光芯片100生成的光的色溫，可以選擇被包括在光學(xué)膜1、2以及3 中的熒光材料的種類和數(shù)量。圖14是示出根據(jù)發(fā)光芯片100的色溫，被包括在光學(xué)膜1中的熒光材料的種類和 數(shù)量的表。圖15至圖20是示出當(dāng)光學(xué)膜1被應(yīng)用時(shí)，發(fā)光器件的顯色性指數(shù)(CRI)的變 化的圖。參考圖14、圖15以及圖16，當(dāng)發(fā)光芯片100的色溫是3，000K時(shí)，相對(duì)于基質(zhì)層20 的100重量百分比，光學(xué)膜1可以包括30至40重量百分比的具有650nm的主波長(zhǎng)的紅色(R)熒光材料和30至40重量百分比的具有515nm的主波長(zhǎng)的綠色(G)熒光材料。如圖15中所示，對(duì)于從發(fā)光芯片100發(fā)射的光，在515nm和650nm附近的光的強(qiáng) 度是相對(duì)低，并且因此光具有低顯色性指數(shù)(CRI)。因此，光學(xué)膜1包括具有650nm的主波 長(zhǎng)的紅色(R)熒光材料和具有515nm的主波長(zhǎng)的綠色(G)熒光材料，從而允許發(fā)光器件具 有如圖16中所示的大約92的顯色性指數(shù)(CRI)。參考圖14、圖17以及圖18，當(dāng)發(fā)光芯片100的色溫是4，000K時(shí)，相對(duì)于基質(zhì)層20 的100重量百分比，光學(xué)膜1可以包括15至25重量百分比的具有650nm的主波長(zhǎng)的紅色 (R)熒光材料，和15至25重量百分比的具有515nm的主波長(zhǎng)的綠色(G)熒光材料。如圖17中所示，對(duì)于從發(fā)光芯片100發(fā)射的光，在515nm和650nm附近的光的強(qiáng) 度是相對(duì)低的，并且因此光具有低顯色性指數(shù)(CRI)。因此，光學(xué)膜1包括具有650nm的主 波長(zhǎng)的紅色(R)熒光材料和具有515nm的主波長(zhǎng)的綠色(G)熒光材料，從而允許發(fā)光器件 具有如圖18中所示的大約90的顯色性指數(shù)(CRI)。參考圖14、圖19以及圖20，當(dāng)發(fā)光芯片100的色溫是5，000K時(shí)，相對(duì)于基質(zhì)層20 的100重量百分比，光學(xué)膜1可以包括5至15重量百分比的具有650nm的主波長(zhǎng)的紅色 (R)熒光材料，和8至18重量百分比的具有515nm的主波長(zhǎng)的綠色(G)熒光材料。如圖19中所示，對(duì)于從發(fā)光芯片100發(fā)射的光，在515nm和650nm附近的光的強(qiáng) 度是相對(duì)低的，并且因此光具有低顯色性指數(shù)(CRI)。因此，光學(xué)膜1包括具有650nm的主 波長(zhǎng)的紅色(R)熒光材料和具有515nm的主波長(zhǎng)的綠色(G)熒光材料，從而允許發(fā)光器件 具有如圖20中所示的大約92的顯色性指數(shù)(CRI)。然而，根據(jù)發(fā)光芯片100的種類和色溫能夠更改熒光材料的種類和數(shù)量。對(duì)熒光 材料的種類和數(shù)量不存在限制。圖21是示出包括發(fā)光器件的照明單元的視圖。參考圖21，照明單元包括發(fā)光芯片100 ；包括由從發(fā)光芯片100發(fā)射的光激勵(lì)的 至少一種熒光材料的光學(xué)膜1、2以及3 ；以及擴(kuò)散經(jīng)過(guò)光學(xué)膜1、2以及3的光學(xué)擴(kuò)散器。在這里，光學(xué)擴(kuò)散器包括允許經(jīng)過(guò)光學(xué)膜1、2以及3的光被用作表面光源的導(dǎo)光 板200、被形成在導(dǎo)光板200上并且擴(kuò)散光的擴(kuò)散片400、以及被形成在導(dǎo)光板200下面并 且將光反射到導(dǎo)光板200的發(fā)光表面的反射片300。如所示，光學(xué)膜1、2以及3被形成在發(fā)光芯片100和導(dǎo)光板200之間。在這里，光 學(xué)膜1、2以及3被粘合到發(fā)光芯片100的發(fā)光表面或者導(dǎo)光板200。向其粘合光學(xué)膜1、 2以及3的對(duì)象不限于此。同時(shí)，通過(guò)其，照明單元提供光的方法不限于邊緣的方法(edge method)。通過(guò)頂視的方法，照明單元也能夠提供光。由于照明單元包括發(fā)光芯片100和光學(xué)膜1、2以及3，所以，照明單元能夠提供具 有高的顯色性指數(shù)(CRI)和高質(zhì)量的光。此外，通過(guò)光學(xué)膜1、2以及3的使用，能夠最小化 被要求用于實(shí)現(xiàn)高的顯色性指數(shù)(CRI)的發(fā)光芯片100的數(shù)目。在實(shí)施例中描述的特征、結(jié)構(gòu)以及效應(yīng)等等被包括在本發(fā)明的至少一個(gè)實(shí)施例 中，并且沒(méi)有必要被限于一個(gè)實(shí)施例。此外，通過(guò)實(shí)施例屬于的本領(lǐng)域的技術(shù)人員能夠在其 它的實(shí)施例中組合或者修改在各個(gè)實(shí)施例中提供的特征、結(jié)構(gòu)和效應(yīng)等等。因此，與組合和 修改有關(guān)的內(nèi)容應(yīng)被解釋為被包括在本發(fā)明的范圍內(nèi)。前述的實(shí)施例和優(yōu)點(diǎn)僅是示例的，并且不應(yīng)被解釋為用于限制本發(fā)明。本教導(dǎo)能夠容易地應(yīng)用于其它類型的設(shè)備。前述實(shí)施例的描述是示例性的，并且沒(méi)有限制權(quán)利要求 的范圍。許多的替換、修改、以及變化將會(huì)對(duì)本領(lǐng)域的技術(shù)人員來(lái)說(shuō)是顯然的。在權(quán)利要求 中，手段附加功能條款旨在覆蓋如執(zhí)行所敘述的功能的在此描述的結(jié)構(gòu)，并且不僅覆蓋結(jié) 構(gòu)等效物而且覆蓋等效結(jié)構(gòu)。
權(quán)利要求
1.一種光學(xué)膜，包括基膜，所述基膜包括具有光透射率和耐熱性的材料；基質(zhì)層，所述基質(zhì)層被布置在所述基膜上，并且包括熒光材料；以及保護(hù)層，所述保護(hù)層被布置在所述基質(zhì)層上，并且包括具有粘合特性的材料。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜，其中，所述基質(zhì)層包括有機(jī)硅樹(shù)脂。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜，其中，所述基質(zhì)層的厚度是在大約20μ m和大約 500 μ m之間。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜，其中，所述熒光材料包括硅酸鹽基熒光材料、硫化物 基熒光材料、YAG基熒光材料、和/或TAG基熒光材料中的至少一個(gè)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜，其中，所述保護(hù)層包括樹(shù)脂材料和/或硅材料中的至 少一個(gè)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜，其中，所述保護(hù)層具有超過(guò)80%的光透射率，并且包 括具有粘合強(qiáng)度的有機(jī)硅樹(shù)脂。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜，其中，所述保護(hù)層是粘性層。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的光學(xué)膜，其中，所述粘性層的光透射率至少是90%，并且包括甲苯。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜，所述光學(xué)膜包括保護(hù)膜、粘合性構(gòu)件、和/或所述保 護(hù)層上的離型膜中的至少一層。
10.一種光學(xué)膜，包括基膜，所述基膜具有在大約 ο μ m和大約500 μ m之間的厚度；基質(zhì)層，所述基質(zhì)層被布置在所述基膜上并且包括熒光材料，并且具有在大約20 μ m 和大約500 μ m之間的厚度；以及保護(hù)層，所述保護(hù)層被布置在所述基質(zhì)層上，具有大約80 %的光透射率或/和在大約 2，OOOcp和大約10，OOOcp之間的粘度。
11.一種發(fā)光器件，包括發(fā)光芯片；和光學(xué)膜，所述光學(xué)膜包括由從所述發(fā)光芯片發(fā)射的光激勵(lì)的至少一種熒光材料，其中， 經(jīng)過(guò)所述光學(xué)膜的光具有在85和100之間的顯色性指數(shù)(CRI)。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的發(fā)光器件，其中所述光學(xué)膜包括基膜；所述基膜上的基質(zhì)層；以及保護(hù)層，所述保護(hù)層被布置在所述基質(zhì)層上，其中所述基質(zhì)層包括熒光材料。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的發(fā)光器件，其中，所述基質(zhì)層包括紅色熒光材料和綠色熒 光材料。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的發(fā)光器件，其中，所述紅色熒光材料具有650nm的主波長(zhǎng)， 并且所述綠色熒光材料具有515nm的主波長(zhǎng)。
15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的發(fā)光器件，其中，當(dāng)所述發(fā)光芯片的色溫是3，000K時(shí)，相對(duì) 于基質(zhì)層的100的重量百分比，30至40重量百分比的所述紅色熒光材料和30至40重量百 分比的所述綠色熒光材料被包括在所述光學(xué)膜中。
16.根據(jù)權(quán)利要求13所述的發(fā)光器件，其中，當(dāng)所述發(fā)光芯片的色溫是4，000K時(shí)，相對(duì) 于基質(zhì)層的100的重量百分比，15至25重量百分比的所述紅色熒光材料和15至25重量百 分比的所述綠色熒光材料被包括在所述光學(xué)膜中。
17.根據(jù)權(quán)利要求13所述的發(fā)光器件，其中，當(dāng)所述發(fā)光芯片的色溫是5，000K時(shí)，相對(duì) 于基質(zhì)層的100的重量百分比，5至15重量百分比的所述紅色熒光材料和8至18重量百分 比的所述綠色熒光材料被包括在所述光學(xué)膜中。
18.根據(jù)權(quán)利要求11所述的發(fā)光器件，其中，所述光學(xué)膜包括 基膜；基質(zhì)層，所述基質(zhì)層被形成在所述基膜上，并且包括熒光材料；以及 粘性層，所述基質(zhì)層上的所述粘性層具有在2，OOOcp和10，000之間的粘度。
19.根據(jù)權(quán)利要求11所述的發(fā)光器件，其中，所述粘性層包括包含甲苯的有機(jī)硅樹(shù)脂。
20.根據(jù)權(quán)利要求11所述的發(fā)光器件，其中，所述粘性層的光透射率至少是90%。
全文摘要
本發(fā)明涉及光學(xué)膜和使用光學(xué)膜的發(fā)光器件。公開(kāi)了一種光學(xué)膜。該光學(xué)膜包括基膜，該基膜包括具有光透射率和耐熱性的材料；基質(zhì)層，該基質(zhì)層被布置在基膜上并且包括熒光材料；以及，保護(hù)層，該保護(hù)層被布置在基質(zhì)層上，并且包括具有粘合特性的材料。
文檔編號(hào)H01L33/48GK102082224SQ20101051581
公開(kāi)日2011年6月1日 申請(qǐng)日期2010年10月19日 優(yōu)先權(quán)日2009年10月19日
發(fā)明者安永生, 樸鐘燦, 金永進(jìn), 韓安娜 申請(qǐng)人:Lg伊諾特有限公司