專利名稱:液體處理裝置和液體處理方法
技術領域:
本發(fā)明涉及使用液體來處理被處理體的液體處理裝置和液體處理方法。本發(fā)明還涉及用于執(zhí)行使用液體處理被處理體的液體處理方法的程序及記錄有該程序的記錄介質。
背景技術:
以往,實施有使用由不同的多種液體混合而成的混合液進行的被處理體的處理、 例如對半導體晶圓(以下簡稱為“晶圓”)或玻璃基板進行的清洗處理。在使用液體對晶 圓、玻璃基板等被處理體進行處理的液體處理裝置中,通常設置多個形成處理室的處理單 元,在各處理單元內依次處理被處理體(例如專利文獻1)。專利文獻1 日本特開平6-204201號公報但是,在專利文獻1所公開的液體處理裝置中,混合不同的液體而進行供給的液 體供給機構被相對于各處理單元逐個地分配。在這種液體處理裝置中,與各處理單元中的 液體消耗相應地從對應的液體供給機構向該處理單元供給液體。但是,在這樣的液體處理 裝置中,從多個液體供給機構供給的混合液的濃度參差不齊,在不同的處理單元處理后的 被處理體之間處理的程度參差不齊。而且,液體處理裝置的結構和液體處理裝置的控制復
雜化ο另外,在使用液體、特別是使用藥液處理被處理體的液體處理中,從降低處理成本 的方面和環(huán)保的方面考慮,實現(xiàn)節(jié)省液體也成為一個很大的課題。
發(fā)明內容
本發(fā)明的一個技術方案的液體處理裝置具有主配管;液體供給機構,其具有設置在上述主配管上的混合器、用于向上述混合器供給第1 液體的第1液體供給管以及用于向上述混合器供給第2液體的第2液體源,其從一側向上 述主配管供給利用上述混合器由上述第1液體和上述第2液體混合而成的混合液;主開閉閥,其設置在上述主配管上,能夠相對于上述液體供給機構從另一側封閉 上述主配管;多個分支管,其在上述液體供給機構和上述主開閉閥之間的區(qū)間內分別自上述主 配管分支;以及多個處理單元,其與各分支管分別相對應設置,其使用通過對應的分支管所 供給的混合液處理被處理體;在上述處理單元中的任一個中處理被處理體時,上述主開閉閥相對于上述液體供 給機構從另一側封閉上述主配管。本發(fā)明的一個技術方案的液體處理方法具有以下兩個工序從主配管的一側向伸 出有分別與各處理單元連通的多個分支管的上述主配管內填充由從第1液體供給管供給 的第1液體和從第2液體源供給的第2液體混合而成的混合液;以及上述主配管內的混合液通過各分支管向各處理單元供給,使用該混合液而在各處理單元內對被處理體實施處 理,在使用從上述主配管供給的混合液在各處理單元內進行處理的期間內,上述主配 管被主開閉閥從另一側封閉。本發(fā)明的一個實施方式的程序由用于控制液體處理裝置的控制裝置來執(zhí)行,其 中,通過由上述控制裝置執(zhí)行,使液體處理裝置實施上述本發(fā)明的一個技術方案的液體處
理方法。本發(fā)明的一個實施方式的記錄介質記錄有由用于控制液體處理裝置的控制裝置 執(zhí)行的程序,其中,通過由上述控制裝置執(zhí)行上述程序,來使液體處理裝置實施上述本發(fā)明 的一個技術方案的液體處理方法。采用本發(fā)明,從一個液體供給機構被供給到主配管的混合液被用于在多個處理單 元中處理被處理體。因此,能夠降低在不同的處理單元中被處理的被處理體之間的處理偏 差。而且,從節(jié)省藥液的方面出發(fā)也是理想的。
圖1是概略地表示本發(fā)明的一個實施方式的液體處理裝置的整體結構的圖。圖2是用于說明能夠使用圖1的液體處理裝置來實施的對被處理體的液體處理方 法的一個例子的流程圖。圖3是表示液體處理裝置的一個變形例的示意圖。
具體實施例方式以下,參照
本發(fā)明的一個實施方式。另外,在本說明書的附圖中,為了便 于圖示和理解,根據實物其自身適當?shù)貙Ρ壤吆涂v橫尺寸比等進行了變更夸大。
另外,在以下的實施方式中,示出了將本發(fā)明應用于半導體晶圓(被處理體的一 個例子)的清洗處理、特別是應用于使用藥液進行處理(藥液處理)的例子。但是,本發(fā)明 當然并不限于應用于晶圓的清洗處理。如圖1所示,液體處理裝置10具有主配管20、從一側與主配管20連接并用于向 主配管20供給混合液的液體供給機構40、設置在主配管20上的主開閉閥22以及從主配 管20分支而成的多個分支管25。與多個分支管25分別對應地設置處理單元50。在各個 分支管25上設置有用于打開或關閉分支管25的分支管用開閉閥27。另外,液體處理裝置 10還具有用于控制液體處理裝置10的各構成要件的動作等的控制裝置12。以下,按順序 說明各構成要件。首先,說明液體供給機構40。液體供給機構40通過主配管20和分支管25向多個 處理單元50分別供給用于處理晶圓(被處理體)W的混合液。在本實施方式中,液體供給 機構40構成為向主配管20內供給用于晶圓(被處理體)W的藥液處理的藥液。如圖1所示,在本實施方式中,液體供給機構40具有設置在主配管20的一側的混 合器43、用于供給第1液體的第1液體供給管41b以及用于供給與第1液體不同的第2液 體的第2液體源42a。第1液體供給管41b在混合器43和第1液體源41a之間延伸。在 第2液體源42a和混合器43之間設置有第2液體供給管42b,通過第2液體供給管42b從第2液體源42a向混合器43供給第2液體。混合器43是形成第1液體供給管41b和第2 液體供給管42b的合流部的構件。來自第1液體源41a的第1液體和來自第2液體源42a 的第2液體在混合器43中合流而混合,由此,能夠得到將第1液體和第2液體混合而成的 混合液。另外,混合器43可由具有積極地混合第1液體和第2液體的功能的構件構成。但 并不限于此,混合器43也可以專門利用由第1液體和第2液體的合流前的各液流引起第1 液體和第2液體混合的構件(例如,作為T字形的接頭的岐形管接頭)構成。 在本實施方式中,從第1液體源41a供給作為第1液體的水、特別是純水,從第2 液體源42a供給作為第2液體的高濃度藥液。液體供給機構40能夠將來自第1液體供給 管41b的水和來自第2液體源42a的高濃度藥液混合,將作為調節(jié)為目標濃度的藥液的混 合液供給到主配管20內。另外,作為從第2液體源42a供給的高濃度藥液(第2液體), 可以采用清洗處理晶圓W所能采用的各種藥液。例如,也可以從第2液體源42a供給稀氟 酸、氨水_過氧化氫_水(SCl)或鹽酸-過氧化氫-水(SC2)。另外,第1液體源41a也可 以是裝備在設有液體處理裝置10的場所的水源、例如工廠的供水區(qū)。但是,液體供給機構40利用能夠同時向與主配管20連接的全部多個處理單元50 供給的壓力向主配管20內供給調節(jié)了混合比的混合液。在圖示例中,在液體供給機構40 的第1液體供給管41b上設有定壓閥41c。通過這樣的結構,能夠從第1液體源41a利用能 夠同時向與主配管20連接的全部多個處理單元50供給第1液體壓力通過第1液體供給管 41b向主配管20供給第1液體。另一方面,在第2液體供給管42b上設有流量調整閥42c 和流量計42d。將與處理晶圓W的處理單元50的數(shù)量相對應的量的來自第2液體源42a的 第2液體通過混合器43供給到主配管20。作為一個例子,流量調整閥42c也可以根據與 主配管20連接的處理單元50中的、通過消耗主配管20內的液體來處理晶圓W的處理單元 50的數(shù)量來調節(jié)第2液體的液量,向主配管20供給被調整了量的第2液體。通過這樣的結 構,液體供給機構40能夠利用規(guī)定濃度的混合液將主配管20內維持為規(guī)定的壓力。另外, 以根據處理單元50的工作狀況而需要的量,從液體供給機構40向主配管20供給規(guī)定濃度 的混合液。但并不限于這樣的例子,例如,也可以基于設在第1液體供給管41b上的流量計 41d的測量結果、即根據經由第1液體供給管41b向主配管20供給的第1液體的流量來調 節(jié)經由第2液體供給管42b向主配管20供給的第2液體的流量。這種情況下,在同時能夠 向與主配管20連接的全部多個處理單元50的壓力下能夠以與向主配管20供給的第1液 體的供給量呈恒定的比例的供給量向主配管20供給第2液體。由此,液體供給機構40利 用規(guī)定濃度的混合液將主配管20內維持成規(guī)定的壓力。接著,說明主配管20和主開閉閥22。如上所述,主配管20的一側與液體供給機 構40相連接。而且,在主配管20的與連接有液體供給機構40的一側相反的一側通向廢棄 管線。主開閉閥22安裝于主配管20的與液體供給機構40相對的另一側。主開閉閥22由 能夠利用流體壓力驅動來驅動開閉動作的閥、例如利用氣壓驅動開閉動作的空氣操作閥構 成。而且,主開閉閥22的開閉動作由控制裝置12控制。結果,主開閉閥22根據來自控制 裝置12的控制信號,選擇性地維持相對于廢棄線關閉主配管20的狀態(tài)和使主配管20與廢 棄線連通的狀態(tài)中的任一個狀態(tài)。接著,說明分支管25、分支管用開閉閥27和處理單元50。如圖1所示,多個分支管25在液體供給機構40和主開閉閥22之間的區(qū)間從主配管20延伸出。如圖1所示,各分支管25的與連接于主配管20的一側相反的一側伸入到對應的處理單元50內。各分支 管25具有作為與連接有主配管20 —側相反的一側的端部的用于噴出液體的噴出開口 26a, 噴出開口 26a在處理單元50內由支承部件54支承。另外,在分支管25上設有用于調節(jié)流 量的調節(jié)器26b。利用該調節(jié)器26b能夠調節(jié)從噴出開口 26a噴出的液體的流量。分支管用開閉閥27和上述主開閉閥22同樣地由利用流體壓力驅動來驅動開閉動 作的閥、例如利用氣壓驅動開閉動作的空氣操作閥構成。而且,分支管用開閉閥27的開閉 動作由控制裝置12控制。該分支管用開閉閥27構成為設在分支管25上的多聯(lián)裝開閉閥 35其中之一,多聯(lián)裝開閉閥35也包括后述的沖洗液用開閉閥28和廢液用開閉閥29。處理單元50具有用于保持晶圓W的保持機構52和劃定用于處理晶圓W的處理室 的分隔壁(未圖示)。保持機構52以晶圓W的表面沿著大致水平方向的方式保持晶圓W。 保持機構52能夠使所保持的晶圓W以由圓板狀形狀構成的晶圓W的中心為軸線旋轉。分 支管25伸入到分隔壁的內部,分支管25的噴出開口 26a配置在處理室內。支承部件54能夠相對于晶圓W移動(例如能夠擺動)。通過支承部件54移動,分 支管25的噴出開口 26a能夠在從上方與被保持機構52保持的晶圓W的大致中心相對的處 理位置以及沿橫向與晶圓W的上方區(qū)域錯開的待機位置之間移動。噴出開口 26a位于處理 位置時,從噴出開口 26a噴出的液體被供給到晶圓W,晶圓W被供給來的液體處理。另一方 面,噴出開口 26a位于待機位置時,從噴出開口 26a噴出的液體不會被供給到晶圓W,例如被 廢棄。另外,如圖1所示,處理單元50還具有用于回收從噴出開口 26a朝向晶圓W噴出 的液體的杯狀件56。杯狀件56設置在處理室內,防止從噴出開口 26a噴出的液體在處理室 內飛散。但是,如上所述,本實施方式中的液體供給機構40通過主配管20和分支管25將 濃度調節(jié)后的藥液作為混合液而供給到處理單元50內的晶圓W。而且,在本實施方式中,液 體處理裝置10也可以能夠向晶圓W供給晶圓W的清洗處理所需的其他液體、例如沖洗液。如圖1所示,作為具體的結構,與上述分支管用開閉閥27并列地在分支管25上設 置沖洗液用開閉閥28。該沖洗液用開閉閥28連接有與沖洗液液體源30連通的沖洗液供給 管31。即,在圖示例中,液體處理裝置10的分支管25的下游側的一部分也起到沖洗液供給 管的作用。并且,與分支管用開閉閥27和沖洗液用開閉閥28并列地設置廢液用開閉閥29。 廢液用開閉閥29與廢液管32連通。例如通過打開或關閉廢液用開閉閥29,能夠廢棄分支 管25上的比分支管用開閉閥27靠下游側的部分內的液體。接著,說明控制裝置12。在控制裝置12上連接有輸入輸出裝置,該輸入輸出裝置 由工序管理者等為了管理液體處理裝置10而進行指令的輸入操作等的鍵盤、將液體處理 裝置10的運轉狀況可視化地顯示的顯示器等構成。另外,控制裝置12能夠訪問記錄有用 于實現(xiàn)由液體處理裝置10執(zhí)行的處理的程序等的記錄介質13。記錄介質13能夠由ROM和 RAM等存儲器、硬盤、CD-ROM、DVD-ROM和軟盤等磁盤狀記錄介質等已知的程序記錄介質構 成。接著,說明能夠使用由以上那樣的結構構成的液體處理裝置10執(zhí)行的液體處理方法的一個例子。在以下說明的液體處理方法中,如圖2所示,作為被處理體的晶圓W在一 個處理單元50內被實施清洗處理。而且,在圖2所示的一系列的液體處理方法中的藥液處 理工序S2中,使用從上述液體處理裝置10的液體供給機構40供給的混合液處理晶圓W。 以下,首先,參照圖2所示的流程圖概略地說明在一個處理單元50內對晶圓W實施的液體 處理方法,之后,對與進行藥液處理工序S2相關聯(lián)的液體處理裝置10的動作進行說明。另外,用于執(zhí)行以下說明的液體處理方法的各結構要素的動作被來自控制裝置12 的控制信號控制,該控制裝置12遵照預先存儲在程序記錄介質13中的程序來進行動作。 如圖2所示,首先,將能實施清洗處理的晶圓W放入液體處理裝置10的各處理單 元50內,在各處理單元50內由保持機構52保持晶圓W(圖2的工序Si)。接著,從液體供給機構40向處理單元50內供給來自第1液體供給管41b的水(第 1液體)和來自第2液體源42a的高濃度藥液(第2液體)的混合液。然后,朝向被放入到 各處理單元50中的晶圓W噴出該混合液,對晶圓W實施處理(工序S2)。在晶圓W的清洗處 理中,能夠從液體供給機構40供給作為混合液的例如稀氟酸、氨水-過氧化氫-水(SCl)、 鹽酸-過氧化氫-水(SC2)等濃度調節(jié)后的藥液。當使用混合液(藥液)進行的晶圓W的處理結束時,接著,對晶圓W實施將水、特 別是純水作為沖洗液的沖洗處理(工序S3)。具體來說,通過沖洗液供給管31和沖洗液用 開閉閥28向處理單元50內供給沖洗液。然后,在各處理單元50中,朝向殘留有混合液的 晶圓W噴出沖洗液,殘留在晶圓W上的混合液被沖洗液置換。當沖洗處理結束時,通過利用保持機構52使晶圓W高速旋轉,對晶圓W實施干燥 處理(工序S4)。如上所述,一個處理單元50內的晶圓W的清洗處理結束,從處理單元50 搬出處理結束后的晶圓W(工序S5)。接著,對與進行藥液處理相關聯(lián)的液體處理裝置10的動作進行說明。首先,在使用混合液(藥液)來處理晶圓W的藥液處理工序S2之前,將混合液填 充于主配管20。在將上述晶圓W搬入到各處理單元50內的工序Sl之前開始向主配管20 填充混合液。另外,也可以與將晶圓W搬入各處理單元50內的工序Sl同時實施向主配管 20填充混合液。作為具體的混合液的填充方法,首先,在主開閉閥22被關閉且多個分支管用開閉 閥27中的至少一個打開的狀態(tài)下,利用液體供給機構40將混合液從一側向主配管20供 給。填充到被主開閉閥22從另一側封閉的主配管20中的混合液向對應的分支管用開閉閥 27被打開的分支管25流入。此時,使各處理單元50的支承構件54擺動,預先將分支管25 的噴出開口配置在待機位置。由此,從主配管20流入分支管25的混合液從配置在待機位 置的噴出開口 26a噴出。在該狀態(tài)下,關閉對應的分支管用開閉閥27,由此,成為混合液被 填充到主配管20和分支管25的噴出開口 26a的狀態(tài)。另外,為了將混合液填充到全部的分支管25中,全部多個分支管用開閉閥27在向 主配管20供給混合液期間中的至少一個期間(一個時期)、即在該工序中至少打開一次。 此時,全部的分支管用開閉閥27也可以全部在同一時刻一起打開,或者,2個以上的數(shù)量的 分支管用開閉閥27在時間上錯開而依次打開,或者,分支管用開閉閥27—個一個地在時間 上錯開依次打開。并且,該工序中的“主開閉閥22被封閉且多個分支管用開閉閥27中的至 少一個打開的狀態(tài)”不僅是指在該工序的整個期間始終有一些分支管用開閉閥27持續(xù)打開,也指在切換打開的分支管用開閉閥27時產生時滯,即也包括全部分支管用開閉閥27被關閉的狀態(tài)。在該工序中,從液體供給機構40的第1液體源41a向混合器43供給水,并且從液 體供給機構40的第2液體源42a向混合器43供給高濃度藥液。由此,在設在主配管20上 的混合器43中,作為水和高濃度藥液的混合液的藥液被調和,該藥液從一側向主配管20供 給。此時,以規(guī)定壓力將水向主配管20供給,另一方面,以根據對應的分支管用開閉閥27 打開而噴出混合液的處理單元的個數(shù)的液體量,向主配管20供給高濃度藥液。因而,從液 體供給機構40向主配管20供給的藥液被維持規(guī)定的濃度。另外,高濃度藥液(第2液體) 向混合器43的供給量如上所述那樣根據從第1液體供給管41b向主配管20供給的水的量 來決定的情況下,也能夠將從液體供給機構40向主配管20供給的藥液的濃度保持為規(guī)定 的濃度。如上所述那樣向主配管20和全部分支管25填充混合液時,全部分支管用開閉閥 27和主開閉閥22關閉。并且,這樣該主配管20處于密閉的狀態(tài)時,停止供給第1液體。這 樣,作為準備工序的將混合液填充到主配管20中的工序和將混合液填充到分支管22中的 工序結束。但是,在此說明的向主配管20內和分支管25內填充混合液的方法的具體例子只 不過是例示,能夠進行各種變更。作為一個例子,也可以是,首先,在全部分支管用開閉閥27 關閉且主開閉閥22打開的狀態(tài)下,從液體供給機構40向主配管20開始供給混合液,將混 合液填充到主配管20內。之后,向主配管20和分支管25 二者內填充混合液,與上述方法 相同,即,填充混合液的工序也可以包括在全部分支管用開閉閥27關閉且主開閉閥22打 開的狀態(tài)下,從一側向主配管20供給混合液的工序;之后,在主開閉閥22關閉且多個分支 管用開閉閥27中的任一個打開的狀態(tài)下,從一側向主配管20供給混合液的工序;之后,主 開閉閥22關閉且全部分支管用開閉閥27的工序。在開始向主配管20供給混合液時,預先打開主開閉閥22,由此能夠防止混合液在 反向壓的作用下難以流入主配管20內。因此,能夠使混合液迅速且穩(wěn)定地遍布到主配管20 內。之后,如上所述,使填充到主配管20內的混合液流入到分支關5內,也能夠將混合液填 充到分支管25內。另外,在這種方法中,優(yōu)選高濃度藥液(第2液體)向混合器43的供給量根據從 第1液體供給管41b向主配管20供給的水(第1液體)的量來決定。這種情況下,在分支 管用開閉閥27全部被關閉且主開閉閥22打開的狀態(tài)下,能夠使開始向主配管20供給的藥 液(混合液)的濃度為所期望的濃度。在如上所述那樣向主配管20內和分支管25內填充混合液,而且如上所述那樣將 晶圓W搬入到處理單元50內時,在該處理單元50內依次處理晶圓W(上述工序S2)。在該工序S2中,被搬入到處理單元50內的晶圓W由保持機構52保持,并且,利用 保持機構52來旋轉。另外,支承部件54被配置成使得噴出開口 26a位于從上方與晶圓W 相對的處理位置。在該狀態(tài)下,分支管用開閉閥27打開,混合液從保持為充分壓力的主配 管20流入到分支管25中。然后,混合液通過分支管25的噴出開口 26a被噴出到晶圓W的 上表面(表側的面)?;旌弦涸谛D中的晶圓W的表面上擴散,能夠利用混合液處理晶圓W 的表面。
另外,在將晶圓W搬入處理單元50時(工序Si),晶圓W通常被按順序分別輸送到 多個處理單元50。因此,向各處理單元50放入晶圓W的時機互不相同,因此,在處理單元 50內使用混合液進行的晶圓W的處理通常不會在液體處理裝置10所包含的多個處理單元 50之間同時開始。從與準備好處理晶圓W的處理單元50相對應的分支管用開閉閥27開始 依次打開,依次開始在對應的各處理單元50中使用混合液進行的晶圓W的處理。
但是,當從主配管20通過分支管25向各處理單元50供給混合液時,主配管20內 的壓力降低。而且,如上所述,在使用從主配管20供給的混合液而在各處理單元50內進行 處理的期間內,液體供給機構40利用能夠同時向全部多個處理單元50供給的壓力將濃度 調節(jié)后的混合液送入到主配管20內。因此,當填充于主配管20內的混合液用于處理單元 50內的處理時,液體供給機構40將濃度調節(jié)后的混合液送入到主配管20,主配管20內的 混合液的液壓被維持在恒定的壓力。由此,能夠使用單一的液體供給機構40,以穩(wěn)定的流量 向多個處理單元50中供給用于處理晶圓W的混合液。如上所述那樣在處理單元50內向晶圓W供給適量的混合液時,與該處理單元50 相對應的分支管25被分支管用開閉閥27封閉。這樣,在各處理單元50中使用混合液進行 的晶圓W的處理(藥液處理)依次結束。另外,當對晶圓W進行的藥液處理(工序S2)結束時,如上所述那樣對該晶圓W實 施沖洗處理(工序S3)。在該沖洗處理中,被供給到晶圓W的沖洗液通過沖洗液用開閉閥 28流入到分支管25,并從分支管25的噴出開口 26a噴出。因此,在沖洗處理開始時,殘留 在分支管25的下游側部分內的混合液被水沖出。采用這樣的方法,通過從藥液處理(工序 S2)到沖洗處理(工序S3)連續(xù)地對晶圓W供給液體,不用使晶圓W的表面干燥就能夠改變 對該晶圓W的處理內容。由此,能夠避免產生水印等不良情況。另外,在沖洗處理工序這樣結束的時刻,沖洗液殘留在分支管25上的比沖洗液用 開閉閥28(分支管用開閉閥27)靠下游側的部分內。然后,在開始對下一個晶圓W進行處 理時,優(yōu)選在下一個晶圓W的搬入工序之前、或者在下一個晶圓W的搬入工序的同時,將殘 留在分支管25內的沖洗液通過廢液用開閉閥29和廢液管32從分支管25廢棄。通過進行 這樣的處理,在對下一個晶圓W進行的藥液處理工序S2過程中,能夠向晶圓W供給恒定混 合比的混合液。當從各處理單元50搬出處理完畢的晶圓W時,將下一個欲處理的晶圓W放入各處 理單元50。當對下一個欲處理的晶圓W實施與在同一個處理單元50內剛剛處理完的晶圓W 進行的處理相同的處理時,即不必改變從液體供給機構40供給的混合液的混合比(濃度) 的情況下,將主配管20內和分支管25內的混合液保持原樣地殘留即可。另一方面,當下一個欲處理的晶圓W和在同一個處理單元50內剛剛處理完的晶圓 W之間的處理內容不同、需要改變用于處理晶圓W的混合液的濃度時,在開始對下一個欲處 理的晶圓W進行藥液處理之前,向主配管20內填充接下來采用的混合液。在這種情況下,首 先,從液體供給機構40僅向主配管20內供給來自第1液體源41a的水(特別是純水),用 水置換殘留在主配管20內和分支管25內的藥液。作為具體例子,首先,打開主開閉閥22, 用水將主配管20內置換。接著,關閉主開閉閥22,并且打開分支管用開閉閥27,用水將分 支管25內置換。此時,從位于待機位置的分支管25的噴出開口 26a噴出水,用水沖洗分支 管25的全長。在這樣用水沖洗主配管20內和分支管25內之后,與上述方法同樣地從液體供給機構40將調節(jié)為目標濃度的混合液填充到主配管20,并且,將調節(jié)為目標濃度的混合液填充到分支管25。以上那樣的準備工序結束后,實施使用不同濃度的混合液進行的晶圓 W的處理。另外,此處說明的、用不同的混合液將主配管20內和分支管25內置換的方法的具 體例子只不過是例示,可以進行各種變更。例如,打開、關閉主開閉閥22和分支管用開閉閥 27的時機并不限定于上述例子。因此,也可以用水同時置換殘留在主配管20內的混合液 和殘留在分支管25內的混合液。而且,示出了下面的例子首先用水置換殘留在主配管20 內和分支管25內的混合液,之后,將接下來欲使用的混合液填充到主配管20內和分支管25 內,從而,用不同的混合液將主配管20內和分支管25內置換;但是并不限于此。也可以用 接下來欲使用的混合液直接置換殘留在主配管20內和分支管25內的混合液。采用如上所述的本實施方式,液體供給機構40利用能夠同時向多個處理單元50 供給的壓力將以調節(jié)好的混合比將第1液體和第2液體混合而成的混合液從一側送入到主 配管20內,該主配管20被主開閉閥22從另一側封閉。因此,能夠使用單個液體供給機構 40向多個處理單元50穩(wěn)定地供給混合液。另外,在處理單元50內處理晶圓W的期間內, 從液體供給機構40僅將按照各處理單元50的運轉狀況所必須的量的混合液供給到主配管 20。因此,不會大量地浪費混合液,能夠節(jié)約混合液。由此,能夠降低被處理體(晶圓W)的 處理成本。而且,在從液體供給機構40供給的混合液是藥液的情況下,能夠減少藥液處理 時的藥液的廢棄量,所以,從環(huán)保的方面出發(fā)也是理想的。并且,在同時進行處理的不同的 處理單元50中,能夠使用從主配管20供給的同一種(例如同一濃度)混合液處理不同的 晶圓W。由此,能夠在晶圓W之間使處理程度均勻化。另外,能夠對上述實施方式施加各種變更。以下,說明變形的一個例子。例如,在上述實施方式中,示出了主配管20形成為一條線狀的例子,但是并不限 于此。例如,如圖3所示,主配管20在與液體供給機構40離開的另一側也可以被分為多個 管路21a、21b。在圖3所示的例子中,在各管路21a、21b上設置能夠相對于液體供給機構 40從另一側封閉主配管20的主開閉閥22。而且,在液體供給機構40和各主開閉閥22之 間的區(qū)間中,從各管路21a、21b伸出多個分支管25。另外,在圖3中,為了便于圖示和理解, 省略了上述沖洗液用開閉閥28、沖洗液供給管31、廢液用開閉閥29和廢液管32。而且,圖 3所示的變形例中的其他結構能夠與上述實施方式同樣地構成,在此省略重復說明。并且,在上述實施方式中,示出了液體供給機構40的結構的具體例子,但是并不 限于此。利用與上述結構不同的結構,液體供給機構40也可以利用能夠同時向全部多個處 理單元50供給的壓力,向被主開閉閥22封閉的主配管20供給將第1液體和第2液體混合 而成的混合液。并且,在上述實施方式中,示出了液體供給機構40具有用于供給水的第1液體供 給管41b和用于供給高濃度藥液的第2液體源的例子,但是并不限于此。例如,液體供給機 構40也可以具有兩種以上的藥液源。另外,以上針對上述實施方式說明了幾個變形例,當然,也可以適當組合多個變形 例來進行應用。并且,如開頭所述,本發(fā)明也能夠應用于除晶圓的清洗處理以外的處理。
權利要求
一種液體處理裝置,其中,具有主配管;液體供給機構,其具有設置在上述主配管上的混合器、用于向上述混合器供給第1液體的第1液體供給管以及用于向上述混合器供給第2液體的第2液體源,其從一側向上述主配管供給在上述混合器內由上述第1液體和上述第2液體混合而成的混合液;主開閉閥,其設置在上述主配管上,能夠相對于上述液體供給機構從另一側封閉上述主配管;多個分支管,其是在上述液體供給機構和上述主開閉閥之間的區(qū)間內分別自上述主配管分支而成的;以及多個處理單元,分別與各分支管相對應設置,其使用通過對應的分支管所供給的混合液來處理被處理體;在上述處理單元中的任一個中處理被處理體時,上述主開閉閥相對于上述液體供給機構從另一側封閉上述主配管。
2.根據權利要求1所述的液體處理裝置,其中,上述液體供給機構利用能夠同時向全部上述多個處理單元供給的壓力,從上述主配管 的一側向被上述主開閉閥從另一側封閉的上述主配管供給將上述第1液體和上述第2液體 混合而成的上述混合液。
3.根據權利要求1或2所述的液體處理裝置,其中,上述第1液體供給管利用能夠同時向全部上述多個處理單元供給的壓力向上述主配 管供給上述第1液體;從上述第2液體源向上述主配管供給與處理被處理體的處理單元的數(shù)量相對應的量 的上述第2液體。
4.根據權利要求1 3中任一項所述的液體處理裝置,其中,在上述處理單元中開始處理被處理體之前,將上述混合液填充到上述主配管和上述分 支管中。
5.一種液體處理方法,其中,具有以下兩個工序從主配管的一側向伸出有分別與多個處理單元連通的多個分支管的上述主配管內填 充由從第1液體供給管供給的第1液體和從第2液體源供給的第2液體混合而成的混合 液;上述主配管內的混合液通過各個分支管向各個處理單元供給,使用該混合液而在各個 處理單元內實施被處理體的處理;該液體處理方法中,在使用從上述主配管供給的混合液而在各處理單元內進行處理的 期間內,上述主配管被主開閉閥從另一側封閉。
6.根據權利要求5所述的液體處理方法,其中,在使用從上述主配管供給的混合液而在各處理單元內進行處理的期間內,利用能夠同 時向全部上述多個處理單元供給的壓力,從上述主配管的一側向被上述主開閉閥從另一側 封閉的上述主配管供給由上述第1液體和上述第2液體混合而成的上述混合液。
7.根據權利要求5或6所述的液體處理方法,其中,在將上述混合液填充到上述主配管的工序中包括以下工序在上述主開閉閥被關閉,且一個一個地設在上述多個分支管的各分支管上的分支管用 開閉閥的至少任一個被打開的狀態(tài)下,從一側向上述主配管供給混合液的工序;以及,之后,形成為關閉上述主開閉閥且使上述多個分支管用開閉閥全部關閉的狀態(tài) 的工序,在上述主開閉閥被關閉且上述多個分支管用開閉閥的至少任一個被打開的狀態(tài)下向 上述主配管供給混合液這個工序中,各分支管用開閉閥在該工序中的至少一個期間被打 開。
8.根據權利要求5或6所述的液體處理方法,其中,在將上述混合液填充到上述主配管的工序中包括以下工序在一個一個地設在上述多個分支管的各分支管上的分支管用開閉閥全部被關閉且上 述主開閉閥被打開的狀態(tài)下,從一側向上述主配管供給混合液的工序;之后,在上述主開閉閥被關閉且上述多個分支管用開閉閥中的至少一個被打開的狀態(tài) 下,從一側向上述主配管供給混合液的工序;以及,之后,形成為上述主開閉閥關閉且上述多個分支管用開閉閥全部關閉的狀態(tài)的 工序;在上述主開閉閥被關閉且上述多個分支管用開閉閥的至少任一個被打開的狀態(tài)下向 上述主配管供給混合液這個工序中,各分支管用開閉閥在該工序中的至少一個期間被打 開。
9.根據權利要求5 8中任一項所述的液體處理方法,其中,在使用從上述主配管供給的混合液而在各處理單元內進行處理的期間內,上述第1液體供給管利用能夠同時向全部上述多個處理單元供給上述第1液體的壓力 向上述主配管供給上述第1液體;從上述第2液體源向上述主配管供給與處理著被處理體的處理單元的數(shù)量相對應的 量的上述第2液體。
10.根據權利要求5 9中任一項所述的液體處理方法,其中,在向上述主配管填充混合液時,也向上述分支管中填充混合液。
全文摘要
本發(fā)明提供液體處理裝置和液體處理方法。該液體處理裝置能夠減少液體的使用量,并且,能夠抑制被處理體之間的處理程度的偏差。液體處理裝置(10)具有主配管(20)、與主配管(20)連接的液體供給機構(40)、設置在主配管上的主開閉閥(22)、自主配管分支而成的多個分支管(25)、與各分支管連接的多個處理單元(50)。液體供給機構具有設置在主配管上的混合器(43)、用于供給第1液體的第1液體供給管(41b)、用于供給第2液體的第2液體源(42a),該液體供給機構從一側向主配管供給在混合器內由第1液體和第2液體混合而成的混合液。在處理單元內處理被處理體時,主開閉閥相對于液體供給機構從另一側封閉主配管。
文檔編號H01L21/00GK101989537SQ20101023904
公開日2011年3月23日 申請日期2010年7月23日 優(yōu)先權日2009年7月31日
發(fā)明者松本和久 申請人:東京毅力科創(chuàng)株式會社